一、應(yīng)用概述
本產(chǎn)品適用于通用電子元器件的氣密性功能測(cè)試中粗檢漏的應(yīng)用。
1.國家標(biāo)準(zhǔn)及相關(guān)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)要求
國家標(biāo)GB/T2423.23-1995中規(guī)定：（電子元器件）等效標(biāo)準(zhǔn)漏率大于1Pa·cm3/s的任何泄漏叫做粗漏（gross leak），所以對(duì)電子元器件漏率大于1Pa·cm3/s的檢漏方法統(tǒng)稱為粗檢漏。
標(biāo)GJB128A、GJB360A、GJB548A三個(gè)基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的粗檢漏方法有很多種，如氟油加壓高溫液體氣泡粗檢漏、抽真空氣泡粗檢漏、放射性同位素粗檢漏、光學(xué)粗檢漏、稱重法粗檢漏等等。經(jīng)常使用的多為氟油加壓高溫液體氣泡檢漏和抽真空氣泡檢漏。這兩種粗檢漏的Z小可檢漏率可以和氦質(zhì)譜背壓細(xì)檢漏的Z大可檢漏率相互銜接，電子元器件經(jīng)過細(xì)檢漏和這兩種粗檢漏后，就不會(huì)發(fā)生漏檢。
2.粗檢漏的必要性
有人認(rèn)為氦質(zhì)譜檢漏比粗檢漏的靈敏度高很多，經(jīng)過氦質(zhì)譜檢漏以后就可以不用進(jìn)行靈敏度很低的粗檢漏，這種觀點(diǎn)是不對(duì)的。粗檢漏對(duì)電子元器件的檢漏來講，是細(xì)檢漏的后續(xù)工序，是對(duì)細(xì)檢漏不足的一種補(bǔ)充，只作細(xì)檢漏、不作粗檢漏，等于只完成了檢漏工作的一半。所以，對(duì)電子元器件檢漏而言，氦質(zhì)譜背壓細(xì)檢漏以后必須作粗檢漏。
一般來講細(xì)檢漏要先作，粗檢漏后作，主要是考慮到粗檢漏使用的氟油有可能將細(xì)小漏孔堵塞，這樣在細(xì)檢漏時(shí)就有可能檢不出來了。然而一些過程中微小漏孔無封堵風(fēng)險(xiǎn)的粗檢漏方法也可以先作粗檢漏。
電子元器件的粗檢漏除了作為氦質(zhì)譜背壓細(xì)檢漏的后續(xù)工序以外，也可單獨(dú)使用。當(dāng)元器件的漏率指標(biāo)要求比較低時(shí)，粗檢漏的靈敏度可以滿足檢漏要求時(shí)，只作粗檢漏不作細(xì)檢漏，是可以的，也是合理的。并不是所有電子元器件的檢漏程序都包括細(xì)檢漏的
二、粗檢漏的主要設(shè)備描述
粗檢漏的主要設(shè)備是抽真空加壓臺(tái)、重氟油檢漏儀。
1.氦氣氟油平臺(tái)
用于氟油檢漏前的低沸點(diǎn)氟油加壓，也用于氦質(zhì)譜背壓檢漏前對(duì)器件作氦氣加壓及某些元件的氮?dú)饧訅?，可滿足標(biāo)中規(guī)定的抽空加壓條件。
2重氟油檢漏儀
重氟油檢漏儀適用于有密封要求的半導(dǎo)體分立器件、微電子器件和電子及電氣封裝元件的氟油粗檢漏。我們根據(jù)標(biāo)GJB128A、GJB360A、GJB548A對(duì)氟油檢漏的要求設(shè)計(jì)的，整個(gè)裝置含高溫油箱、放大鏡、加熱、溫控、計(jì)時(shí)等系統(tǒng)。油箱內(nèi)裝入重氟油，溫度可以恒定在125℃±5℃。油箱內(nèi)壁處理成陰暗無反射的黑色背景，表面采用耐高溫耐腐蝕涂層，箱體外左右兩個(gè)照明呈直射平行光，照度足夠，能非常清楚的觀察到微小氣泡。
三、歌博氦氣氟油平臺(tái)
1. 雙工位氦氣氟油平臺(tái)
圖一
功能描述：(如圖一所示，圖片僅供參考)
a）氦氣罐：氦質(zhì)譜檢漏儀細(xì)檢的壓氦試驗(yàn)和保壓試驗(yàn)；
b）氟油罐：氟油檢漏儀檢測(cè)前對(duì)產(chǎn)品浸沒輕氟油并進(jìn)行N2加壓保壓；
c）氦氣罐與氟油罐可以互相交換使用，可根據(jù)工藝設(shè)定實(shí)現(xiàn)單罐操作，雙罐同時(shí)操作，可單獨(dú)壓氦氣或輕氟油，也可以同時(shí)壓氦氣或輕氟油；
d）整個(gè)裝置PLC控制，互鎖設(shè)置、無需人工手動(dòng)進(jìn)行操作，自動(dòng)化集成
程度高，滿足全密封件的壓力、保壓時(shí)間快速有效實(shí)現(xiàn)
2. 四工位氦氣氟油平臺(tái)(如圖二所示，圖片僅供參考)
在微波組件、射頻5G等全密封件批量性大規(guī)模生產(chǎn)的要求下，我們開發(fā)出適合凈化間易擺放的四工位氦氣氟油平臺(tái)，基本功能是雙工位氦氣氟油平臺(tái)的拓展，同時(shí)滿足四罐聯(lián)動(dòng)、單罐可控、實(shí)時(shí)控制產(chǎn)品的檢測(cè)節(jié)奏，Z大化的實(shí)現(xiàn)了產(chǎn)量的翻幾倍檢測(cè)效率要求。
圖二
