技術規(guī)格
| （1） | 型號 | HMPS-2150S |
| （2） | 電源 | AC380±10% V 三相五線制 50Hz，額定輸入＜25KVA |
| （3） | 微波輸出功率 | 0.5~6kW 連續(xù)可調 |
| （4） | 功率穩(wěn)定度 | ≤±1%（@滿功率） |
| （5） | 紋波 | ≤1% |
| （6） | 微波頻率 | 2450MHz±50MHz |
| （7） | 測溫方式 | 紅外300~1400℃，控制精度±5℃ |
| （8） | 極限真空度 | 6×10-6torr |
| （9） | 腔體內工作壓力 | 7torr~250torr |
| （10） | 自動氣壓控制 | 0.1torr |
| （11） | 等離子放電區(qū)域 | Φ≥100mm |
| （12） | 均勻沉積區(qū)域 | Φ≥80mm |
| （13） | 工作氣氛 | 五路（可用戶定制） |
| （14） | 微波泄漏值 | ＜5mW/cm2 |
| （15） | 工作環(huán)境 | 溫度15~40℃，相對濕度≤60%，無腐蝕性氣體 |
| （16） | 冷卻水 | ＞46L/Min |
- 應用范圍
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適合光學、電子、工具級金剛石膜或單晶、石墨烯等的沉積，材質表面處理、低溫氧化物的生長等。
