1、技術(shù)參數(shù)：

分光系統(tǒng)：
分光裝置：凹面全息離子刻蝕衍射光柵帕邢--龍格裝置
溫度控制：40±0.1℃
真空系統(tǒng)：直連形旋轉(zhuǎn)真空泵
*光源系統(tǒng)
水平氬氣保護(hù)激發(fā)態(tài)
激發(fā)電壓：500V/300V軟件設(shè)置自動(dòng)轉(zhuǎn)換
激發(fā)頻率：可設(shè)置3種放電頻率，40-500Hz范圍內(nèi)
激發(fā)條件：6種類型
對(duì)電極清洗：每次放電結(jié)束時(shí)自動(dòng)清洗
*測(cè)光系統(tǒng)
光電倍增管檢測(cè)器
*數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)
Windows XP

2、主要特點(diǎn)：雙用涂層測(cè)厚儀

光電發(fā)射光譜儀，鋼鐵專用機(jī)型，可分析碳素鋼、中低合金鋼、不銹鋼、工具鋼及鑄鐵等。島津PDA-5500系列光電光譜分析儀分為PDA-5500Ⅲ/S二個(gè)型號(hào)。其中 PDA-5500Ⅲ廣泛地用于鋁合金行業(yè)，應(yīng)用于冶煉工藝過(guò)程以及機(jī)械加工工藝的管理分析。PDA-5500S廣泛地用于鋼鐵和鑄造行業(yè)，應(yīng)用于冶煉工藝過(guò)程以及機(jī)械加工工藝的管理分析。

*高精度與穩(wěn)定性相結(jié)合，有力的支持品質(zhì)管理分析
*科學(xué)人性化的設(shè)計(jì)，易懂易用
*良好的擴(kuò)展功能，遠(yuǎn)矚
*低使用成本的設(shè)計(jì)，經(jīng)濟(jì)實(shí)用

3、儀器介紹：

1、PDA-5500 S型光電發(fā)射光譜儀，繼承島津光電發(fā)射光譜儀的精華，標(biāo)準(zhǔn)配備島津優(yōu)創(chuàng)的時(shí)間分解PDA（Pulse Distribution Analysis脈沖分布分析）測(cè)光法，可以同時(shí)快速、準(zhǔn)確地分析金屬的元素組成，是金屬質(zhì)量管理分析中應(yīng)用廣泛的分析儀器。

2、可廣泛應(yīng)用于鋼鐵、鑄造、有色、汽車、機(jī)械等眾多行業(yè)，提高對(duì)冶煉工業(yè)和機(jī)械加工工業(yè)的工程管理分析、原材料驗(yàn)收及產(chǎn)品出廠鑒定分析等能力。

3、高精度的儀器PDA測(cè)光法從微量到高含量的元素均可進(jìn)行高精度的分析。高穩(wěn)定性的儀器 采用6毫米電極，自動(dòng)清洗電極的蒸發(fā)物，高精度的恒溫系統(tǒng)**化的激發(fā)條件結(jié)合時(shí)間分解測(cè)光法提高靈敏度。

內(nèi)標(biāo)監(jiān)控法消除因樣品的缺陷而引起的分析誤差。

4、(PDA-5500S)元素的不同狀態(tài)分析法，酸溶鋁(solAL)和酸不溶鋁(insolAL)以及其他元素的不同狀態(tài)的分析。

(PDA-5500S)高穩(wěn)定性的光源裝置，兩種激發(fā)電壓和三種激發(fā)頻率軟件設(shè)置，無(wú)需調(diào)整硬件即可調(diào)用，標(biāo)準(zhǔn)配置五種光源條件，可以組合成三十多種激發(fā)條件，適合各種金屬的分析。5、(PDA-5500Ⅲ)高穩(wěn)定性的光源裝置，標(biāo)準(zhǔn)配置五種光源條件，配備有色金屬專用的激發(fā)光源，三種激發(fā)頻率軟件設(shè)定

6、完善的維修服務(wù)系統(tǒng)和技術(shù)服務(wù)系統(tǒng)，保證儀器的長(zhǎng)期可靠的運(yùn)行。

4、分析范圍：色差儀 分光儀

1、(PDA-5500Ⅲ)鋁合金、鋁硅合金、鋁硅銅合金、鋁銅合金、鋁鋅合金、鋁鎂合金等

2、(PDA-5500S)中底合金鋼、碳素鋼、合金鋼、鑄鐵、合金鑄鐵、球墨鑄鐵、稀土球墨鑄鐵等

5、主要技術(shù)指標(biāo)

1、分光系統(tǒng)：分光裝置 凹面全息離子刻蝕衍射光柵帕邢-龍格裝置 波長(zhǎng)范圍 120～589nm
衍射光柵 凹面光柵曲率半徑：600mm 刻線數(shù)： 2400條/mm

2、光源系統(tǒng)：激發(fā)電壓 500V或300V（軟件設(shè)置自動(dòng)轉(zhuǎn)換） 激發(fā)條件 5種類型激發(fā)頻率 可設(shè)置3種放電頻率（均可在40～500Hz范圍內(nèi)軟件設(shè)置自動(dòng)轉(zhuǎn)換）發(fā)光臺(tái) 水平型氬氣保護(hù)發(fā)光臺(tái) 對(duì)電極清洗每次激發(fā)結(jié)束時(shí)自動(dòng)清洗
3、設(shè)置場(chǎng)所的環(huán)境要求：ROHS檢測(cè)光譜儀

面 積： 大約3×2 m以上 
溫 度： 10℃～30℃每小時(shí)變化<5℃ 
濕 度： 80﹪以下 
參 考： 裝置的發(fā)熱量大約為1100kcal /小時(shí)

氬 氣： 純度需要99.995%以上含氧量<5ppm，分析高硅時(shí)，含氧量<2ppm。

電 源：?jiǎn)蜗啵?nbsp;200V，220V，230V，240V±10﹪50/60Hz 4.0kVA，地線： 單獨(dú)地線<30Ω，干燥地區(qū)建議<10Ω

主機(jī)外型尺寸： W1460 × D540 × H120mm。重量： 約500kg