當一束光入射到薄膜表面時，薄膜上表面和下表面的反射光會發(fā)生干涉，干涉的發(fā)生與薄膜厚度及光學(xué)常數(shù)等有關(guān)，反射光譜薄膜測厚儀就是基于此原理來測量薄膜厚度。

　　反射光譜干涉法是一種非接觸式、無損的、精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù)。

　　測量范圍: 1 nm - 1 mm

　　波長范圍: 200 nm -8000 nm

　　光斑尺寸:2mum -3 um

　　產(chǎn)品特點：

　　a. 的測量精度：0.01nm或0.01%

　　b. 準確度：1nm或0.2%

　　c. 穩(wěn)定性：0.02nm或0.02%

　　d. 強大的軟件材料庫，包含500多種材料的光學(xué)常數(shù)

　　e. 通過Modbus TCP或OPC協(xié)議，與其他設(shè)備聯(lián)用

　　適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等

　　大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)

　　標準配置中包含：

　　1. 主機(光譜儀，光源，電線)

　　2. 反射光纖

　　3. 樣品臺及光纖適配器

　　4. TFCompanion軟件

　　5. 校準套裝

　　6. 測試樣品，200nm晶圓

　　廣泛的應(yīng)用于各種工業(yè)生產(chǎn)及工藝監(jiān)控中：

　　半導(dǎo)體晶圓，薄膜太陽能電池，液晶平板，觸摸屛，光學(xué)鍍膜，聚合物薄膜等

多種型號可選，每個型號對應(yīng)不同的測量范圍：

　測量n和k值，其厚度范圍需在25納米和5微米之間

　　還有其他配置可供選擇

　　提供OEM和客戶定制化服務(wù)

　　保修期1年