采用“所見即所得”的友好人機交互界面進行設備控制,設備控制分兩級權限,基礎版主要針對固定工藝的18F-AlF放射性藥物的批量化制備;開發(fā)版針對新藥研發(fā)階段,可對流程工藝進行靈活編程控制,最終實現(xiàn)新藥制備工藝優(yōu)化。
具有強大的擴展功能,根據(jù)不同應用場景可升級68Ga標記模塊(型號:ChelationLab@68Ga,設備硬件及液路無需改造,無縫對接)和177Lu標記模塊(型號:ChelationLab@177Lu,升級成本低且支持客戶端的部分個性化功能定制。