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工業(yè)高速光譜儀

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  • 型號(hào)
  • 品牌其他品牌
  • 所在地深圳市
  • 更新時(shí)間2022-10-21
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限1
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量314
  • 人氣值10621
產(chǎn)品標(biāo)簽

光譜儀

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LISEN OPTICS INC.(萊森光學(xué))公司總部位于美國(guó)佛羅里達(dá)州,是一家提供光機(jī)電一體化集成解決方案的高科技公司,我們專注于光譜傳感和光電應(yīng)用系統(tǒng)的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。為了更好地服務(wù)不斷增長(zhǎng)的亞洲市場(chǎng),2016年在中國(guó)深圳成立了新的研發(fā)中心——萊森光學(xué)(深圳)有限公司。LISEN OPTICS INC.(萊森光學(xué))以掌握核心技術(shù)和戰(zhàn)略驅(qū)動(dòng)創(chuàng)新作為公司的發(fā)展思路,經(jīng)過(guò)全體員工的不斷努力,公司先后獲得了深圳市*和國(guó)家*認(rèn)定,并通過(guò)了國(guó)家CNAS實(shí)驗(yàn)室認(rèn)證、*貫標(biāo)體系認(rèn)證、ISO9001質(zhì)量管理體系認(rèn)證和深圳市雙軟企業(yè)認(rèn)證等資質(zhì)。公司自成立以來(lái),一直致力于為科研及工業(yè)用戶提供具有革命性*技術(shù)的光譜傳感和光電應(yīng)用系統(tǒng),目前已為眾多光學(xué)領(lǐng)域的客戶設(shè)計(jì)并提供多種用途的基于3D-SENSING脈沖激光測(cè)試方案,此外我們還具備極其豐富的定制經(jīng)驗(yàn),以滿足不同用戶的多樣化需求。目前,我們的產(chǎn)品已廣泛應(yīng)用于物理學(xué)、化學(xué)、生物制藥、能源環(huán)境、半導(dǎo)體制造和食品加工等領(lǐng)域。

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產(chǎn)地國(guó)產(chǎn) 加工定制
LiSpec-UV100是萊森光學(xué)(LiSen Optics)光譜儀系列中一款明星產(chǎn)品,由于其采樣速度快、靈敏度高、可靠性穩(wěn)定性好,目前已經(jīng)大量應(yīng)用于LED/鹵燈/氘燈/氙燈/太陽(yáng)光等輻射測(cè)量、熒光測(cè)量、紫外吸收測(cè)量、透反射測(cè)量等工業(yè)應(yīng)用,LiSpec-UV100高速光譜儀采樣了2048像素CMOS探測(cè)器,最短積分時(shí)間可達(dá)0.5ms高速測(cè)量,同時(shí)采用性能更靈...
工業(yè)高速光譜儀 產(chǎn)品詳情

LiSpec-UV系列是萊森光學(xué)(LiSen Optics)光譜儀系列中一款明星產(chǎn)品,由于其采樣速度快、靈敏度高、可靠性穩(wěn)定性好,目前已經(jīng)大量應(yīng)用于LED/鹵燈/氘燈/氙燈/太陽(yáng)光等輻射測(cè)量、熒光測(cè)量、紫外吸收測(cè)量、透反射測(cè)量等工業(yè)應(yīng)用,LiSpec-UV系列高速光譜儀采樣了2048像素CMOS探測(cè)器,最短積分時(shí)間可達(dá)0.5ms高速測(cè)量,同時(shí)采用性能更靈敏更優(yōu)質(zhì)的傳感元件,及其的大數(shù)值孔徑光學(xué)平臺(tái)設(shè)計(jì),友好二次開發(fā)SDK,更適合于實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)檢測(cè)應(yīng)用。

LiSpec-UV系列光譜儀光譜范圍200-1100nm,可根據(jù)不同應(yīng)用需求配置不同的光柵實(shí)現(xiàn)不同光譜范圍應(yīng)用,同時(shí)可以搭配光源、光纖探頭、積分球,標(biāo)準(zhǔn)板、熒光吸收支架、余弦探頭實(shí)現(xiàn)吸光度、透反射、熒光、輻射測(cè)量等應(yīng)用,因其結(jié)構(gòu)緊湊、具有優(yōu)異的一致性、良好的熱穩(wěn)定性、可靠性及雜散光低的特點(diǎn),最短積分時(shí)間可達(dá)1ms高速測(cè)量,支持USB和RS-232通信,抗干擾性能強(qiáng),非常適合工業(yè)、OEM和科研領(lǐng)域應(yīng)用。


典型應(yīng)用

2  化學(xué)發(fā)光、光致發(fā)光、顯微熒光等熒光測(cè)量

2  化學(xué)分析、在線原位紫外吸收光譜測(cè)量

2  顏色測(cè)量、薄膜測(cè)量

2  太陽(yáng)輻射、氙燈、氘燈、汞燈等輻射發(fā)光測(cè)量

2  透反射、光纖傳感測(cè)量

2  薄膜太陽(yáng)能電池分析、工業(yè)光譜過(guò)程控制



主要技術(shù)數(shù)據(jù)

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光譜儀分辨率選擇表

畫板 2-50.jpg

備注:特定波長(zhǎng)范圍可以按用戶要求定制

光柵分辨率選型表

畫板 3-50.jpg


典型案例

2  拉曼光譜測(cè)量

拉曼測(cè)量系統(tǒng)主要由光譜儀、激光器、拉曼探頭、拉曼識(shí)別光譜分析軟件等組成,拉曼散射主要為斯托克斯和反斯托克斯,斯托克斯拉曼散射通常要比反斯托克斯散射強(qiáng)得多,拉曼光譜儀通常測(cè)定的大多是斯托克斯散射,常用拉曼光譜儀有532/785/1064拉曼光譜儀,拉曼測(cè)量相對(duì)熒光信號(hào)會(huì)更弱一個(gè)數(shù)量級(jí),通常我們?cè)卺槍?duì)微弱拉曼信號(hào)測(cè)量我們要進(jìn)行表面拉曼增強(qiáng)(SERS)的方法來(lái)提高拉曼信號(hào)SERS。

萊森光學(xué)的光纖光譜儀因其的靈敏度和高信噪比的特點(diǎn),可以搭配激光器、拉曼探頭等配件,進(jìn)行對(duì)微弱光譜信號(hào)的拉曼測(cè)量應(yīng)用,廣泛應(yīng)用于食品安全、化學(xué)實(shí)驗(yàn)室、生物及醫(yī)學(xué)等光學(xué)方面領(lǐng)域,研究物質(zhì)成分的判定與確認(rèn);還可以應(yīng)用于刑偵中對(duì)的檢測(cè)及珠寶行業(yè)的寶石鑒定。


2  顏色測(cè)量

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2  輻射測(cè)量

輻射光能量可以量化為輻射通量,即一種表征從光源發(fā)出的每秒輻射能量(W)的度量標(biāo)準(zhǔn)。輻射測(cè)量一般要通過(guò)已知光譜能量分布的標(biāo)準(zhǔn)光源,對(duì)光譜儀系統(tǒng)進(jìn)行輻射標(biāo)定,才能通過(guò)量化參數(shù)進(jìn)行輻射測(cè)量。輻射能量與人眼視覺(jué)相關(guān)聯(lián)(光度學(xué)),就可以得到按照CIE中所定義的表征觀測(cè)者平均視覺(jué)的光譜發(fā)光效率函數(shù)。因此輻射測(cè)量定義輻射度學(xué)參數(shù)、光度學(xué)參數(shù)、色度學(xué)參數(shù)。輻射度學(xué)參數(shù)主要以輻照度μW/cm2、輻亮度µWatt/sr、輻射通量µWatt以及光子數(shù)µMol/s/m2,µMol/m2,µMol/s和µMol光度學(xué)參數(shù)流明Lumens、光照度Lux、光強(qiáng)度Candela,色度學(xué)參數(shù)X,Y,Z,x,y,z,u,v,色溫、CRI顯色指數(shù)等      

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l輻照度測(cè)量


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lLED顏色測(cè)量

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2吸光度測(cè)量

光譜儀測(cè)量吸光度的方法是將某一波長(zhǎng)的平行光通過(guò)一塊平面平行物體,對(duì)透過(guò)物體的光束進(jìn)行檢測(cè)。由于一部分能量被樣品中的分子吸收,檢測(cè)的入射光的強(qiáng)度要高于透過(guò)樣品的光強(qiáng)。吸光度被廣泛運(yùn)用于液體和氣體的光譜測(cè)量技術(shù)中,可以對(duì)物質(zhì)進(jìn)行定量鑒別或指紋認(rèn)證等,還可以將該應(yīng)用集成到工業(yè)應(yīng)用環(huán)境和客戶所關(guān)注的測(cè)試中。

使用萊森光學(xué)模塊化光譜儀,可針對(duì)特定的吸光度測(cè)量來(lái)選擇不同波長(zhǎng)范圍和分辨率的光譜儀,并且能在實(shí)驗(yàn)室或者現(xiàn)場(chǎng),對(duì)整套光學(xué)測(cè)量裝置進(jìn)行快速配置。可以基于萊森光學(xué)優(yōu)質(zhì)的光譜儀,選擇紫外光源、不同光程氣室、吸收池、特定吸收光路模塊、光纖探頭進(jìn)行靈活易用的搭配,針對(duì)不同的吸光度試驗(yàn)搭配出多種配置選擇。


l液體吸光度

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l氣體吸光度

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2薄膜測(cè)量

薄膜測(cè)量系統(tǒng)是基于白光干涉原理來(lái)確定光學(xué)薄膜的厚度。白光干涉圖樣通過(guò)數(shù)學(xué)函數(shù)被計(jì)算出薄膜厚度。對(duì)于單層膜,若已知薄膜介質(zhì)的n和k值即可計(jì)算出它的物理厚度。測(cè)量的膜層厚度從10 nm到50 um,分辨率可達(dá)1 nm。薄膜測(cè)量應(yīng)用于半導(dǎo)體晶片生產(chǎn)工業(yè),此時(shí)需要監(jiān)控等離子刻蝕和沉積加工過(guò)程。還可用于其它需要測(cè)量在金屬和玻璃基底上鍍制透明膜層的領(lǐng)域,如金屬表面的透明涂層和玻璃襯底。

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2透/反射光譜測(cè)量

隨著工業(yè)的蓬勃發(fā)展,對(duì)材料本身特性的質(zhì)量控制愈加嚴(yán)格,利用光纖光譜儀進(jìn)行快速準(zhǔn)確的透/反射光譜的測(cè)量技術(shù)也日益成熟。透/反射光譜測(cè)量是光譜測(cè)量的基本手段,通常需要使用光譜儀、光源、光纖、測(cè)量支架、標(biāo)準(zhǔn)參比樣品、和測(cè)量軟件等設(shè)備。對(duì)于不同種類的樣品,為了獲取更好的光譜數(shù)據(jù),這兩種基本模式又會(huì)演化為更多的形式。

光纖光譜儀采用光纖光路,解決了光路在儀器集成中的限制。并且萊森光學(xué)的光纖光譜儀具有體積小,穩(wěn)定性高,支持軟件二次開發(fā),配件豐富等特點(diǎn),已經(jīng)成功的廣泛應(yīng)用于玻璃、高分子材料等行業(yè)的測(cè)試。萊森光學(xué)為用戶提供了以光譜儀為核心的光譜測(cè)量設(shè)備,利用這些配置豐富的設(shè)備,即可搭建各種常見的光譜測(cè)量系統(tǒng)。

l反射測(cè)量

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反射測(cè)量(探頭)


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反射測(cè)量(積分球)


l透射測(cè)量

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2熒光光譜測(cè)量

熒光物質(zhì)在特定波長(zhǎng)的輻射能量輻射下,能發(fā)射出具有一定光譜分布的輻射。熒光光譜測(cè)量靈敏度高、選擇性強(qiáng)、樣品用量少、方法簡(jiǎn)便且具備環(huán)保性,具有如上諸多優(yōu)點(diǎn),所以在工程應(yīng)用中有著廣泛的應(yīng)用,如在食品加工過(guò)程中用于食品安全的監(jiān)測(cè)、生物醫(yī)學(xué)中用于病變的熒光診斷、地質(zhì)學(xué)中用于石油礦物勘探、

土壤礦物成分的測(cè)定以及物質(zhì)中微量元素的檢測(cè)等等。

熒光光譜測(cè)量通常需要高靈敏度的光譜儀。對(duì)于大多數(shù)熒光應(yīng)用來(lái)說(shuō),產(chǎn)生的熒光能量只相當(dāng)于激發(fā)光能量的3%左右。熒光的光子能量比激發(fā)光的光子能量小,波長(zhǎng)長(zhǎng),而且一般都是在各個(gè)方向上輻射能量的散射光。萊森光學(xué)光纖光譜儀采用了可更換狹縫、可選擇的波長(zhǎng)范圍和分辨率設(shè)計(jì),使客戶能根據(jù)自己的需求配置自由搭配適合參數(shù)的熒光測(cè)量系統(tǒng)。

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