全套電子自動化流量控制（AEFC，Autated Electrnic Flw Cntrl）
網(wǎng)絡(luò)化數(shù)據(jù)通訊及遠(yuǎn)程控制系統(tǒng) （LAN cunicatin）
*的檢測器設(shè)計 （Advanced detectr design）
全部漢化的鍵盤和軟件操作界面 （Chinese versin f keypad and sftware）
*的電源分配管理分流器 (Patented pwer supply anageent)
苛刻的環(huán)境測試（高溫高濕） （Strict envirnent test fr QA）
精密的程序升溫爐膛溫度控制 (Precise prgraable ven teperature cntrl)
獨立加熱小柱箱 （Separated cluns ven)
的分析結(jié)果重復(fù)精度 (High reprducibility f analysis results)
強大的自檢及報錯功能 (Strng functin f self-diagnstic)
可實現(xiàn)序列自動運行 (Sequence Run Available)
各種閥配置滿足氣體分析 (Cprehensive Valve Cnfiguratin fr Cplicated Analysis)
微氣路切割技術(shù)實現(xiàn)多位色譜及反吹功能 (Sandwich plate device fr tw diensin GC and/r back-fluch etc.)

柱溫箱

爐膛尺寸:28×30×18 c
操作溫度范圍：高于室溫5℃～400℃
溫度設(shè)定精度：1℃
程序升溫zui高階數(shù):7階
zui高程序升溫速度: 120℃/in
zui長一次方法運行時間：999.99in
可運行柱流失補償（雙通道）

進樣口

雙通道進樣口
進樣口類型可選：
填充柱進樣口（帶隔墊吹掃，可接大口徑毛細(xì)管柱）
毛細(xì)管柱分流/不分流進樣口）
分流/不分流毛細(xì)管柱進樣口
高精度電子壓力/流量控制
zui高使用溫度400°C
柱頭壓力設(shè)定范圍：0-100psi
柱頭壓力控制設(shè)定精度：0.01psi
總流量設(shè)定范圍：
0 —1000 L /in（氦氣）
0 —200L/in（氮氣）
流量設(shè)定精度：0.1 L /in
zui大分流比：1：1000

氫火焰離子化檢測器（FID）

高精度電子流量/壓力控制
適配與填充柱和毛細(xì)管柱
zui高使用溫度450°C
zui小檢出限：<2.5皮克碳/秒
動態(tài)線性范圍：107（+10%）
數(shù)據(jù)采集頻率：zui高100HZ

熱導(dǎo)池檢測器（TCD）

高精度電子流量/壓力控制、
適配于填充柱和毛細(xì)管柱、
zui高使用溫度300℃、
數(shù)據(jù)采集頻率：zui高100hz、
動態(tài)線性范圍:105(±10%)、
zui小檢出限：<400皮克 丙烷/毫升（氦氣）

電子捕獲檢測器（ECD）

高精度電子流量/壓力控制
適配與填充柱和毛細(xì)管柱
zui高使用溫度400 °C
隱性陽極（帶吹掃）
檢測器補償氣類型：5%甲烷/氬氣或者氮氣
數(shù)據(jù)采集頻率：zui高100HZ
動態(tài)線性范圍：>5X105
zui小檢出限：<0.01Ci 63Ni

氮磷檢測器（NPD）

高精度電子流量/壓力控制
適配與填充柱和毛細(xì)管柱
zui高使用溫度450 °C
zui小檢出限：<3皮克 碳/秒
動態(tài)線性范圍：105N，105P
數(shù)據(jù)采集頻率：zui高100HZ
zui小檢測限：<0.2pg N/sec,<0.2pgP/sec
選擇性：25,000:1 gN/Gc,75,000:1 gP/Gc

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