產(chǎn)品簡(jiǎn)介
- 全新立式全譜光譜采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術(shù)，與國(guó)際光譜儀技術(shù)同步，采用真空光學(xué)室設(shè)計(jì)及全數(shù)字激發(fā)光源、的ＣＣＤ檢測(cè)器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有的性能、極低的檢出線、長(zhǎng)期的穩(wěn)定性和重復(fù)性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號(hào)識(shí)別、材料研究和開(kāi)發(fā)的主要設(shè)備之一。
產(chǎn)品特點(diǎn)
- 優(yōu)化設(shè)計(jì)的真空光學(xué)系統(tǒng)：整體光學(xué)室裝置、帕邢-龍格結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，所有譜線集成在羅欄園上；直射式光學(xué)技術(shù)及透鏡ＭｇＦ２材料，保證Ｃ、Ｓ、Ｐ、Ｎ紫外波長(zhǎng)的能量。
- 全數(shù)字激發(fā)光源：全數(shù)字、高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS），不同樣品設(shè)置不同的激發(fā)參數(shù)，提高樣品的測(cè)量精度和相似性，提高樣品激發(fā)速度，提高火花穩(wěn)定性，使樣品有更好的重現(xiàn)性。
- 功能性設(shè)計(jì)的激發(fā)裝置：集成氣路、噴射電極技術(shù)，開(kāi)放式銅火花臺(tái)，不僅保證樣品測(cè)量精度還能購(gòu)測(cè)量各種復(fù)雜形狀的樣品（含線材），單板式透鏡裝置設(shè)計(jì)，一般人員都能方便對(duì)激發(fā)臺(tái)進(jìn)行進(jìn)行維護(hù)和透鏡的清洗。
- 高集成、高速度讀出系統(tǒng)：高性能CCD固態(tài)檢測(cè)技術(shù)，波段內(nèi)譜線全譜接收； FPGA及高速數(shù)據(jù)通訊技術(shù)，數(shù)據(jù)讀入功能強(qiáng)大，檢測(cè)數(shù)據(jù)整體讀入時(shí)間短。
- 直觀、易操作的分析軟件：基于WINDOWS系統(tǒng)的多國(guó)語(yǔ)言的ＣＣＤ全譜分析軟件的管理和控制整個(gè)測(cè)量過(guò)程，為用戶提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理能力和測(cè)試報(bào)告輸出能力；儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析及*的解決方案；儀器實(shí)現(xiàn)全譜分析，智能扣干擾，扣暗電流、背景和噪聲的算法，極大的提高了儀器的分析能力。
技術(shù)參數(shù)
- 光學(xué)系統(tǒng)：帕型）-龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)；
- 波長(zhǎng)范圍：170nm~580nm
- 焦距：400mm
- 探測(cè)器：高性能CCD陣列
- 光源類型：數(shù)字光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）
- 放電頻率：100-1000Hz
- 放電電流：400A
- 工作電源：220VAC 50/60Hz
- 儀器尺寸：720*860*500
- 儀器重量：約100kg（不含真空系統(tǒng)）
- 檢測(cè)時(shí)間：依據(jù)樣品類型而定，一般25S左右
- 電極：鎢材噴射電
- 氬氣要求：99.999％
- 氬氣進(jìn)口壓力：0.5MPa
- 氬氣流量：激發(fā)流量約3.5L/min
- 工作溫度：10℃～35℃
- 工作濕度：20％～85％
- 分析間隙：真空軟件自動(dòng)控制、監(jiān)測(cè)
