KA2000型全譜直讀光譜分析儀流線型全新設(shè)計(jì)的桌面光譜儀，滿足冶煉、金屬制造和機(jī)械加工的用戶要求，采用全電腦控制全數(shù)字火花光源，運(yùn)用CCD檢測技術(shù)及*的真空光室可**測定非金屬元素中C、P、S以及各種合金元素含量，實(shí)現(xiàn)全譜分析。測定結(jié)果精準(zhǔn)，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性優(yōu)良；
KA2000型光譜分析儀配置及特點(diǎn)

1、 采用*設(shè)計(jì)的真空光室可**測定非金屬元素中C、P、S以及各種合金元素含量，測定結(jié)果精準(zhǔn)，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性優(yōu)良。
2、 *的真空光學(xué)室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半。將入射窗與真空室分離使入射窗日常清洗維護(hù)方便快捷。
3、光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描，自動(dòng)光路校準(zhǔn)，確保譜線接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。
4、*的激發(fā)臺(tái)及氬氣氣路設(shè)計(jì)，大大降低了氬氣使用量。靈活的樣品夾設(shè)計(jì)，以滿足客戶現(xiàn)場的各種形狀大小的樣品分析。
5、不增加硬件設(shè)施的情況下，即可實(shí)現(xiàn)多基體分析。相比光電倍增管光譜儀可大大降低客戶使用成本及使用范圍。
6、KA2000型光譜分析儀采用的噴射電極技術(shù)。在激發(fā)狀態(tài)下，電極周圍會(huì)形成氬氣噴射氣流，這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點(diǎn)周圍不會(huì)與外界空氣接觸，提高激發(fā)精度；配上
專用的光譜操作軟件*兼容于windows系統(tǒng)。同時(shí)可以根據(jù)客戶需求配備各種語言版本。軟件操作簡單即使沒有任何光譜儀知識(shí)及操作經(jīng)驗(yàn)的人員只需經(jīng)過簡單的知識(shí)培訓(xùn)即可上手使用。
7、采用高性能FPGA、DSP及ARM處理器，具有超高速數(shù)據(jù)采集分析功能，并能自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、、激發(fā)光源等模塊的運(yùn)行狀況。
8、KA2000型光譜分析儀全數(shù)字化等等離子激發(fā)光源，超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。全數(shù)字激發(fā)脈沖，確保激發(fā)樣品等離子體能量超高分辨率和高穩(wěn)定輸出。滿足各種不同材料的激發(fā)要求。
9、樣品激發(fā)臺(tái)采用銅火花臺(tái)底座，鎢材料電極；銅火花臺(tái)底座為激發(fā)臺(tái)提供較好的散熱及堅(jiān)固等特性，同時(shí)鎢電極使用壽命長，耐高溫等特性也提高了激發(fā)的性能；電極自吹掃功能的設(shè)計(jì)，為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境，也使激發(fā)臺(tái)清潔電極更加容易。

KA2000光譜分析儀分析基體 Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb等
光學(xué)結(jié)構(gòu) 帕邢-龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
波長范圍 160-650nm
焦距 400mm
光柵刻線 3000條/mm
探測器 高性能CCD陣列,每塊CCD 3,648 像素，
CCD像素分辨率 6pm
電極 鎢材噴射電極
分析間隙 樣品臺(tái)分析間隙：4mm
光源類型 全新可調(diào)節(jié)數(shù)字化光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）
激發(fā)頻率 100-1000Hz
*大放電電流 400A
真空系統(tǒng) 真空軟件自動(dòng)控制、監(jiān)測