氫站過程氣體分析系統(tǒng)SXM2000型

   SXM-2000系統(tǒng)制氫供氫站過程分析系統(tǒng)，是針對制氫項(xiàng)目專門開發(fā)的在線分析整體成套方案。重要應(yīng)用場合有水電解制氫裝置、變壓吸附提純氫系統(tǒng)、甲醇蒸汽轉(zhuǎn)化制氫裝置、電廠發(fā)電機(jī)組等。在線檢測組份H2中O2、O2中H2、H2、微量水。系統(tǒng)包括取樣單元、預(yù)處理單元、分析單元、標(biāo)定單元等組成。

系統(tǒng)特點(diǎn)：

1.   采用防塵或防爆機(jī)柜

2.   軟件智能化操作、RS232/485通訊接口

3.   帶有現(xiàn)場防爆顯示

4.   系統(tǒng)帶有校驗(yàn)回路，可以現(xiàn)場就地校驗(yàn)儀表

5.   采用進(jìn)口陶瓷阻抗式露點(diǎn)分析儀

6.   針對制氫設(shè)計(jì)的過濾器，精度0.3μ

制氫供氫參數(shù)：                          

微水分析儀:                             

    量程：-100 to +20oC                  

    精度：+20~-60°C范圍內(nèi)為±1 °C             

          -60~-100°C范圍內(nèi)為±2 °C                

氫純度分析儀：                            

   量程：90-99%(H2)/0-2%(氧中氫)    

   精度：<1%FS                          

氧含量分析儀：                           

量程：0-1%/0-10ppm   

系統(tǒng)參數(shù)：

1.   系統(tǒng)部件：316L不銹鋼

2.   模擬輸出：4-20ma輸出

3.   響應(yīng)時(shí)間：T90≤ 35秒

4.   防護(hù)等級：IP65

5.   防爆標(biāo)準(zhǔn)：符合EEx ia IIC T4

6.   工作溫度：-20oC to 60oC

氫冷機(jī)組參數(shù)：

微水分析儀

量程：-100 to +20oC

精度：+20~-60°C范圍內(nèi)為±1 °C

-60~-100°C范圍內(nèi)為±2 °C

氫純度分析儀：

量程：空氣中的H2：80-99%

空氣中的CO2：0-99%

       CO2中的H2：0-99%

精度：滿量程的+2%