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  • 真空紫外光譜儀

H30_UVL_VUV 真空紫外光譜儀

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號H30_UVL_VUV
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時(shí)間2022-03-02
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限1
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量38
  • 人氣值179
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H30-UVL是一款FUV遠(yuǎn)紫外單色儀,其一般采用出口狹縫分光模式或者CCD探測器平場攝譜模式下工作
真空紫外光譜儀 產(chǎn)品詳情

H30-UVL是一款FUV遠(yuǎn)紫外單色儀,其一般采用出口狹縫分光模式或者CCD探測器平場攝譜模式下工作。其采用非常緊湊和*的光學(xué)設(shè)計(jì),基于*的單一全息像差校正環(huán)形光柵,可以獲得了非常好的圖像質(zhì)量和*的光通量。


H30-UVL 是基于EUV到UV波段范圍特別設(shè)計(jì)的一款工作在真空環(huán)境之中單色儀,其可以匹配狹縫-狹縫或者狹縫-CCD進(jìn)行工作。


 H30-UVL是采用全息變間距VLS技術(shù)的單個(gè)環(huán)形像差校正光柵的單色儀。 其在光學(xué)設(shè)計(jì)方面采用優(yōu)化它的光軸以及大的出口平面上的所有方向(25x10毫米校正平面),使其實(shí)現(xiàn)理想的一英寸陣列,從而很好地優(yōu)化了雜散光。同時(shí),采用單一光柵布局具可以將儀器中的光學(xué)數(shù)量減少到最小,增加其在EUV和FUV區(qū)域的光通量。




技術(shù)參數(shù)

                                                               




光學(xué)結(jié)構(gòu)

Toroidal Grating Type IV VLS single optic

焦距長度

300 mm

數(shù)字孔徑

f/6

光柵密度

1200 gr/mm : 50-300 nm

光學(xué)鍍膜

MgF2 optimized at 121 nm standard or Pt option

光學(xué)入射角

70°

線色散

2.3 nm/mm at 50 nm

驅(qū)動(dòng)方式

Fast worm drive

最小步距

better than 0.2 nm

真空度

5 10-6 mbar (HV version)

5 10-8 mbar (UHV version)

泵法蘭接口

DN63 CF

入口狹縫

Micrometric slits (10 µm to 2 mm)

出口狹縫

Micrometric slits (10 µm to 2 mm) or Adjustable CCD port

入口法蘭

DN40 KF (DN40 CF)

出口法蘭

DN40 KF for slit version (DN40 CF)

DN100CF for CCD version

通訊方式

Built-in USB2, no additional controller

關(guān)鍵詞:單色儀
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