XPF400C型偏光熔點(diǎn)儀 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
一、儀器的主要用途和特點(diǎn) XPF400C型透射偏光熔點(diǎn)測定儀是地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、石油化工、化 學(xué)纖維、半導(dǎo)體工業(yè)以及藥品檢驗(yàn)等部門和相關(guān)高等院校的高分子...等專業(yè)zui常用的專業(yè)實(shí)驗(yàn)儀器。可供廣大用戶作單偏光觀察,正交偏光觀察,錐光觀察以及顯微攝影,來觀察物體在加熱狀態(tài)下的形變、色變及物體的三態(tài)轉(zhuǎn)化。 本系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于高分子材料、聚合物材料等化工領(lǐng)域,適用于研究物體的結(jié)晶相態(tài)分析、共混相態(tài)分布、粒子分散性及尺寸測量、結(jié)晶動(dòng)力學(xué)的過程記錄分析、液晶分析、織態(tài)結(jié)構(gòu)分析、熔解狀態(tài)記錄觀察分析等總多研究方向。 偏光顯微熔點(diǎn)測定儀XPF400C系統(tǒng)匯集了光電、模式識(shí)別、精密加工、圖象學(xué)、自動(dòng)控制、模量學(xué)等總多研究領(lǐng)域的當(dāng)前技術(shù),多年研究開發(fā)的結(jié)果,在國內(nèi)享有.本儀器的具有可擴(kuò)展性,可以接計(jì)算機(jī)和數(shù)碼相機(jī)。對(duì)圖片進(jìn)行保存、編輯和打印。
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