小型蒸鍍儀熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)
KT-Z1650CVD是一款小型臺式蒸發(fā)功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)熱功率及蒸發(fā)功率，可對大部分金屬進(jìn)行均勻蒸發(fā)沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜。
小型蒸鍍儀
小型蒸鍍儀熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)
KT-Z1650CVD是一款小型臺式蒸發(fā)功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)熱功率及蒸發(fā)功率，可對大部分金屬進(jìn)行均勻蒸發(fā)沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜。
小型蒸鍍儀是一種利用高溫蒸發(fā)技術(shù)制備薄膜的設(shè)備，也被稱為真空蒸發(fā)沉積設(shè)備。該設(shè)備主要由蒸發(fā)源、真空室、控制系統(tǒng)和抽氣系統(tǒng)等主要組件組成。
小型蒸鍍儀熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)
蒸發(fā)源是將待蒸發(fā)材料固體化為塊狀，通過高溫蒸發(fā)制備薄膜的重要組件。通常使用的蒸發(fā)源材料包括金屬材料、氧化物、硅等材料，其形狀可以是塊狀、線狀、板狀等。
真空室是制備薄膜時的反應(yīng)室，通過泵抽氣將室內(nèi)氧氣、水蒸氣等揮發(fā)性雜質(zhì)排出，以便保持真空環(huán)境?？刂葡到y(tǒng)用于控制溫度、氣壓、蒸發(fā)速率和薄膜厚度等參數(shù)，確保薄膜制備的精確性。抽氣系統(tǒng)則用于控制和維持真空環(huán)境。
小型蒸鍍儀通常用于實驗室或小批量生產(chǎn)，可以制備純凈、均勻和厚度可控的薄膜。它廣泛應(yīng)用于電子器件、光學(xué)器件、納米材料制備等領(lǐng)域。同時，因為蒸鍍過程簡單、成本低廉，因此小型蒸鍍儀也被稱為經(jīng)濟(jì)性的薄膜制備設(shè)備之一。
