| 設(shè)備簡介:
旋轉(zhuǎn)擺振PECVD系統(tǒng)適用于粉體材料的表面薄膜沉積。系統(tǒng)由高功率射頻電源(500W,13.56MHz)、氣體質(zhì)量流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)擺振系統(tǒng)組成,采用NBD-101EP集中總線控制技術(shù)的諾巴迪操作軟件。利用等離子體特性來控制或影響氣相反應(yīng)和材料表面的化學(xué)反應(yīng)過程,并在適當(dāng)?shù)臏囟认鲁练e薄膜。PECVD淀積的薄膜具有優(yōu)良的電學(xué)性能、良好的襯底附著性以及的臺階覆蓋性,正由于這些優(yōu)點使其在超大規(guī)模集成電路、光電器件、MEMS等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。
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配置詳情
| 主要特點: 1、射頻電源輸出功率:500W(連續(xù)可調(diào)),反射功率 70W; 2、出色的電磁波屏蔽方案,高效、安全! 3、異形高純石英爐管,大容量反應(yīng)空間; 4、的旋轉(zhuǎn)(60檔精調(diào)設(shè)計)擺振結(jié)構(gòu),保證物料與等離子體的充分接觸; 5、三路高精度質(zhì)量流量計(可依要求定制 ),集成混氣系統(tǒng); 6、進出料設(shè)計,保證設(shè)備在結(jié)構(gòu)復(fù)雜狀態(tài)下的便捷進出料; 7、射頻系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)擺振系統(tǒng)全面集成于一體,7英寸全觸屏操作,操作便捷、直觀; 8、可保存六組工藝參數(shù),隨時調(diào)??; 9、實驗數(shù)據(jù)可自動截圖,并支持USB接口導(dǎo)出。 | |||
電氣規(guī)格 | AC220V 1.5千瓦 | |||
設(shè)備尺寸 | W1300mm×H1250mm×D760mm; | |||
反應(yīng)腔室 | Φ120*L300mm(可定制,管內(nèi)焊接三組攪拌擋板),非射頻區(qū)管徑:φ60mm; | |||
翻轉(zhuǎn)速度 | 0.1~6轉(zhuǎn)/min(無極調(diào)速); | |||
翻轉(zhuǎn)傾角 |
-3°~+3° 傾倒角度30° | |||
反應(yīng)腔壓力 | 5~80pa | |||
法蘭結(jié)構(gòu) | 航空鋁快開模式; | |||
操作系統(tǒng) |
NBD-101EP集中總線控制集成系統(tǒng),7"真彩觸摸屏操控,智能模糊PID 控制;智能式人機對話模式; | |||
電動推桿功率 | 50W | |||
RF 電源 | 輸出功率10~500W 任意連續(xù)可調(diào),射頻頻率: 13.56MHz ±0.005% ,全自動匹配; | |||
真空測試 | 數(shù)字真空計獲取裝置; | |||
真空獲取 | NBD-4C機械真空泵(220V/50Hz),功率:0.4KW,抽速:4m3/h; | |||
供氣系統(tǒng) | 質(zhì)量流量控制器(量程及標定可定制)精度:±1%F.S;響應(yīng)時間:1-4秒; | |||
設(shè)備細節(jié) |
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部分界面 |
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凈重 | 約320KG | |||
設(shè)備使用注意事項 |
1. 射頻匹配器一般處于自動匹配狀態(tài),一般功率需達到50W以上才能匹配; 2. 若采用手動匹配,將功率設(shè)到60W左右,手動調(diào)諧匹配合適時,再增加功率 3. 工作時,需改變腔體的氣流量,先要要把功率設(shè)置為零,不能直接按“OFF”按鍵關(guān)閉射頻輸出。 | |||
服務(wù)支持 | 一年有限保修,提供終身支持; |
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