PECVD, 支持定制,單片或卷對卷式PECVD。
可用于沉積類金剛石、氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、氮化物、硫化物等類型薄膜。
可用于聚合物薄膜沉積。
可選13.56兆赫、20kHz等離子體。
片式PECVD參數:
真空度10-3Pa,薄膜厚度:10nm-1um,溫度范圍:400攝氏度,基片大?。?英寸或根據用戶要求。設備尺寸:直徑350mm,高500mm。
價格35~55萬人民幣。
卷對卷式PECVD參數:
1分鐘100m,1.25m幅寬,卷厚度8um到50um,可用于食品包裝,起阻水阻氧作用。
參考價格500萬人民幣左右。