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  • 全自動(dòng)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
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NPE-4000(ICPA) 全自動(dòng)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

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  • 型號(hào)NPE-4000(
  • 品牌其他品牌
  • 所在地國(guó)外
  • 更新時(shí)間2022-11-09
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限3
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量40
  • 人氣值669
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那諾-馬斯特中國(guó)有限公司成立于2015年4月,是服務(wù)大中華區(qū)(包含中國(guó)大陸,香港,中國(guó)臺(tái)灣和澳門(mén))的客戶,同時(shí)我們?cè)谥袊?guó)大陸設(shè)有專門(mén)的服務(wù)辦公室,提供銷售和售后技術(shù)服務(wù)。


那諾-馬斯特中國(guó)的主要產(chǎn)品包括薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長(zhǎng)設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測(cè)試設(shè)備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國(guó),該公司是法國(guó)那諾-馬斯*限公司于1992年在美國(guó)所創(chuàng)立的全資子公司,是一家國(guó)際前列的缺陷檢測(cè)和高速鍍層測(cè)量的計(jì)量公司。自從1993年開(kāi)始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國(guó)并正式更名。


自2001年Nano-Master開(kāi)始設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)薄膜應(yīng)用方面的設(shè)備,正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋了半導(dǎo)體、MEMS、光電子學(xué)、納米技術(shù)和光伏等。我們的設(shè)備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD,用于InGaN、AlGaN生長(zhǎng)的PA-MOCVD,濺射鍍膜(反應(yīng)濺、共濺 、組合濺),熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā),離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕,原子層沉積,兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時(shí)間內(nèi)Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為國(guó)際薄膜設(shè)備的供應(yīng)商,已售出的幾百套設(shè)備分布于20多個(gè)不同國(guó)家的大學(xué)、研發(fā)中心和國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室。

我們聘用技術(shù)熟練并具有良好教育背景的設(shè)計(jì)和制造工程師、應(yīng)用工程師、服務(wù)工程師、技術(shù)支持人員,使得公司擁有專業(yè)的服務(wù)團(tuán)隊(duì)。作為薄膜工藝的設(shè)備提供商,我們的目標(biāo)是提供高品質(zhì)的服務(wù)并始終維持超高水平的集成度。






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NPE-4000(ICPA)全自動(dòng)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可達(dá)6“ 基片.淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源,樣品臺(tái)通過(guò)RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。可支持加熱和冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵,真空可低至10-7 torr。標(biāo)準(zhǔn)配置含1路惰性氣體、3路活性氣體和4個(gè)MFC。
全自動(dòng)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

NPE-4000(ICPA)全自動(dòng)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述:NANO-MASTER ICPECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, DLC薄膜到z大可達(dá)6直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來(lái)產(chǎn)生等離子,具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì).樣品臺(tái)可以通過(guò)RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵,腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)MFC.帶有*氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求,無(wú)論是等離子強(qiáng)度、均勻度,還是要分別激活某些活性組份,這樣系統(tǒng)可以覆蓋z廣的可能性來(lái)獲得各種沉積參數(shù)。


NPE-4000(ICPA)全自動(dòng)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)應(yīng)用:

  1. 等離子誘導(dǎo)表面改性:就是通常所說(shuō)的用等離子實(shí)現(xiàn)表面改性(如親水性、疏水性等)

  2. 等離子清洗:去除有機(jī)污染物

  3. 等離子聚合:對(duì)材料表面產(chǎn)生聚合反應(yīng)

  4. 沉積二氧化硅、氮化硅、DLC(類金剛石),以及其它薄膜

  5. CNT(碳納米管)和石墨烯的選擇性生長(zhǎng):在需要的位置生長(zhǎng)CNT或石墨烯。

特點(diǎn):

  • 立式ICPECVD系統(tǒng)

  • 不銹鋼或鋁制腔體

  • 極限真空可達(dá)10-7Torr

  • 全自動(dòng)上下載片,帶預(yù)真空鎖

  • ICP離子源

  • 高達(dá)6”(150mm)直徑的樣品臺(tái)

  • RF射頻偏壓樣品臺(tái)

  • 水冷樣品臺(tái)

  • 可加熱到的800 °C樣品臺(tái)

  • 加熱的氣體管路

  • 加熱的液體傳送單元

  • 抗腐蝕的渦輪分子泵組

  • z大可支持到8MFC

  • 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制

  • 菜單驅(qū)動(dòng),4級(jí)密碼訪問(wèn)保護(hù)

  • 完整的安全聯(lián)鎖



關(guān)鍵詞:標(biāo)準(zhǔn)
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