綜述
德國斯派克新一代SPECTROLAB 是高性能與靈活性的結合。*的優(yōu)化光學系統(tǒng)由光電管和CCD雙光學系統(tǒng)合二為一，這是邁向全新概念金屬分析儀。新技術不但提高了分析性能，簡化了操作程序，更重要是大大擴展了靈活性。新一代SPECTROLAB 秉承了前一代的成功之處，賦予更多革命性創(chuàng)新。幾乎所有部件擁有了新的生命，其中很多是全新的發(fā)明。這些對分析性能至關重要的部件組群包括激發(fā)光源、光學系統(tǒng)和讀出系統(tǒng)。新技術組群量子躍遷般的發(fā)展進步，相互優(yōu)化匹配使得同時具備*分析性能和極大靈活性的 SPECTROLAB 成為無以匹敵的直讀光譜儀。新一代SPECTROLAB 設定了樣品分析的新標準：分析時間更短，火花臺清理維護更少。全新的硬件診斷功能，實時可視監(jiān)控硬件運行情況。 特點
配備技術自循環(huán)凈化裝置（UV-PLUS）的光學系統(tǒng)
SPECTROLAB的光學系統(tǒng)集合了傳統(tǒng)光電管光學系統(tǒng)和CCD全譜光學系統(tǒng)的所有優(yōu)點。采用優(yōu)化帕邢—龍格原理的“半殼”鑄造鋁框架技術提供了超常堅固的機械結構，同時減小了內部容積。為減少外部環(huán)境的影響，光學系統(tǒng)內部恒溫恒壓。
主光學系統(tǒng)內部包括兩個獨立的光譜模塊—光電管光學部分和CCD光學部分，各自配備一個原級全息光柵。第三光學系統(tǒng)是一個獨立的空氣光學系統(tǒng)，將波長范圍擴展到780 nm。的自循環(huán)凈化系統(tǒng)（UV-PLUS）用于測量紫外波段（UV）和遠紫外波段（VUV）光譜。嚴格密封的光學室內部充以氬氣，無需復雜的技術可以實現(xiàn)紫外及遠紫外光在光學系統(tǒng)內不被吸收。分子薄膜泵驅動氬氣在光學系統(tǒng)內部和凈化裝置中循環(huán)?？梢员苊獠捎谜婵障到y(tǒng)產生的油蒸氣污染或流動沖氣系統(tǒng)帶來的外部污染。保持潔凈的光學系統(tǒng)和優(yōu)秀的長期穩(wěn)定性表現(xiàn)。UV-PLUS的優(yōu)點是大大降低了運行成本，并且在120-180nm的遠紫外光譜波段提供了出色的光學表現(xiàn)。
*的光學系統(tǒng)結構和的UV-PLUS技術，使得創(chuàng)新的SPECTROLAB光學系統(tǒng)能夠記錄120-780 nm波段的所有的一級相關光譜信息，CCD光學系統(tǒng)的光譜分辨率達到 9 皮米。
等離子發(fā)生器激發(fā)光源
研發(fā)的SPECTRO高效等離子發(fā)生器激發(fā)光源可以提供穩(wěn)定的火花放電。采用全數字信號發(fā)生和激發(fā)過程控制，激發(fā)區(qū)域的等離子能量可以高精度、高保真輸出。由于具備了全新的激發(fā)參數設置以及高純度的信號輸出，激發(fā)光源的精度得以顯著提高。分析精度因此顯著提高，分析周期大大縮短。對于標準應用程序，每次分析時間不超過18秒。
分析性能
根據用戶需求，量身定制。十種標準基體鐵、鋁、銅、鎳、鈷、鎂、鈦、錫、鉛和鋅, 可以與五種貴金屬基體：金、銀、鉑、鈀和釕組合配置。在 CCD 光學系統(tǒng)中可以實現(xiàn)120-780nm 波長范圍內所有元素的全譜記錄。在光電管光學系統(tǒng)中最多可以放置 108 個高性能光電備增管通道，每個通道配有微積分器（TRS 功能）和單火花評估（SSE 功能）。由此可以保證每一分析要求得以化滿足。配備現(xiàn)代化的光譜技術和高質量的組成部件，SPECTROLAB 適用于各種分析要求。出眾的分析性能與高度靈活性相結合，能夠勝任諸如：過程控制分析，來料及成品檢驗，研究開發(fā)部門、檢驗檢測機構等各方面分析任務。
讀出系統(tǒng)
全新設計的讀出系統(tǒng)可以同時處理來自光電管檢測器和CCD檢測器的信號。共有22塊（加第三光學系統(tǒng)共37塊）CCD檢測器，每個CCD包括3800 像素，類似全譜波長掃描，測量后大量數據結果可以集中顯示。這為材料研究（如未知材料判定，新合金配方等）提供了全新的分析手段。日常分析過程基于選定的光譜線，只有元素的信號被采集。這可以實現(xiàn)瞬時信號的實時采集。分析結果可以取自整個測量過程中某一時序的瞬時信號測定。根據應用要求，某些光譜線采用光電倍增管測量。光電流由微積分器處理，可以實現(xiàn)微秒級測量，每一單個火花放電過程可進行100次以上的步進測量，每個光電管通道的光譜峰值由步進過程描跡而成。實現(xiàn)這些步進過程測量以后，就可以根據需要定義測量“窗口”為其中某一時段動態(tài)范圍或信背比時段（痕量火花分析技術SAFT）,用以分析微量元素。相對于傳統(tǒng)的積分測量技術，現(xiàn)在可以測量每一單個火花的放電信號，而不是將千百次火花放電的總信號量積分成一個總量。由此實現(xiàn)剔除因樣品中夾雜物或氣造成的“失敗”放電信號。SSE單火花評價技術可以顯著提高分析性能?？梢园凑辗治鲆蠓謩e獨立定義每一光電管通道的SAFT和SSE功能，也可以在一個分析周期內多次定義。這一靈活性可以在最短的分析時間內獲得分析結果。
火花臺
火花臺光路直接耦合到光學系統(tǒng)。第三光學系統(tǒng)通過光導纖維連接到火花臺?；鸹ㄅ_內部空間減少，配合優(yōu)化的氬氣流向，使得氬氣消耗量在減小的同時有效驅除激發(fā)粉塵。尾氣進入雙過濾系統(tǒng)除塵?；鸹ㄅ_的維護和雙過濾系統(tǒng)的維護工作量很低。樣品夾可以左右移動，并配有安全回路?？梢赃m應快速更換樣品，廣泛適用于各種樣品外形?？梢赃x購樣品夾具分析諸如小試樣、線材樣品或薄片樣品。
樣品分析
SPECTROLAB的人性化設計大大降低了校準和維護工作量，使操作人員的日常工作更容易。每日樣品輸出量也將大大提高。Spark Analyzer Vision 軟件包集成了硬件診斷系統(tǒng)。連續(xù)檢查并將每天的儀器運行狀態(tài)存檔。另外，軟件的界面簡單、直觀，功能豐富，便于和外部計算機交換數據。實現(xiàn)材料牌號鑒定，合格樣品的判定，程序自動查找等功能。集成的SQL數據庫完成豐富的數據管理功能。
軟件
導航條實現(xiàn)點擊進入三個主要功能程序模塊：分析模式、方法建立和參數配置。在測量窗口操作者可以同時看到多次測量值和平均值。使用 Windows 剪貼板功能可以快速輕松地實現(xiàn)將測量結果或其他數據粘貼到不同的窗口界面。 技術配置
多光學系統(tǒng)
·帕邢 -龍格結構
·光柵焦距 750 mm，羅蘭圓
·光學系統(tǒng)恒溫
·分析波長范圍：120-780 nm
·的氬氣自動循環(huán)氣體凈化系統(tǒng)，用于分析小于 200 nm 波長
·光路氬氣沖洗系統(tǒng)
·全息原級光柵 3600，2924 線／毫米
·光柵材料：微晶石英
·色散率
主光學系統(tǒng)
3600 線／毫米光柵，0.37 nm／mm (1級光譜)2924 線／毫米光柵，0.46／0.23 nm／mm(1／2 級光譜)第三光學系統(tǒng) 400 mm 焦距2400 線／毫米光柵，1.04 nm／mm (1級光譜)火花臺
·開放式火花臺，大樣品量輸出
·適于分析多種幾何形狀的樣品
·低氬氣消耗量
·減少分析工作量和維護時間
·易于更換的火花臺蓋板
·熱量吸收裝置，無需水冷卻
·采光快門優(yōu)化觀測角度激發(fā)系統(tǒng)
·全數字等離子發(fā)生器。數字放電參數設定，數字脈沖發(fā)生器，數字離線脈沖控制
·32 MHz 微處理器控制
·采樣速率：200 微秒 400 次
·能量分辨率：125 毫瓦
·最長單次火花放電時間：4000 微秒
·火花功率：4千瓦
讀出系統(tǒng)
·光電管和 CCD 系統(tǒng)平行運行
·平行 12 Bit 模數轉換器，每個信道1 MHz
·系統(tǒng)和操作過程自動診斷
軟件
·基于 Windows 系統(tǒng)的用戶友好界面
·以 SQL 數據庫自動存儲分析結果和統(tǒng)計數據
·可用樣品的檢測技術 (SATEUS)，自動檢測出預激發(fā)過程中有缺陷的樣品
·自調整預激發(fā)技術 (SERPS)， 自動優(yōu)化預激發(fā)時間，直至消除樣品缺陷
·測量可靠的檢測技術 (SETEME)，可自動檢測出分析過程中的有缺陷的樣品
·硬件故障自動診斷 (可視系統(tǒng)和維護診斷)微機控制系統(tǒng)
·外置計算機控制
·Windows 操作系統(tǒng)
·鍵盤和鼠標
·打印機
儀器尺寸
·1674× 771× 1409 毫米 (長× 寬× 高)
重量
·重約 520 kg (不包括附屬設備)
電源要求
·230 VAC -15％／+10％，50 HZ
·待機功率 0.5 kVA
·激發(fā)功率 1.0 kVA
·16 A 慢熔保險
