技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)品名稱 | 1200℃滑動(dòng)式三溫區(qū)CVD系統(tǒng) | ||
系統(tǒng)型號 | CVD-12IIIH-3Z/G | CVD-12III9H-3Z/G | |
溫度 | 1200℃ | ||
加熱區(qū)長度 | 655mm | 940mm | |
恒溫區(qū)長度 | 500mm | 700mm | |
溫區(qū) | 三溫區(qū) | 三溫區(qū) | |
石英管管徑 | Φ50/Φ60/Φ80 | Φ80/Φ100/Φ120 | |
額定功率 | 4.8Kw | 7.2Kw | |
額定電壓 | 220V | 380V(三相) | |
滑動(dòng)距離 | 507mm | 650mm | |
滑動(dòng)方式 | 自動(dòng)滑動(dòng)/手動(dòng)滑動(dòng) | ||
溫度控制 | 國產(chǎn)程序控溫系統(tǒng)50段程序控溫 | ||
控制精度 | ± 1℃ | ||
爐管工作溫度 | < 1200℃ | ||
氣路法蘭 | 本實(shí)用新型在密封法蘭與管件鏈接的地方采用多環(huán)密封技術(shù),在密封法蘭與管件外壁間形成了密封,在管件外徑誤差較大的情況下密封仍然有效,該密封法蘭的安裝只需在次使用設(shè)備的時(shí)候安裝 | ||
氣體控制方式 | 質(zhì)量流量計(jì) | ||
氣路數(shù)量 | 3路(可根據(jù)具體需要選配氣路數(shù)量) () | ||
流量范圍 | 0-500sccm(標(biāo)準(zhǔn)毫升/分,可選配)氮?dú)鈽?biāo)定 | ||
精度 | ± 1%F.S | ||
響應(yīng)時(shí)間 | ≤ 4sec | ||
工作溫度 | 5-45℃ | ||
工作壓力 | 進(jìn)氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力) | ||
系統(tǒng)連接方式 | 采用KF快速連接波紋管、高真空手動(dòng)擋板閥及數(shù)顯真空測量儀 | ||
規(guī)格 | 中真空 | 高真空 | |
系統(tǒng)真空范圍 | 10pa-100pa | 1×10-3pa-1×10-1pa | |
真空泵 | 雙級機(jī)械泵理論極限真空度3x10-1pa,抽氣速率4L/S, | 真空分子泵理論極限真空度5x10-6pa, | |
出氣口配有油污過濾器,額定電壓220V,功率0.55Kw | 抽氣速率1600L/S額定電壓220V,功率2Kw | ||
爐體外形尺寸 | 360× 815 ×555mm | ||
系統(tǒng)外形尺寸 | 530*1440*750mm | 530*1440*750mm(不含高真空) | |
系統(tǒng)總重量 | 255Kg | 355Kg |
產(chǎn)品用途
此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié),真空淬火退火,快速降溫等工藝實(shí)驗(yàn)。
CVD系統(tǒng)配置
1200度開啟式真空管式爐(可選配多溫區(qū))。
滑動(dòng)系統(tǒng)分為手動(dòng)、電動(dòng)滑動(dòng),并配有風(fēng)冷系統(tǒng)及管內(nèi)測溫系統(tǒng)。
多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)。
真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)。
產(chǎn)品特點(diǎn)
控制電路選用模糊PID程控技術(shù),該技術(shù)控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單。
氣路快速連接法蘭結(jié)構(gòu)采用本公司的知識產(chǎn)權(quán)設(shè)計(jì),提高操作便捷性。
中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動(dòng)控制功能,高真空系統(tǒng)采用高壓強(qiáng),耐沖擊分子泵,防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長系統(tǒng)使用壽命。
(電動(dòng))滑動(dòng)系統(tǒng)采用溫度控制器自動(dòng)控制爐體移動(dòng),等程序完成,爐體按設(shè)定的速度滑動(dòng),印有滑動(dòng)限位功能,爐體不會(huì)發(fā)生碰撞,待樣品露出爐體后,通過風(fēng)冷系統(tǒng)快速降溫。
選配件 產(chǎn)品型號位表示儀表配置(可選配):