關(guān)鍵詞:金屬薄膜,氮化鋁、壓電薄膜、AlN、Si3N4薄膜、MEMS
TiN薄膜,抗腐蝕硬質(zhì)膜,半導(dǎo)體薄膜,氧化物絕緣層
型號(hào):MP450S, 產(chǎn)地:歐洲 , 應(yīng)用:沉積硬質(zhì)膜,半導(dǎo)體膜,氧化物絕緣層等。
反應(yīng)磁控濺射鍍膜儀是微米納米器件制備的設(shè)備,可用于制備普通金屬薄膜,氮化鋁(AlN)壓電薄膜,Si3N4薄膜,TiN薄膜,抗腐蝕硬質(zhì)膜,半導(dǎo)體薄膜,氧化物絕緣層等,適用于半導(dǎo)體,光電子學(xué),光子學(xué),微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)和微流體技術(shù)等領(lǐng)域。
MP450S 配置 如下:
腔體尺寸:內(nèi)徑450mm、高度400mm,電解拋光不銹鋼腔體
真空系統(tǒng):采用1000l/s分子泵(可選擇低溫泵)+30m3/h機(jī)械泵
配備薄膜真空計(jì)、潘寧真空計(jì)
磁控陰極:2個(gè)3英寸DC/RF磁控陰極,可傾斜35°
與樣品臺(tái)的距離手動(dòng)可調(diào)(8-13cm)
每個(gè)陰極配備一個(gè) 圓柱形擋板,防止污染
每個(gè)陰極配備一個(gè)電氣閥
陰極電源:一個(gè)500W,800V,0.9A, 13.56MHz射頻電源(可以升級(jí)到2kW)
允許共濺射或順序?yàn)R射
反應(yīng)氣路:3條氣路(Ar、N2,、O2),每個(gè)氣路配備MFC
Load Lock(可選):采用Al合金腔體,手動(dòng)樣品傳動(dòng)臂。
采用主腔體粗抽泵抽真空
配帶皮拉尼真空計(jì)
控制系統(tǒng):全自動(dòng)控制,半自動(dòng)和手動(dòng)模式可用
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