詳細信息
產品介紹：
光致熒光光譜測量是半導體材料特性表征的一個被普遍認可的重要測量手段。
波威提供的MiniPL為模塊化設計、計算機自動控制的高靈敏度、寬帶隙小型PL（光致熒光）光譜儀。
MiniPL采用Photon Systems公司自行研發(fā)的深紫外激光器224nm(5.5eV)或248.6nm(5eV)作為激發(fā)光源，配合的光路設計，采用高靈敏度PMT作為探測器件，并通過儀器內置的門閘積分平均器（Boxcar）進行數據處理，實現微弱脈沖信號的檢測。
產品特點：
l 采激光器：224nm (5.5 eV)或 248.6nm (5.0 eV)
l 光譜范圍：230-650nm（@224nm激發(fā)）或250-650nm（@248.6nm激發(fā)）
l 分辨率：0.7nm（@1200g/mm光柵，標配）
0.2nm（@3600g/mm光柵，選配）
l 探測器：高靈敏度PMT
l 采集器：門閘積分平均器Boxcar
l 光譜分析軟件（LabView）：半峰寬、峰值波長、副峰鑒別、背景扣除、歸一化等
l 可測量50mm直徑樣品，標配XYZ三維手動可調樣品臺
l 體積：15 x 18 x 36cm，重量：<8Kg
升級選項：
l X-Y電動樣品臺，實現Mapping功能
l 低溫制冷機：10K-325K或77K-600℃可選
產品應用：
l 表征半導體材料摻雜水平
l 合成組分分析
l 帶隙分析等
l 半導體LED產業(yè)中的品質檢測
產品參數：
型號 | 規(guī)格描述 |
MiniPL 5.0eV | NeCu激光器(248.6nm),三維手動調節(jié)樣品臺，單光柵1200g/mm, PMT （190~650nm)，驅動及軟件； |
MiniPL 5.5eV | HeAg激光器(224.0nm) ,三維手動調節(jié)樣品臺，單光柵1200g/mm, PMT （190~650nm)，驅動及軟件； |
升級選項 | |
光電倍增管選項 | 升級為190-850nm |
光柵選項 | 增加第二塊光柵（3600g/mm） |
Mapping功能選項 | 升級為X-Y自動掃描樣品臺 |
低溫制冷選項 | 4K，6.5K，10K低溫制冷樣品室，低震動設計，振幅小于5nm |
