最近，德國LEICA推出了新一代薄膜測厚儀DRM1000以應(yīng)對微電子，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的新高潮。該膜厚儀的*性在于：
--最小光斑可達(dá)1微米
--既使用顯微光譜反射法又能使用白光干涉法進(jìn)行測量半導(dǎo)體薄膜厚度
--德國LEICA的光學(xué)顯微鏡系統(tǒng)
--自動(dòng)建模和海量光譜數(shù)據(jù)
德國LEICA DRM1000 顯微光譜薄膜測厚儀是對薄膜的反射光譜的干涉圖樣進(jìn)行分析來進(jìn)行膜厚測量，最小測量光斑可達(dá)1微米。該系統(tǒng)由德國LEICA DM4M,DM6M等顯微鏡和膜厚測量模塊組成，由于它的快速運(yùn)算，使得它可高重復(fù)率進(jìn)行膜厚的光學(xué)測量以及對膜的相關(guān)計(jì)算。另外，它的新型自動(dòng)建模功能：可為待測的樣品與光譜庫里的數(shù)據(jù)快速的比較，來自動(dòng)建模。是真正適合半導(dǎo)體，液晶等微電子行業(yè)進(jìn)行在線膜厚檢測新型儀器。
LEICA DRM1000膜厚儀還可使用白光干涉和雙光干涉進(jìn)行膜厚測量。
技術(shù)參數(shù)：
測量方法：非接觸式
測量原理：反射光譜法
測量樣本大?。簽?2 inch -300mm
測量范圍：500?~ 20?（Depends on Film Type） 選配干涉測量模塊時(shí)最小30?
光斑尺寸：最小可達(dá)1微米
測量速度：300ms
準(zhǔn)確性： 1nm （典型：400nm Sio2/Si）
精確度： 0.3nm （典型：400nm Sio2/Si）
光譜范圍： 450 – 920nm
應(yīng)用領(lǐng)域：
半導(dǎo)體: Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS + Si, Ge, SiGe...
電解質(zhì): SiO2, TiO2, TaO5, ITO, ZrO2, Si3N4, Photoresist, ARC,...
平板行業(yè)：（包括 LCD, PDP, OLED, ）: a-Si, n+-a-Si, Gate-SiNx MgO, Alq, ITO, PR, CuPc, NPB, PVK, PAF, PEDT-PSS, Oxide, Polyimide...
光學(xué)涂層：: 減反射膜, Color Filters...
太陽能電池 Doping a-Si（i-type, n-type, p-type）, TCO（ZnO, SnO, ITO..）
聚合物: PVA, PET, PP, Dye, Npp, MNA, TAC, PR...
Recordable materials: Photosensitive drum, Video head, Photo masks, Optical disk
