TWINSCAN XT:1000H 248 nm步進(jìn)掃描系統(tǒng)是一種新型雙級(jí)KrF光刻工具,具有業(yè)界的NA和生產(chǎn)率,設(shè)計(jì)用于200 mm和300 mm晶圓生產(chǎn)。
XT:1000H將可變0.93-NA卡爾蔡司Starlith 4X縮小鏡頭的成像能力與Air-E照明器技術(shù)相結(jié)合,將經(jīng)過體積驗(yàn)證的KrF技術(shù)擴(kuò)展到<80 nm分辨率。擴(kuò)展關(guān)鍵KrF技術(shù)可降低客戶的每層成本,同時(shí)受益于成熟的KrF處理。采用變頻控制的高線寬窄化40-W KrF激光器,結(jié)合光學(xué)系統(tǒng)的高光傳輸,以盡可能最低的操作成本提供165 300 mm wph的生產(chǎn)吞吐量
XT:1000H是4X nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)及以上的金屬、通孔和植入層的理想選擇,包括內(nèi)存和邏輯應(yīng)用。此外,還提供了與其他TWINSCAN KrF系統(tǒng)的圖像匹配,以及與TWINSCAN ArF和KrF系統(tǒng)的出色疊加匹配,實(shí)現(xiàn)了在大批量制造環(huán)境中的無縫集成。