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美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)4008

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2022-04-02
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限1
  • 實名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量185
  • 人氣值1720
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上海繪吉電子科技有限公司主要代理歐、美、日及國內(nèi)*科學(xué)儀器、工業(yè)質(zhì)檢儀器及相關(guān)消耗品,專業(yè)涉及高校、新能源、鋼鐵行業(yè)、科研研究及輕工化工、在國內(nèi)特別是華東地區(qū)具有廣泛的客戶基礎(chǔ)和良好的商業(yè)信譽(yù)。經(jīng)過幾年的發(fā)展,繪吉公司已經(jīng)在同行業(yè)中確立了多方面的好的地位,無論在公司規(guī)模、人員素質(zhì)、經(jīng)營品種、銷售能力和售后服務(wù)等各方面獲得了同行及用戶的廣泛認(rèn)可。 上海繪吉電子科技有限公司從事分析類儀器(熒光光譜儀,質(zhì)譜儀,粒度儀,真空系列等分析類設(shè)備),電池材料制備設(shè)備,實驗室儀器,理化分析類儀器,微生物儀器,生理儀器及實驗室耗材。。
上海繪吉電子科技有限公司從事分析類儀器(熒光光譜儀,質(zhì)譜儀,粒度儀等分析類設(shè)備),德國普發(fā)真空設(shè)備,電池材料制備設(shè)備,實驗室儀器,理化分析類儀器,微生物儀器,生理儀器及實驗室耗材。
上海繪吉-德國普發(fā)真空Pfeiffer Vacuum-作為*的真空技術(shù)解決方案的供應(yīng)商之一。我們不僅擁有全系列的混合軸承及全磁懸浮渦輪分子泵, 同時還擁有各種旋片泵,干泵,羅茨泵,氦氣質(zhì)譜檢漏儀,真空規(guī),四級質(zhì)譜儀等產(chǎn)品以及真空管件和綜合真空系統(tǒng)。 從普發(fā)1958年發(fā)明渦輪分子泵至今, 我們在分析、研發(fā)、鍍膜、太陽能、半導(dǎo)體和其他工業(yè)領(lǐng)域,始終代表著創(chuàng)新的解決方案、高品質(zhì)、穩(wěn)定可靠的產(chǎn)品和的服務(wù)。公司自1890年創(chuàng)立至今百余年,現(xiàn)有將近2300名員工,20多家分公司遍布,并且在德國、法國、羅馬尼亞、韓國設(shè)有生產(chǎn)制造基地。
隨著中國綜合國力的提升,產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)升級,以及對節(jié)能減排,科研和高精尖制造工藝的強(qiáng)烈需求,對真空技術(shù)的需求也在不斷的提升。作為德國 Pfeiffer Vacuum GmbH 的全資子公司,普發(fā)真空技術(shù)上海有限公司 Pfeiffer Vacuum (Shanghai) Co., Ltd. 于 2007 年正式入駐中國上海,標(biāo)志著普發(fā)真空在中國的業(yè)務(wù)已經(jīng)初具規(guī)模,以及公司對中國持續(xù)增長的信心。公司現(xiàn)坐落于上海市浦東新區(qū)世紀(jì)公園附近,并且在江蘇無錫建有 4000m2 的售后服務(wù)工廠。
上海繪吉電子科技有限公司獲得深圳科晶智達(dá)科技有限公司一級代理權(quán),科晶為研究新一代可充電電池,超級電容器與快速儲能材料提供完整的成套解決方案。方案定位于鋰電池的研究市場,主要為大專院校、科研院所以及生產(chǎn)企業(yè)提供實驗室用的小型混壓設(shè)備和機(jī)械加工與測試等一系列產(chǎn)品,提供研發(fā)環(huán)節(jié)所需的電池能源材料制備相關(guān)設(shè)備產(chǎn)品與成套實驗室方案:“混料-燒料-分析-涂層-成型-封裝-測試”設(shè)備:球磨機(jī)、高溫高壓爐、材料分析儀、涂層機(jī)、軋機(jī)、切片機(jī)、封裝機(jī)、電池分析儀等。
上海繪吉電子科技有限公司成功和進(jìn)口公司合作。德國普發(fā)真空設(shè)備,德國布魯克儀器有限公司,*分析儀器有限公司,美國PE公司,美國熱電儀器有限公司,天美科技有限公司,島津,萊卡儀器,日本horriba,梅特勒等進(jìn)口公司

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美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)4008
美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)4008 產(chǎn)品詳情

品牌:恩科優(yōu)(N&Q

型號:NXQ400-8

產(chǎn)地:美國

                                                                         

       恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動和全自動兩大系列。其中,N&Q4000系列光刻機(jī)是以半自動系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性,超高的分辨率,均勻的光學(xué)系統(tǒng),現(xiàn)代*的接近式和接觸式光刻及超高的性價比,使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被全國各地眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用,并成為他們光刻系統(tǒng)的;

二、技術(shù)參數(shù):

1、芯片尺寸:5mm~200mm的圓片/方片和不規(guī)則碎片(支持對不規(guī)則碎片的特殊卡盤設(shè)計);

2、曝光波長:350nm-450nm(其它波長可選配);

3、汞燈功率:350W/500W(其它功率可選配);

4、分辨率:優(yōu)于0.5um

5、曝光模式:支持接近式曝光,各種接觸式(真空接觸、軟接觸、硬接觸等)曝光;

6、出射光強(qiáng)范圍:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm;

7、支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式;

8、曝光時間:0.1~999.9s;

9、對準(zhǔn)精度:雙高清彩色CCD + 雙高清彩色監(jiān)視器,對準(zhǔn)精度可達(dá)到0.4微米內(nèi);

10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜轉(zhuǎn)換器);

11、光強(qiáng)均勻性Uniformity

<±1% over 2 區(qū)域;

<±2% over 4 區(qū)域;

<±3% over 6 區(qū)域;

12、雙面光刻:具備背面紅外對準(zhǔn)(IR BSA)和光學(xué)背面對準(zhǔn)(OBS BSA),雙面對準(zhǔn)精度≤2μm;

13、電源:高靈敏度光強(qiáng)可控電源。

可選型號:

NXQ400-6 

NXQ400-8

NXQ800-6

NXQ8006 Sapphire

NXQ800-8

三、產(chǎn)品特點:

可選支持單面對準(zhǔn)和雙面對準(zhǔn)設(shè)計;

高清晰彩色雙CCD鏡頭采用的分裂視場顯微鏡鏡頭(基于無限遠(yuǎn)修正的CCD鏡頭設(shè)計);雙頭高清全彩物鏡(單視場或分裂視場可供用戶靈活選擇);

高清彩色雙顯示屏;

全新氣動軸承導(dǎo)軌設(shè)計,高精準(zhǔn),低磨損,無需售后維護(hù)的;

具有自動執(zhí)行楔形誤差補(bǔ)償,并在找平后自動定位功能;

操作簡易,具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面;

操控手柄調(diào)控模式的*設(shè)計;

采用LED穿透物鏡照明技術(shù),具有對準(zhǔn)亮度;

采用基于無限遠(yuǎn)修正的顯微鏡鏡頭架構(gòu);

抗衍射反射的高效光學(xué)光路設(shè)計;

帶安全保護(hù)功能的溫度和氣流傳感器;

全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角: <1.84度;

設(shè)備穩(wěn)定性,耐用性超高;

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