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  • P170 全自動(dòng)晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀

P170 P170 全自動(dòng)晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀

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  • 型號(hào)P170
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時(shí)間2022-09-28
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限1
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量15
  • 人氣值67
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目前上海納騰已成為國內(nèi)少數(shù)幾家專業(yè)提供微納米科學(xué)儀器的企業(yè),在微納加工儀器,微納表征儀器,微納儀器耗材,微納加工測(cè)試等相關(guān)領(lǐng)域,擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)過硬的團(tuán)隊(duì)。能夠出色地完成售中、售后的服務(wù)。

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P170 全自動(dòng)晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀
P170 全自動(dòng)晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀 產(chǎn)品詳情

P-170是cassette-to-cassette探針式輪廓儀,將行業(yè)的P-17臺(tái)式系統(tǒng)的測(cè)量性能和經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的HRP®-260的機(jī)械傳送臂相結(jié)合。 這樣的組合為機(jī)械傳送臂系統(tǒng)提供了極低的擁有成本,適用于半導(dǎo)體,化合物半導(dǎo)體和相關(guān)行業(yè)。 P-170可以對(duì)臺(tái)階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力進(jìn)行2D和3D測(cè)量,其掃描可達(dá)200mm而無需圖像拼接。

該系統(tǒng)結(jié)合了UltraLite®傳感器、恒力控制和超平掃描平臺(tái),因而具備出色的測(cè)量穩(wěn)定性。通過點(diǎn)擊式平臺(tái)控制、頂視和側(cè)視光學(xué)系統(tǒng)以及帶光學(xué)變焦的高分辨率相機(jī)等功能,程序設(shè)置簡(jiǎn)便快速。P-170具備用于量化表面形貌的各種濾鏡、調(diào)平和分析算法,可以支持2D或3D測(cè)量。并通過圖案識(shí)別、排序和特征檢測(cè)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)測(cè)量。




二、 功能

設(shè)備特點(diǎn)

·臺(tái)階高度:幾納米至1000μm

·微力恒力控制:0.03至50mg

·樣品全直徑掃描,無需圖像拼接

·視頻:500萬像素高分辨率彩色攝像機(jī)

·圓弧校正:消除由于探針的弧形運(yùn)動(dòng)引起的誤差

·軟件:簡(jiǎn)單易用的軟件界面

·生產(chǎn)能力:通過測(cè)序、圖案識(shí)別和SECS/GEM實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化

·晶圓機(jī)械傳送臂:自動(dòng)加載75mm至200mm不透明(例如硅)和透明(例如藍(lán)寶石)樣品


主要應(yīng)用

·臺(tái)階高度:2D和3D臺(tái)階高度

·紋理:2D和3D粗糙度和波紋度

·形狀:2D和3D翹曲和形狀

·應(yīng)力:2D和3D薄膜應(yīng)力

·缺陷復(fù)檢:2D和3D缺陷表面形貌

工業(yè)應(yīng)用

·半導(dǎo)體

·化合物半導(dǎo)體

·LED:發(fā)光二極管

·MEMS:微機(jī)電系統(tǒng)

·數(shù)據(jù)存儲(chǔ)

·汽車


三、應(yīng)用案例

·臺(tái)階高度

P-170可以提供納米級(jí)到1000μm的2D和3D臺(tái)階高度的測(cè)量。 這使其能夠量化在蝕刻,濺射,SIMS,沉積,旋涂,CMP和其他工藝期間沉積或去除的材料。P-170具有恒力控制功能,無論臺(tái)階高度如何都可以動(dòng)態(tài)調(diào)整并施加相同的微力。 這保證了良好的測(cè)量穩(wěn)定性并且能夠精確測(cè)量諸如光刻膠等軟性材料。


·紋理:粗糙度和波紋度

P-170提供2D和3D紋理測(cè)量并量化樣品的粗糙度和波紋度。軟件濾鏡功能將測(cè)量值分為粗糙度和波紋度部分,并計(jì)算諸如均方根(RMS)粗糙度之類的參數(shù)。


·外形:翹曲和形狀

P-170可以測(cè)量表面的2D形狀或翹曲。這包括對(duì)晶圓翹曲的測(cè)量,例如半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中的多層沉積期間由于層與層的不匹配是導(dǎo)致這種翹曲的原因。P-170還可以量化包括透鏡在內(nèi)的結(jié)構(gòu)高度和曲率半徑。


·應(yīng)力:2D和3D薄膜應(yīng)力

P-170能夠測(cè)量在生產(chǎn)包含多個(gè)工藝層的半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件期間所產(chǎn)生的應(yīng)力。使用應(yīng)力卡盤將樣品支撐在中性位置并精確測(cè)量樣品翹曲。 然后通過應(yīng)用Stoney方程,利用諸如薄膜沉積工藝的形狀變化來計(jì)算應(yīng)力。2D應(yīng)力通過在直徑達(dá)200mm的樣品上通過單次掃描測(cè)量,無需圖像拼接。3D應(yīng)力的測(cè)量采用多個(gè)2D掃描,并結(jié)合θ平臺(tái)在掃描之間的旋轉(zhuǎn)對(duì)整個(gè)樣品表面進(jìn)行測(cè)量。


·缺陷復(fù)檢

缺陷復(fù)查用于測(cè)量如劃痕深度之類的缺陷形貌。 缺陷檢測(cè)設(shè)備找出缺陷并將其位置坐標(biāo)寫入KLARF文件。 “缺陷復(fù)檢”功能讀取KLARF文件、對(duì)準(zhǔn)樣本,并允許用戶選擇缺陷進(jìn)行2D或3D測(cè)量。


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