XAD是一款上照式全元素光譜分析儀,可測量納米級厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚,也可滿足微區(qū)RoHS檢測及多元素成分分析,*的算法及解譜技術(shù)解決了諸多業(yè)界難題。
被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用。
產(chǎn)品優(yōu)勢:
微小樣品檢測:最小測量面積0.008mm2
變焦裝置算法:可改變測量距離測量凹凸異形樣品,變焦距離可達0-90mm
自主研發(fā)的EFP算法:AI(3)-U(92)元素的成分分析,Li(3)-U(92)元素的涂鍍層檢測,多層多元素,甚至有同種元素在不同層也可精準測量
*的解譜技術(shù):減少能量相近元素的干擾,降低檢出限
高性能探測器:SDD硅漂移窗口面積20/50mm2探測器
X射線裝置:微焦加強型射線管搭配聚焦裝置
上照式設(shè)計:實現(xiàn)對超大樣品或者密集點位進行快、準、穩(wěn)高效率測量
可編程自動位移:選配自動平臺,X210*Y230*Z145mm行程內(nèi)無人值守自動測量
多準直器自動切換