HI4108為內(nèi)置參比的復(fù)合電極,固態(tài)膜由不溶于被測(cè)溶液的硫化銅/硫化銀制成,傳感器和溶液之間的電位隨著測(cè)試溶液中的離子濃度變化而改變,在相同的離子強(qiáng)度條件下,電壓與溶液中銅離子濃度成比例,通過測(cè)量電位的變化可以得到銅離子的濃度。 | |
![]() | 測(cè)量范圍:0.1M to 1×10-6M、6355 to 0.065 mg/L(ppm)Cu2+ |
溫度范圍:0 to 80 °C;pH范圍:3 to 7 pH;近似斜率@25oC:+27mV | |
單位轉(zhuǎn)換【Cu2+】:M(mol/L)=6.354 x 104 mg/L(ppm)、mg/L(ppm)=1.574 x 10-4 M(mol/L) | |
干擾物:不得存在銀和汞,任何會(huì)反應(yīng)生成比硫化銅更難溶的物質(zhì)的離子濃度較高時(shí)會(huì)影響測(cè)量, | |
適用范圍:水溶液中的游離銅離子濃度測(cè)定,也可作為指示電極用于銅離子的絡(luò)合滴定 | |
![]() | HI4108-11固態(tài)膜銅【Cu2+】ISA離子標(biāo)準(zhǔn)液綜合套裝 |
![]() | HI4000-70 定制專用離子電極打磨拋光帶,規(guī)格:24個(gè)/組 |
銅【Cu2+】ISE離子選擇復(fù)合電極注意事項(xiàng) | |
? 濃度低于10-3M(63.6ppm)的標(biāo)液需要每天配置;濃度大于0.10M的樣品稀釋后測(cè)量,對(duì)于高離子強(qiáng)度的樣品可以使用標(biāo)準(zhǔn)加入法或滴定法測(cè)量。 ? 校準(zhǔn)溶液和樣品溶液需要在相同的離子強(qiáng)度條件下測(cè)量,ISA必須同時(shí)以相同體積添加;校準(zhǔn)溶液和樣品溶液需要在相同的溫度下測(cè)量。 校準(zhǔn)溶液和樣品溶液需要在相同的攪拌條件下測(cè)量,使用磁力攪拌器時(shí),使用絕熱材料避免攪拌器傳熱。 校準(zhǔn)時(shí)建議從低濃度標(biāo)液開始測(cè)量,帶數(shù)據(jù)穩(wěn)定后讀數(shù),濃度越低所需要的穩(wěn)定時(shí)間越長(zhǎng) ? 測(cè)量不同樣品間隙用去離子水清洗電極并吸干水分,避免交叉污染,注意不要擦到電極膜。 將PH保持在4-6之間以避免生成氫氧化銅;將電極浸泡在稀釋的標(biāo)液中可以提高電極的響應(yīng),可以使用10-3M的標(biāo)液浸泡。 如果發(fā)現(xiàn)電極傳感器表面有氣泡,輕輕甩動(dòng)趕走氣泡即可;避免溫度的劇烈變化,否則會(huì)損壞電極 傳感器表面發(fā)生擦傷、凹陷、失去光澤時(shí)會(huì)引起讀數(shù)的漂移,可以使用HI4000-70拋光片對(duì)電極表面進(jìn)行處理。 溫度變化可能會(huì)使電極內(nèi)部產(chǎn)生氣泡,輕輕拍打電極即可趕走膜表面的氣泡。 ? 使用前撕掉陶瓷結(jié)點(diǎn)表面的封口膜,安裝好電極后添加HI7072填充液,測(cè)量時(shí)將填充口打開。 填充液會(huì)以緩慢的速度滲出,這是正常的,但是如果滲出速度大于4cm/24h,則需要檢查電極蓋是否擰緊或者電極頭的錐形面有沒有雜物顆粒存在造成縫隙。 每天測(cè)量前檢查填充液液面,低于填充口2cm以上需要添加填充液。電極內(nèi)部產(chǎn)生結(jié)晶時(shí)需要更換新的填充液。 ? 電極短期保存可放在稀釋的標(biāo)準(zhǔn)液(<10-3M)中保存,長(zhǎng)時(shí)間不用應(yīng)拆分電極,沖洗干凈,用密封膜封住陶瓷結(jié)點(diǎn),給傳感器加上保護(hù)蓋,分開干燥保存。 |