GC-9860-5CPDHID氦離子化氣相色譜儀適用于高純氣體、超高純氣體及電子工業(yè)用氣體中痕量雜質(zhì)的檢測(cè)。該產(chǎn)品以GC-9860氣相色譜儀為載體，配備VALCO公司生產(chǎn)的氦離子化（PDHID）檢測(cè)器；采用公司擁有專業(yè)技術(shù)的四閥五柱的中心切割與反吹技術(shù)，其中的所有進(jìn)樣和切換閥均為VALCO公司生產(chǎn)的帶吹掃保護(hù)氣路的六通或十通閥；上述部分與VALCO公司原裝的氦氣純化器、無(wú)死體積取樣閥等部件一起組成一套完整的高純氣體分析解決方案。
高純氣體的分析是一個(gè)復(fù)雜的過(guò)程，不僅需要高靈敏的檢測(cè)器，還要考慮樣品本身的特性及其背景，如吸附、取樣及分析過(guò)程中是否有空氣混入、系統(tǒng)的密閉性、系統(tǒng)的死體積等環(huán)節(jié)，公司總結(jié)了高純氣體分析過(guò)程中的技術(shù)難點(diǎn)，并給出了所有難點(diǎn)的解決措施，使GC-9860-PDHID氦離子化氣相色譜儀成為國(guó)內(nèi)的高純氣體分析系統(tǒng)，很好的完成了氣體中微量雜質(zhì)，特別是ppb級(jí)的雜質(zhì)的分析。
產(chǎn)品的特點(diǎn)與技術(shù)要求:
1.氣體行業(yè)專業(yè)色譜技術(shù)成套解決方案
2.采用VICI公司Valco帶吹掃型十通與六通切換閥控制氣路
3.應(yīng)用氣體分離專用色譜柱分離預(yù)切再分離技術(shù)
4.采用本公司技術(shù)的可分離與嵌入式單體控溫柱爐
5.工藝流程采用多路精密零死體專用閥控制多維色譜分離柱流量
6.分析流程全部采用Valco公司316不銹鋼管路與專用鍍金接頭
7.核心靈敏部件采用Valco公司PDHID脈沖氦離子檢測(cè)器
8.成套專業(yè)化的數(shù)字與全中文反控氣相色譜儀
中心切割與反吹系統(tǒng)
GC-9860-5CPDHID氦離子化氣相色譜儀采用多閥多柱的中心切割與反吹系統(tǒng)，該系統(tǒng)由多個(gè)吹掃型十通閥及多根色譜柱聯(lián)合組成，通過(guò)工作站設(shè)置的時(shí)間程序自動(dòng)控制其進(jìn)樣、切換、切割與反吹等過(guò)程，完成包括高純氮、高純氫、高純氧、
高純氦、高純二氧化碳、高純氬、氪氣、氙氣、氖氣等高純氣體以及硅烷等電子工業(yè)用氣體中痕量雜質(zhì)的檢測(cè)：
VALCO吹掃型十通閥
GC-9860-PDHID氦離子化氣相色譜儀所配備的均為VALCO生產(chǎn)的
經(jīng)特殊加工的色譜柱技術(shù)
杜絕氧吸附
氣體全分析流程：四閥五柱
HP-2氦氣純化器：
可純化氣體：He、Ar、Ne、Kr、Xe、Rn 、NO、NH3、CF4等
殘留濃度：≤10ppb
外置式單氣路恒溫柱箱
◆單氣路,箱爐可獨(dú)立控溫與恒溫;
◆加熱塊與柱爐體采用可分離與嵌入式技術(shù);安裝與拆卸實(shí)用方便;
◆爐體與外箱盒設(shè)計(jì)分體, 安裝色譜柱, 分離與嵌入加熱塊,填裝保溫棉材等都人性化設(shè)計(jì).
VALCO脈沖氦離子檢測(cè)器
◆PDHID是利用氦中穩(wěn)定的，低功率脈沖放電作電離源，使被測(cè)組分電離產(chǎn)生信號(hào)。
PDHID是非放射性檢測(cè)器，對(duì)所有物質(zhì)均有高靈敏度的正響應(yīng)。
◆非放射性檢測(cè)器，使用安全
◆檢測(cè)靈敏度，氣體中雜質(zhì)的最小檢測(cè)濃度達(dá)5ppb
Valco PDHID氦離子化檢測(cè)器對(duì)6種雜質(zhì)的檢測(cè)限（ppb） | ||||||
雜質(zhì)種類 | H2 | O2 | N2 | CO | CH4 | CO2 |
檢測(cè)限 | 5 | 10 | 10 | 25 | 5 | 5 |
色譜分析流程圖
1.9分析過(guò)程
1. 如高純N2通過(guò)程序設(shè)定，樣品通過(guò)閥1定量管定量進(jìn)入預(yù)柱1/8”*2mHayesepQ 1，預(yù)柱很好的把O2中CO2和H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO組分預(yù)分離，待H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO 流出預(yù)柱，自動(dòng)切換閥1。CO2直接通過(guò)閥1放空.
2. 閥3一開(kāi)始是1-4相同，當(dāng)O2從分子篩柱流出后進(jìn)入閥3后，進(jìn)入后面的分析篩，閥3切換，H2、02直接進(jìn)入后面的分子篩繼續(xù)分離，通過(guò)閥4進(jìn)入檢測(cè)器檢測(cè)。此時(shí)閥3處于放空狀態(tài)，放掉大部分的氮?dú)?，?dāng)CH4即將流出前面分子篩，閥3再次切換，CH4與氮?dú)獾幕旌蠚怏w進(jìn)入后面的分子篩繼續(xù)分離，通過(guò)閥4進(jìn)入檢測(cè)器進(jìn)行檢測(cè)。當(dāng)CH4*流出前面分子篩后，閥3再次切割為放空狀態(tài)，繼續(xù)放掉氮?dú)狻?/span>
3. 當(dāng)CO即將流出分子篩，閥3再次切換，CO通過(guò)閥3進(jìn)入后面的分子篩繼續(xù)分離，進(jìn)入檢測(cè)器檢測(cè)。當(dāng)CO從前面分子篩流出后，閥3再次切換，處于放空狀態(tài)。
4. 閥2是用來(lái)分析CO2的，當(dāng)樣品從定量環(huán)中帶入預(yù)柱中，一開(kāi)始閥2是處于放空狀態(tài)，待H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO流出排空后，閥2切換，把CO2反吹進(jìn)檢測(cè)器進(jìn)行分析。
分析譜圖
標(biāo)準(zhǔn)樣品譜圖
高純氫氣樣品譜圖
高純氮?dú)?/span>
高純Ar
