壓力消解罐（水熱合成釜）
DAB-2 | DAB-3
Chemtron消解罐壓力高達200bar，為難以消解的樣品提供理想的解決方案，可配套的加熱單元，加樣簡單便捷，實驗重復性強。
水熱合成實驗
水熱合成法是指溫度為100～1000 ℃、壓力為1MPa～1GPa 條件下利用水溶液中物質(zhì)化學反應所進行合成的方法。在亞臨界和超臨界水熱條件下，由于反應處于分子水平，反應活性提高，因而水熱反應可以替代某些高溫固相反應。又由于水熱反應的均相成核及非均相成核機理與固相反應的擴散機制不同，因而可以創(chuàng)造出其它方法無法制備的新化合物和新材料。
水熱合成可分為：水熱氧化，水熱沉淀，水熱合成，水熱還原，水熱分解，水熱結晶等
安全
壓力消解罐采用高品質(zhì)不銹鋼材質(zhì)和高密度PTFE內(nèi)襯，確保實驗操作的可靠性和安全性。
>所有容器均經(jīng)過TUV測試認證
>操作壓力可達200bar
>溫度可達250℃，實驗周期可達數(shù)天
>爆破片保證操作人員的安全
>特殊密封技術保證易揮發(fā)物質(zhì)不會流失和擴散
>當消解罐被打開時，控制壓力將會釋放
內(nèi)襯技術
根據(jù)容積不同，TFM-PTFE高密度內(nèi)襯從50ml到250ml范圍可選，安全耐腐蝕，使用壽命長，操作簡單便捷
可靠的反應控制
高精度溫度控制器確保所有參數(shù)統(tǒng)一監(jiān)控，該控制器可以進行升溫程序編程。Chemtron消解罐可與實驗室日常工作結合起來，進行隔夜實驗測試，避免樣品轉(zhuǎn)移帶來的麻煩
加熱
Chemtron針對不同體積的消解罐，可提供不同數(shù)量孔位的加熱裝置，最多可支持12位消解罐同時進行溫度控制
應用
制備超細顆粒，無機薄膜，微孔材料，超臨界合成等工藝研究難消解樣品的高溫高壓消解
技術參數(shù)
