->->->偏光熔點儀 |
| |
XPF400C型偏光熔點儀 | |
一、儀器的主要用途和特點 XPF400C型透射偏光熔點測定儀是地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、石油化工、化 學(xué)纖維、半導(dǎo)體工業(yè)以及藥品檢驗等部門和相關(guān)高等院校的高分子...等專業(yè)的專業(yè)實驗儀器??晒V大用戶作單偏光觀察,正交偏光觀察,錐光觀察以及顯微攝影,來觀察物體在加熱狀態(tài)下的形變、色變及物體的三態(tài)轉(zhuǎn)化。 本系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于高分子材料、聚合物材料等化工領(lǐng)域,適用于研究物體的結(jié)晶相態(tài)分析、共混相態(tài)分布、粒子分散性及尺寸測量、結(jié)晶動力學(xué)的過程記錄分析、液晶分析、織態(tài)結(jié)構(gòu)分析、熔解狀態(tài)記錄觀察分析等總多研究方向。 偏光顯微熔點測定儀XPF400C系統(tǒng)匯集了光電、模式識別、精密加工、圖象學(xué)、自動控制、模量學(xué)等總多研究領(lǐng)域的當前技術(shù),多年研究開發(fā)的結(jié)果,在國內(nèi)享有.本儀器的具有可擴展性,可以接計算機和數(shù)碼相機。對圖片進行保存、編輯和打印。 二、系統(tǒng)數(shù)字性 | XPF400C型偏光熔點儀系統(tǒng)是將精銳的光學(xué)顯微鏡技術(shù)、*的光電轉(zhuǎn)換技術(shù)、的計算機成像技術(shù)和精密的溫控技術(shù)地結(jié)合在一起而開發(fā)研制成功的一項高科技產(chǎn)品??梢栽谟嬎銠C上很方便地觀察不同溫度下的偏光效果圖像,并對偏光圖譜進行分析,處理,還可輸出或打印偏光圖片。 | | | | |
三、儀器的主要技術(shù)指標 | 1.顯微鏡技術(shù)參數(shù): 名稱 | 規(guī)格 | 總放大倍數(shù): | 40X---630X | 無應(yīng)力消色差物鏡 | 4X/0.1 | 10X/0.25 | 25X/0.40 | 40X/0.65 彈簧 | 63X/0.85 彈簧 | 目鏡 | 10X 十字目鏡 | 10X 分劃目鏡 | 試片 | 石膏 1λ 試片 | 云母 1/4λ 試片 | 石英楔子試片 | 測微尺 | 0.01mm | 濾色片 | 藍色 | 帶座目鏡網(wǎng)絡(luò)尺 | | 移動尺 | 移動范圍 30mm×40mm | 鏡筒 | 三目觀察 | 2.熔點儀技術(shù)參數(shù): 熱臺組成 | 性能 | 顯微精密控溫儀 | 在 20倍物鏡下工作溫度可達到300 ℃ 、溫度運行程序全自動控制;溫度程序段由用戶自行設(shè)定, 30段溫度編程,循環(huán)操作,能準確反映設(shè)定溫度、爐芯溫度、樣品的實際溫度。每段設(shè)定起始溫度,及在該段內(nèi)可維持時間,升溫速率可調(diào)、精度 ± 0.3 ℃、記憶點讀數(shù) | 顯微加熱平臺 | 可以隨載物臺移動、工作區(qū)加熱面積大、透光區(qū)域可調(diào)、工作區(qū)溫度梯度低于± 0.1 *起始溫度室溫 *工作區(qū)加熱使用面積至少 1X1厘米 *工作區(qū)溫度梯度不超過 ± 0.1 *透光區(qū)域 2mm以上,可調(diào) *顯示溫度與實際溫度誤差不超過 ± 0.2 *熱臺可以隨載物臺移動 在加熱狀態(tài)下可使用 20倍物鏡 | 注意: 熔點測定(溫度超過100度時,25X的物鏡工作距離 太近,容易損壞鏡頭,請選用長工作距離的物鏡25X、40X的物鏡) | | |
四、系統(tǒng)組成 |
1、偏光顯微鏡 2、適配鏡 3、攝像器(CCD) 4、采集卡 5、計算機(選配) |
五、選購件: 1、150萬像素成像器 2、偏光顯微鏡分析軟件 3、100X無應(yīng)力消色差物鏡(帶浸油1瓶) |
|