1、可測定包括痕量碳(C),磷(P),硫(S)元素,適用于多種金屬基體,如:鐵基,鋁基,銅基,鎳基,鉻基,鈦基,鎂基,鋅基,錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素;
2、分析速度快捷,20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對(duì)不同的分析材料,通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線,使儀器用最短的時(shí)間達(dá)到的分析效果;
3、光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室, 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室,實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗,提高檢出限,測定結(jié)果準(zhǔn)確,重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性;
4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),使真空室容積更小,抽真空速度不到普通光譜儀的一半;
5、自動(dòng)光路校準(zhǔn),光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線,與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定;
6、開放式的電極架設(shè)計(jì),可以調(diào)整的樣品夾,便于各種形狀和尺寸的樣品分析;
7、工作曲線采用國際標(biāo)樣,預(yù)做工作曲線,可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍,每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成,自動(dòng)扣除干擾;
8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料 ;
9、固態(tài)吸附阱,防止油氣對(duì)光室的污染,提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性;
10、銅火花臺(tái)底座,提高散熱性及堅(jiān)固性能;
11、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì),使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短,為用戶節(jié)省氬氣,氬氣消耗不到普通光譜儀的一半;
12、采用鎢材料電極,電極使用壽命更長,并設(shè)計(jì)了電極自吹掃功能,清潔電極更加容易;
13、高性能DSP及ARM處理器,具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊 的運(yùn)行狀況;
14、儀器與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接,抗干擾性能好,外部計(jì)算機(jī)升級(jí)與儀器配置無關(guān),使儀器具有更好的適用性;
15、核心器件全部,保證了儀器優(yōu)秀的品質(zhì)。
光學(xué)系統(tǒng) | |
光學(xué)結(jié)構(gòu) | 帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng) |
光室溫度 | 自動(dòng)控制恒溫:35℃±0.5℃ |
波長范圍 | 160-800nm |
光柵焦距 | 350 mm |
光柵刻線 | 3600 l/mm |
一級(jí)光譜線色散率 | 1.2 nm/mm |
探測器 | 多塊高性能線陣CCD |
平均分辨率 | 10pm/pixel |
激發(fā)臺(tái) | |
氣體 | 沖氬式 |
氬氣流量 | 激發(fā)時(shí)3-5L/min, 待機(jī)時(shí):無須待機(jī)流量 |
電極 | 鎢材噴射電極技術(shù) |
吹掃 | 點(diǎn)擊自吹掃功能 |
補(bǔ)償 | 熱變形自補(bǔ)償設(shè)計(jì) |
分析間隙 | 樣品臺(tái)分析間隙:4mm |
激發(fā)光源 | |
類型 | HEPS數(shù)字化固態(tài)光源 |
頻率 | 100-1000Hz |
放電電流 | 1-80A |
特殊技術(shù) | 放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì) |
預(yù)燃 | 高能預(yù)燃技術(shù) |
數(shù)據(jù)采集系統(tǒng) | |
處理器 | ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理 |
接口 | 基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸 |
電源與環(huán)境要求 | |
輸入 | 220VAC 50Hz |
功率 | 分析時(shí)700W,待機(jī)狀態(tài)40W |
工作溫度 | 10-30℃(該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h) |
工作濕度 | 20-80% |
尺寸與重量 | |
尺寸 | 800*450*500 mm |
重量 | 85Kg |