詳情介紹
產(chǎn)品特點(diǎn)
1、升降式大功率真空微波熔爐,用于材料熔融,例如多晶硅的熔融制取
2、支持1500?C以內(nèi)材料熔融工藝
3、支持真空氣氛條件工藝
4、支持升降式裝填料工藝
5、支持恒速度多溫區(qū)變換結(jié)晶工藝
6、智能化控制系統(tǒng),溫度和功率閉環(huán)可控
7、實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)曲線顯示且可以導(dǎo)出數(shù)據(jù)
技術(shù)參數(shù)
1.組成:微波真空加熱箱體、微波源系統(tǒng)、物料輸送承托系統(tǒng)、保溫系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、防泄漏系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、電控柜及機(jī)架
2.制作條件:輸入電源:3相,380V/50Hz,配電功率:>40KVA
3.加熱系統(tǒng):微波功率:24KW ,2450±50MHz
4.微波加熱箱體尺寸:約400L空間,尺寸為900×900×500 mm(長(zhǎng)×寬×高)
5.坩堝內(nèi)凈尺寸:約500×500 ×300 mm(長(zhǎng)×寬×高)
6.坩堝容量:50-60KG
7.設(shè)備進(jìn)出料口:
配合升降系統(tǒng)在設(shè)備底部開口,托盤尺寸約 640×640mm
8.工作溫度:700~1500?C,極限溫度1600?C
9.微波箱體材質(zhì):微波腔體采用不銹鋼一體焊接成型,真空氣氛設(shè)計(jì)
10.微波饋入部位:微波從箱體的四周饋入
11.工作時(shí)間:可以承受長(zhǎng)期高效率工作
12.微波泄漏量:<5mw/cm2 (國(guó)標(biāo))
微波源系統(tǒng)
微波源:水冷系統(tǒng)
波導(dǎo):采用高真空波導(dǎo)系統(tǒng)
物料輸送承托系統(tǒng)
設(shè)置升降裝置,采用伺服電機(jī)和減速機(jī),調(diào)節(jié)控制位移量,完成輸料、定向結(jié)晶功能
輸送過程中,保證物料定位準(zhǔn)確,輸送平穩(wěn)
坩堝到達(dá)加熱區(qū)后,與爐底結(jié)合嚴(yán)密,保證在加熱過程中爐腔的氣密性和保溫效果
保溫系統(tǒng)
低介電特性陶瓷保溫材料
水冷卻系統(tǒng)
微波源采用水冷卻方式快速降溫,確保高溫條件下有效的工作
坩堝下方的水冷托盤水流速度可控
氣氛系統(tǒng)
預(yù)留兩個(gè)進(jìn)氣孔,采用電磁閥和管路連接,以便真空室內(nèi)充入保護(hù)性氣體和分壓氣體,
設(shè)置兩極真空泵組實(shí)現(xiàn)高真空環(huán)境
控制系統(tǒng)
控制方式:采用PLC自動(dòng)化控制,彩色觸摸屏人機(jī)界面,數(shù)字顯示微波功率及箱體內(nèi)溫度
測(cè)溫:采用紅外和熱電偶雙測(cè)溫方式,動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)物料溫度
控溫:編程控制,可手動(dòng)設(shè)置控溫時(shí)間及溫度要求,恒溫精度:≤±10℃
功率調(diào)節(jié): 0~24KW線性可調(diào)