三氯氫硅中雜質(zhì)磷的分析，傳統(tǒng)的方法為將雜質(zhì)磷轉(zhuǎn)變成磷鉬雜多酸，再還原成磷鉬藍(lán)進(jìn)行比色測(cè)定。在此基礎(chǔ)上后來(lái)有改進(jìn)，諸如經(jīng)苯肟酮或硫氰化銨比色測(cè)定鉬，或利用化學(xué)光譜法測(cè)出鉬量進(jìn)而間接換算出磷含量；加大取樣量等。雖然在靈敏度上有提高，但都要經(jīng)過(guò)使磷形成磷鉬雜多酸這一過(guò)程，滕州瑞能分析儀器有限公司 為了提高三氯氫硅中雜質(zhì)磷分析靈敏度和速度，相關(guān)科研人員為此做了大量工作，并取得了成績(jī)。
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(測(cè)定三氯氫硅中痕量磷儀器-GC3900)
一、 前言
半導(dǎo)體硅材料中磷含量的高低，直接影響器件的電性能。隨著硅材料研究及生產(chǎn)的不斷提高，對(duì)于原材料三氯氫硅中磷的測(cè)試靈敏度、速度、準(zhǔn)確度提出高要求。
三氯氫硅中雜質(zhì)磷的分析，傳統(tǒng)的方法為將雜質(zhì)磷轉(zhuǎn)變成磷鉬雜多酸，再還原成磷鉬藍(lán)進(jìn)行比色測(cè)定。在此基礎(chǔ)上后來(lái)有改進(jìn)，諸如經(jīng)苯肟酮或硫氰化銨比色測(cè)定鉬，或利用化學(xué)光譜法測(cè)出鉬量進(jìn)而間接換算出磷含量；加大取樣量等。雖然在靈敏度上有一定提高，但都要經(jīng)過(guò)使磷形成磷鉬雜多酸這一過(guò)程。為要形成穩(wěn)定的絡(luò)合物來(lái)分離基本和消除雜質(zhì)干擾，化學(xué)分離手續(xù)相當(dāng)繁雜，分析時(shí)間長(zhǎng)，而且，測(cè)定靈敏度也不能滿足生產(chǎn)上的要求。
滕州瑞能分析儀器有限公司 為了提高三氯氫硅中雜質(zhì)磷分析靈敏度和速度，相關(guān)科研人員為此做了大量工作，并取得了一定的成績(jī)。例如，采用氣相色譜法測(cè)定了三氯氫硅中以PCL3與POCL3形式存在的磷含量。然而，三氯氫硅中雜質(zhì)磷還可能以其他形式存在(例如，PCL5、PSCL3)，因此，欲采用氣相色譜法測(cè)定總磷含量，首先要保證樣品中以各種形式存在的磷都能從分離柱中流出，這無(wú)疑是一項(xiàng)很艱巨的工作，至今尚未見(jiàn)到報(bào)道。又例如，采用“ICP—MS”法測(cè)定三氯氫硅中痕量雜質(zhì)磷，測(cè)試方法雖然簡(jiǎn)捷，遺憾的是，測(cè)定靈敏度下限僅為0.3PPb，不能滿足多晶硅生產(chǎn)工藝對(duì)三氯氫硅中雜質(zhì)磷的分析要求(工藝要求三氯氫硅中雜質(zhì)磷含量應(yīng)小于0.1PPb)。
二、 滕州瑞能分析儀器有限公司研制出測(cè)定三氯氫硅中痕量磷儀器“高溫氫還原—火焰光度氣相色譜儀”。
針對(duì)上述現(xiàn)狀，我們?nèi)鹉軐＜壹?jí)工程師經(jīng)過(guò)多年的豐富經(jīng)驗(yàn)，與大量的切合實(shí)戰(zhàn)分析，研制出測(cè)定三氯氫硅中痕量磷儀器“高溫氫還原—火焰光度氣相色譜儀”。進(jìn)幾年已在國(guó)內(nèi)硅行業(yè)多個(gè)生產(chǎn)廠家得到應(yīng)用，反應(yīng)，與價(jià)格昂貴的“ICP-MS”法比較有廉價(jià)實(shí)用，快速測(cè)定，痕量(≤0.06PPb)分析，耗材低等特性。對(duì)于快速反應(yīng)指導(dǎo)三氯氫硅生產(chǎn)工藝，加提純硅產(chǎn)品，為社會(huì)提供優(yōu)質(zhì)*的單晶硅產(chǎn)品，是我們?nèi)鹉芄咎貏e推出此套分析儀器的宗旨，也是您可信賴的合作伙伴。
三、 GC3900儀器的特點(diǎn)和指標(biāo)
1、 所測(cè)三氯氫硅中雜質(zhì)磷含量為總磷含量；
2、 三氯氫硅中雜質(zhì)磷含量測(cè)定下限為0.06PPb；
3、 測(cè)定手續(xù)簡(jiǎn)便只需用注射針筒向儀器注入三氯氫硅即可；
4、 測(cè)定周期短，自注入三氯氫硅到測(cè)出峰高(或面積)需時(shí)20分鐘；
5、 儀器結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)潔、直觀，便于使用和維修。
本廠還銷售各種色譜儀配件，歡迎選購(gòu)使用或來(lái)圖定制?；蛟诎⒗锇桶椭苯酉聠?。
