● 視場寬闊,可得清晰無閃爍正像 ● 高精度測量,同時具有大測量范圍和高精度,適用于各種測量 ● 可選用高NA物鏡,滿足長工作距離的測量要求 ● 照明裝置(反射/透射)可選用高亮度LED的照明或鹵素照明 ● 利用可變孔徑光闌進(jìn)行無衍射觀察測量 ● 各類尺寸的標(biāo)準(zhǔn)工作臺 ● 快速釋放裝置便于測量工件大或測量工件數(shù)量多的快速移動工作臺 ● 高位目鏡觀察 ● 便捷CCD圖像成像,可選配多種CCD數(shù)碼相機(jī)
偏光觀察 微分干涉對比觀察
觀察過濾后只有一個方向振動的光。適于觀察具有 在檢測金屬、液晶和半導(dǎo)體表面的微小劃痕和階差時很有效。
特殊光學(xué)特性的材料,如礦石和液晶。
暗視場觀察 亮視場觀察
擋住直射到物體上的光,只觀察散射光,通過高對比度能 最普通的觀察方式,直接觀察從工件表面反射的光。
觀察到在亮視場看不到的劃痕和粉末。
新功能增強(qiáng)Z軸測量精度
● 輔助對焦(FA)
新近研發(fā)的分光棱鏡輔助對焦(FA)提供更銳利的圖案,可在Z軸測量期間提供精確對焦。由于不同物鏡焦深差異導(dǎo)致的測量誤差被降到。
對焦 | 前端對焦 | 后端對焦 |
規(guī)格
● 無限遠(yuǎn)系統(tǒng),管鏡200mm
● 傾斜角度30°,瞳孔距離55-75mm,正像
● 高眼點,大視場WF10/22
● 鼻輪螺紋M26X0.706
● Z軸的長度180mm,微動精度0.002mm,測量精度(at20℃),XY-軸的(2.5 0.02L)um,L=測量長度(mm)在沒有放物體分辨率為0.001mm
● 12V50W反射鹵素?zé)?/span>
● 3W高亮度LED光源
● 可配置輔助調(diào)焦裝置(FA)
技術(shù)參數(shù)
型號 | VMM-8Ⅰ型 | VMM-8Ⅱ型 | VMM-8 Ⅲ型 | VMM-8 Ⅳ型 | VMM-12Ⅰ型 | VMM-12Ⅱ型 | VMM-12Ⅲ型 | VMM-12 Ⅳ型 | ||
鏡筒 | 1×光學(xué)管徑,雙目目鏡,帶有CCD1/2靶面接口 | |||||||||
觀察圖像 | 正像 | |||||||||
觀測方法 | 輔助對焦系統(tǒng) | - | - | 頭部或照明器FA系統(tǒng) | 頭部或照明器FA系統(tǒng) | - | - | 頭部或照明器FA系統(tǒng) | 頭部或照明器FA系統(tǒng) | |
微分干涉對比 | 可選微分觀測對比 | |||||||||
目鏡 | 10X(視場直徑:25mm),可選十字分劃板,可選:視場直徑:22mm | |||||||||
物鏡(100x選配) | 95mm 2x, | 60mm 5x, | 95mm 2x, | 60mm 5x, | 95mm 2x, | 60mm 5x, | 95mm 2x, | 60mm 5x, | ||
照明裝置 | 反射照明 | 內(nèi)置孔徑光闌,LED光源,無極亮度調(diào)節(jié),可選鹵素照明 | ||||||||
透射照明 | 白色LED照明,無極亮度調(diào)節(jié) | |||||||||
工作臺 | XY測量范圍 | 200*100 | 200*100 | 200*100 | 200*100 | 300*200 | 300*200 | 300*200 | 300*200 | |
快速釋放裝置 | X軸和Y軸(標(biāo)配) | |||||||||
調(diào)零開關(guān) | X軸和Y軸(標(biāo)配) | |||||||||
數(shù)顯計器 | 顯示軸 | 2軸或3軸 | ||||||||
分辯率 | 0.0005mm(可選0.00002mm) | |||||||||
具體配置和規(guī)格請,