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  • 上海伯東代理磁控共濺鍍?cè)O(shè)備 Co-Sputter

上海伯東代理磁控共濺鍍?cè)O(shè)備 Co-Sputter

參考價(jià)
1000000-10000000
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)
  • 品牌其他品牌
  • 所在地上海市
  • 更新時(shí)間2023-02-09
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 入駐年限1
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值3538
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位于中國(guó)上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會(huì)社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊(cè)資金為200萬(wàn)美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國(guó)Pfeiffer單雙級(jí)旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應(yīng)用于各種條件下的真空測(cè)量(真空計(jì), 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國(guó)Pfeiffer原廠測(cè)試設(shè)備及調(diào)整工具和德國(guó)Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師,多年來(lái)致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機(jī)、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識(shí),并獲得原廠*維修資質(zhì)證書(shū)。利用 Pfeiffer 進(jìn)口檢測(cè)設(shè)備對(duì)維修后的產(chǎn)品做*性能測(cè)試。另外公司還代理美國(guó)Brooks  CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機(jī)和美國(guó)KRI 離子源,HVA 高真空閥門(mén)。公司一直堅(jiān)持品質(zhì)*、信譽(yù)*的原則,為廣大客戶提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務(wù)。到目前為止已先后通過(guò)了美國(guó)UL安全認(rèn)證、ISO9001-2000質(zhì)量體系認(rèn)證、ISO14001-1996環(huán)境體系認(rèn)證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本,不斷開(kāi)拓進(jìn)取的精神,為滿足客戶的需求努力向?qū)I(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團(tuán)化發(fā)展。

為將國(guó)外的高科技產(chǎn)品與中國(guó)經(jīng)濟(jì)和社會(huì)的飛速發(fā)展緊密結(jié)合,為促進(jìn)國(guó)內(nèi).貿(mào)易的快速發(fā)展,伯東企業(yè)(上海)有限公司,以高科技推動(dòng)現(xiàn)代化,以高質(zhì)量服務(wù)全中國(guó), 堅(jiān)持不懈,奮斗不息。伯東公司是一家專業(yè)代理公司,代理上公司的 半導(dǎo)體設(shè)備.接插件.電子器件.精密儀器等,公司秉承 改革.創(chuàng)新.求真.發(fā)展的基本原則, 精心構(gòu)建誠(chéng)信、互動(dòng)、共贏的價(jià)值體系, 為所有的客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品, 同時(shí),提供全伯東集團(tuán)網(wǎng)絡(luò)支持下的較早.Z快的信息與Z及時(shí)周到的服務(wù),伯東公司愿意與世界各地的客戶聯(lián)手合作,共建一個(gè)誠(chéng)信.發(fā)展.共同進(jìn)步的良好環(huán)境.

 

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產(chǎn)地進(jìn)口 加工定制 適用領(lǐng)域其他
上海伯東代理的磁控共濺鍍腔提供了準(zhǔn)確控制多個(gè)磁控濺鍍的制程條件, 加裝美國(guó) KRi 離子源為客戶提供更好質(zhì)量的復(fù)合式薄膜.單片和多片式的loading chamber, 可節(jié)省其制程腔體的抽氣時(shí)間, 進(jìn)而節(jié)省整體實(shí)驗(yàn)時(shí)間. 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體, 納米科技, 太陽(yáng)能電池等行業(yè)以及氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.
上海伯東代理磁控共濺鍍?cè)O(shè)備 Co-Sputter 產(chǎn)品詳情

因產(chǎn)品配置不同, 價(jià)格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)


 磁控共濺鍍?cè)O(shè)備 Co-Sputter

磁控共濺鍍?cè)O(shè)備 Co-Sputter
磁控共濺鍍是指同時(shí)有兩個(gè)或多個(gè)磁控濺鍍槍, 濺鍍于被鍍物上. 磁控共濺鍍主要用于復(fù)合金屬或復(fù)合材料, 通過(guò)分別優(yōu)化每一支磁控濺鍍槍 (靶材) 的功率來(lái)控制薄膜質(zhì)量, 其薄膜厚度取決于濺鍍時(shí)間.

上海伯東代理的磁控共濺鍍腔提供了準(zhǔn)確控制多個(gè)磁控濺鍍的制程條件, 加裝美國(guó) KRi 離子源為客戶提供更好質(zhì)量的復(fù)合式薄膜.單片和多片式的loading chamber, 可節(jié)省其制程腔體的抽氣時(shí)間, 進(jìn)而節(jié)省整體實(shí)驗(yàn)時(shí)間. 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體, 納米科技, 太陽(yáng)能電池等行業(yè)以及氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.

上海伯東磁控共濺鍍?cè)O(shè)備配置和優(yōu)點(diǎn)
客制化基板尺寸, z大直徑可達(dá) 12寸晶圓
薄膜均勻度小于 ±3%
磁控濺鍍?cè)?(最多8個(gè)源), 具有多種可選的靶材尺寸
具有順序操作或共沉積的多個(gè)濺鍍?cè)?br/>射頻, 直流或脈沖直流, 分別用于非導(dǎo)電與導(dǎo)電靶材
精準(zhǔn)流量控制器(最多4條氣體管線)
基板可加熱到 1000°C
基材到靶材之間距為可調(diào)節(jié)的
每個(gè)濺鍍?cè)春突寰惭b遮板

磁控共濺鍍?cè)O(shè)備 Co-sputter

濺鍍腔中, 在載臺(tái)部分可獨(dú)立施打偏壓, 對(duì)其基板進(jìn)行清潔與增加材料的附著性等功能.


安裝美國(guó) KRi 離子源: 上海伯東代理美國(guó) KRi 離子源可用于基板清潔和加速鍍膜材料的濺射速率, 并且離子源在材料沉積過(guò)程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密.

磁控共濺鍍?cè)O(shè)備 Co-sputter


磁控濺鍍?cè)O(shè)備基本參數(shù)

系統(tǒng)類型

Real 超高真空

超高真空

高真空

緊湊型高真空

極限真空

5X10-10 Torr

5X10-9 Torr

3X10-7 Torr

5X10-7 Torr

腔室密封

全部 CF(烘烤)

一些密封圈(烘烤)

全部密封圈

全部密封圈

電子槍

3-4, 2-3 英寸

3-4, 2-4 英寸

3-4, 2-4 英寸

3-4, 2-3 英寸

電源

DC / DC pulse / RF

DC / DC pulse / RF

DC / DC pulse / RF

DC / DC pulse / RF

Load-lock

標(biāo)準(zhǔn)(HV)

標(biāo)準(zhǔn)(HV)

標(biāo)準(zhǔn)(HV)/可選

標(biāo)準(zhǔn)(HV)/可選

基板

4-6 英寸
加熱至 800°C或水冷

4-8 英寸
加熱至 800°C或水冷

4-8 英寸
加熱至 800°C

4-6 英寸
加熱至 800°C

真空泵

低溫泵

低溫泵 / 分子泵

分子泵

分子泵

監(jiān)控

真空規(guī)和Baratron

真空規(guī)和Baratron

真空規(guī)和Baratron

真空規(guī)和Baratron

工藝控制

部分 / 3位 /手動(dòng)閘閥

部分 / 3位 /手動(dòng)閘閥

部分 / 3位 /手動(dòng)閘閥

部分 / 3位 /手動(dòng)閘閥

氣體

氬氣, 氮?dú)? 氧氣(load-lock可選)

氬氣, 氮?dú)? 氧氣(load-lock可選)

氬氣, 氮?dú)? 氧氣

氬氣, 氮?dú)? 氧氣

射頻偏壓清潔

300W RF(清潔和蝕刻)

300W RF(清潔和蝕刻)

可選

可選

離子源

100 KRi 離子源

100 KRi 離子源

可選

可選

薄膜

鈦氮化鈮NbTiN, 鈮 Nb, 鈀Pd等

鈦氮化鈮NbTiN, 鈮 Nb, 鈀Pd等

二氧化硅 SiO2, 氮化硅 Si3N4, 氧化鋁Al2O3 等

二氧化硅 SiO2, 氮化硅 Si3N4, 氧化鋁Al2O3 等

磁控濺鍍?cè)O(shè)備Sputter

腔體
客制化的腔體尺寸取決于基板尺寸和其應(yīng)用
寬大的前開(kāi)式門(mén), 并有兩個(gè)窗口和窗口遮版, 用于觀察基材和濺鍍?cè)?br/>具有顯示功能的全量程真空計(jì)和用于壓力控制的 Baratron 真空計(jì)
腔體的極限真空度約 10-8 Torr

選件
可以與傳送腔, 機(jī)械手臂和手套箱整合在一起
結(jié)合離子源, 熱蒸發(fā)源, 電子束...等等
基板射頻或直流偏壓
膜厚監(jiān)測(cè)儀
射頻等離子清潔用于基材
OES, RGA 或制程監(jiān)控的額外備用端口

應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體類, 納米科技
產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量檢查
氧化物, 氮化物和金屬材料的研究
太陽(yáng)能電池
光學(xué)研究, 材料研究

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上海伯東: 羅先生    


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