alpha300 RA — 在一個系統(tǒng)中結合化學成分分析和納米尺度的結構成像

WITec 完善的alpha300 RA系統(tǒng)是市場上可以將拉曼與原子力高度集成的顯微鏡系統(tǒng)，并不斷設定拉曼-原子力顯微鏡聯(lián)用設備的技術標準。alpha300 RA *的設計理念，使得該聯(lián)用系統(tǒng)既保留alpha300 R系列強大的化學組分分析能力，同時加入納米級別表面形貌等特性的分析能力，為科研工作者能對樣品進行深度分析和了解。

alpha300 RA系統(tǒng)將拉曼和原子力，兩種互補的技術集成在一套系統(tǒng)中，通過一個操作軟件實現(xiàn)應用，而且兩種技術的性能*不受聯(lián)用的影響，易于操作。拉曼和原子力顯微鏡使用不同的顯微鏡物鏡，只需要轉動物鏡塔輪，成像軟件即可實現(xiàn)兩種技術的圖像對比、疊加和分析。

alpha300 RA 還適用于TERS（高分辨率拉曼）AFM測量。

關鍵特性:

· 在一臺顯微鏡上涵蓋alpha300 R（拉曼）和alpha300 A（原子力）的所有功能

· 納米級表面分析（原子力）與原位化學組分成像（拉曼）結合

· 拉曼—原子力同時測量的選擇

· 真正原位：*不需要在測量過程中移動樣品

· 只需轉動物鏡即可實現(xiàn)兩種技術的切換

alpha300 RA應用實例:

多組分高分子混合物，包含了1:1:1比例的聚苯乙烯（PS），充油丁苯橡膠（SRB）和丙烯酸乙基己酯（EHA）的原位拉曼及原子力圖像
拉曼成像(左): 綠色:PS, 紅色:SRB，藍色:EHA

拉曼-原子力聯(lián)用顯微鏡對硅中的應力分析。 左圖：10μm×10μm的原子力表面拓撲結構和深度輪廓圖（底部）。

右圖：顯示硅中應力區(qū)域所對應的拉曼圖像。 級硅線（左）和用藍色（右）標記的橫截面上強度分布的共焦拉曼圖像。

Confocal Raman image of the 1st order Si line (left) and the intensity profile along the cross section marked in blue (right).

alpha300 RA性能指標 :

拉曼操作模式

· 拉曼光譜成像：每個樣品點都能獲取完整的拉曼光譜

· 2D和3D成像模式：平面（x-y方向）和深度掃描（z方向）

· 快速和慢速時間序列

· 單點拉曼光譜采集

· 光纖耦合的UHTS 系列光譜儀，專為弱光應用的拉曼光譜設計

· 共焦熒光顯微鏡

· 明場顯微鏡功能

原子力顯微鏡操作模式

· 接觸模式

· AC 模式（輕敲模式）

· 數(shù)字脈沖力模式 (DPFM)

· 抬高模式

· 磁力顯微鏡(MFM)

· 靜電力顯微鏡 (EFM)

· 相位成像

· 力曲線分析

· 微納操控及微納印刷

· 橫向力模式 (LFM)

· 化學力模式 (CFM)

· 電流傳感模式

· 其他可選

顯微鏡基本指標

· 研究級光學顯微鏡，6孔物鏡轉盤

· 視頻系統(tǒng)：CCD相機

· 高靈敏度b/w相機，可在傳輸過程中觀察樣品和AFM針尖

· LED明場科勒照明

· 電動XYZ樣品臺，25x25x20mm平移范圍

· 主動隔震平臺

拉曼可選/升級選項

· UV-VIS-NIR多種激光可選

· 多種光譜儀可選

· 超快拉曼成像(每秒1300個光譜) 可選

· 自動共聚焦拉曼成像 (25 x 25 mm2; 50 x 50 mm2可選)

· TrueSurface功能

· 自動聚焦功能

· 自動多區(qū)域多點測量

· 可升級落射熒光照明

WITec超高通光量UHTS光譜儀

· 各種波長優(yōu)化的透射式光譜儀可選 (UV, VIS 或 NIR)，專為弱光拉曼光譜設計

· 光纖耦合，高達70%傳輸效率

· 優(yōu)異的成像質量，光譜峰形對稱無畸變

操作電腦

· 操作簡便、儀器的高自動化控制及快速可靠的數(shù)據獲取源自WITec公司強大的軟件處理功能