主要特點(diǎn)
這款蒸鍍儀是我公司研發(fā)的一款微型高真空蒸鍍薄膜生長(zhǎng)設(shè)備,利用高真空下材料分子束縛分離后的動(dòng)力實(shí)現(xiàn)蒸發(fā),可通過(guò)蒸發(fā)臺(tái)和基體之間的距離調(diào)節(jié)實(shí)現(xiàn)對(duì)分子的篩選,從而制備出高質(zhì)量的薄膜。廣泛用于鈣鈦礦電池行業(yè),OLED行業(yè)。設(shè)備真空可以到5X10-4Pa,溫度800度,蒸發(fā)臺(tái)和基體之間距離可調(diào)等功能。
技術(shù)參數(shù)
溫度: 800度
控溫精度: +— 1度
設(shè)備真空度: 5X10-4Pa(配分子泵)
設(shè)備外形尺寸
基體上下位置可調(diào)行程:0-50mm
基體臺(tái)旋轉(zhuǎn):可選
設(shè)備進(jìn)出氣口:已預(yù)留
控溫方式:30段模糊型PID
通訊接口方式:232
報(bào)警功能:超溫、短偶