CryLaS納秒脈沖激光器，<2.5ns，213nm-1064nm
德國CryLaS于2004年開始運營，總部位于德國柏林，可以提供用于光譜學、環(huán)境技術、分析和光刻的紫外、可見光和紅外光譜范圍的激光器。
CryLaS脈沖激光器發(fā)射波長為213 nm、266 nm、355 nm、532 nm和1064 nm，用于OEM和科學研究。其中，213nm激光器是CryLaS的特色產(chǎn)品。CryLaS被動調Q微片激光器分為三個產(chǎn)品線，被為具有廣泛用途的可靠激光源。易于集成和低成本使 CryLaS納秒激光器很有競爭力，三個產(chǎn)品系列，可以使用不同的能級、脈沖重頻和脈沖持續(xù)時間。
CryLaS被動調Q微片激光器型號
CryLaS 脈沖激光器基于二極管泵浦被動調Q微片激光器技術，根據(jù)應用需求，有三種不同的產(chǎn)品系列，五種離散波長，便于集成。所有激光器都配有控制單元、電源和軟件。以下是標準型號列表：
| 型號 | 波長 | 能量 | 重頻 | 脈寬 |
| FQSS213-Q | 213 nm | up to > 2.5 µJ | up to 20 kHz | ≤ 1.0 ns |
| FQSS266-Q | 266 nm | up to > 12 µJ | up to 20 kHz | ≤ 1.0 ns |
| FTSS355-Q | 355 nm | up to > 42 µJ | up to 20 kHz | ≤ 1.4 ns |
| FDSS532-Q | 532 nm | up to > 42 µJ | up to 20 kHz | ≤ 1.3 ns |
| DSS1064-Q | 1064 nm | up to > 90 µJ | up to 20 kHz | ≤ 1.5 ns |
| FQSS213-50 | 213 nm | > 50 µJ | 30 Hz | ≤ 1.3 ns |
| FQSS266-50 | 266 nm | > 50 µJ | 100 Hz | ≤ 1.3 ns |
| FQSS266-200 | 266 nm | > 200 µJ | 60 Hz | ≤ 1.5 ns |
| FTSS355-50 | 355 nm | > 70 µJ | 100 Hz | ≤ 1.3 ns |
| FTSS355-300 | 355 nm | > 300 µJ | 80 Hz | ≤ 1.7 ns |
| FDSS532-150 | 532 nm | > 150 µJ | 100 Hz | ≤ 1.5 ns |
| FDSS532-1000 | 532 nm | > 1000 µJ | 80 Hz | ≤ 1.8 ns |
| DSS1064-450 | 1064 nm | > 450 µJ | 100 Hz | ≤ 2.0 ns |
| DSS1064-3000 | 1064 nm | > 2500 µJ | 80 Hz | ≤ 2.5 ns |
| eMOPA213-20 | 213 nm | > 20 µJ | 1 kHz | ≤ 1.0 ns |
| eMOPA266-40 | 266 nm | > 40 µJ | 1 kHz | ≤ 1.0 ns |
| eMOPA355-100 | 355 nm | > 100 µJ | 1 kHz | ≤ 1.3 ns |
| eMOPA532-200 | 532 nm | > 200 µJ | 1 kHz | ≤ 1.5 ns |
| MOPA266-50 | 266 nm | > 50 µJ | 1 kHz | ≤ 1.0 ns |
| MOPA355-200 | 355 nm | > 200 µJ | 1 kHz | ≤ 1.4 ns |
| MOPA355-500mW | 355 nm | > 25 µJ | 20 kHz | ≤ 1.1 ns |
| MOPA532-250 | 532 nm | > 250 µJ | 1 kHz | ≤ 1.4 ns |
| MOPA532-700mW | 532 nm | > 48 µJ | 20 kHz | ≤ 1.3 ns |
| MOPA1064-650 | 1064 nm | > 650 µJ | 1 kHz | ≤ 1.6 ns |
| MOPA1064-2000mW | 1064 nm | > 130 µJ | 20 kHz | ≤ 1.5 ns |
CryLaS脈沖激光器特點：
- 即插即用系統(tǒng)，便于使用；
- 占地面積小，設計緊湊；
- 光束質量優(yōu)異，脈沖短；
- 輸出能量閉環(huán)控制；
- 內部和外部觸發(fā)模式；
- 單脈沖和脈沖串模式均可；
CryLaS納秒激光器應用：
- 激光誘導擊穿光譜(LIBS)；
- 飛行時間質譜(MALDI-TOF)法；
- 雕刻和打標；
- 紫外光解；
- 激光捕獲顯微切割技術；
