XAD是一款上照式全元素光譜分析儀，可測量納米級厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚，也可滿足微區(qū)RoHS檢測及多元素成分分析，*的算法及解譜技術解決了諸多業(yè)界難題。

被廣泛用于各類產品的質量管控、來料檢驗和對生產工藝控制的測量使用。

全自動光譜分析儀 全元素上照式分析儀產品優(yōu)勢：微小樣品檢測：測量面積小至0.008mm2變焦裝置算法：可改變測量距離測量凹凸異形樣品，變焦距離可達0-90mm自主研發(fā)的EFP算法：AI(3)-U(92)元素的成分分析，Li(3)-U(92)元素的涂鍍層檢測，多層多元素，甚至有同種元素在不同層也可準確測量*的解譜技術：減少能量相近元素的干擾，降低檢出限高性能探測器：SDD硅漂移窗口面積20/50mm2探測器X射線裝置：微焦加強型射線管搭配聚焦裝置上照式設計：實現(xiàn)對大型樣品或者密集點位進行快、準、穩(wěn)高效率測量可編程自動位移：選配自動平臺，X210*Y230*Z145mm行程內無人值守自動測量多準直器自動切換

全自動光譜分析儀 全元素上照式分析儀廣泛應用于電鍍行業(yè)、通訊行業(yè)、汽車行業(yè)、五金建材、航空航天、環(huán)保檢測、地質地礦、水暖衛(wèi)浴、精密電子、珠寶首飾和古董、鋰電行業(yè)等多種領域。

多元迭代EFP核心算法

專業(yè)的研發(fā)團隊在Alpha和Fp法的基礎上，計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強效應、散射背景等多元優(yōu)化迭代研發(fā)出EFP核心算法，結合*的光路轉換技術、變焦結構設計及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)，只需要少量的標樣來校正儀器因子，可測試重復鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量。單涂鍍層應用：如Ni/Fe、Ag/Cu等多涂鍍層應用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等合金鍍層應用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等合金成分應用：如NiP/Fe，通過EFP算法，在計算鎳磷鍍層厚度的同時，還可精準分析出鎳磷含量比例。重復鍍層應用：不同層有相同元素，也可準確測量和分析。如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，一層Ni和三層Ni的厚度均可測量。有害元素檢測：RoHS檢測，可滿足鉛（Pb）、汞（Hg）、鎘（Cd）、六價鉻（Cr VI）等有害元素的成分檢測及含量分析