儀器優(yōu)勢：
的第二代全譜光譜儀技術（數(shù)字化技術替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術）、通道不再受限制 
引進歐洲技術、國內能生產(chǎn)CCD全譜真空型光譜儀的制造商 
基體范圍內通道改變、增加不需費用
可升級為其他基體，無須變動增加硬件 
優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性，同一樣品不同的時間段分析，可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 
體積小、重量輕， 移動安裝方便 
高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性 
節(jié)電、節(jié)材、能耗只是普通光譜儀50%
光譜儀技術參數(shù)
光譜儀光學系統(tǒng)
帕邢-龍格結構，羅蘭圓光學系統(tǒng)
羅蘭圓直徑：350mm
有效波長范圍：130 – 800 nm
探測器：多塊高性能線陣CCD
光室溫度：自動控制恒溫：34℃±0.5℃
像素分辨率：30pm
光柵刻線：3600 l/mm
一級光譜線色散率：1.2 nm/mm
外部入射窗口，方便清洗及更換
的漂移校正功能-得益于自動尋峰功能（精確度達到0.1像素）
的紫外波段靈敏度，得益于全新改良的真空技術
 
數(shù)字等離子發(fā)生器
全數(shù)字等離子火花光源技術
高效得益于緊湊的設計和半導體控制技術
高能預燃技術 (HEPS)
激發(fā)參數(shù)可通過用戶界面由用戶根據(jù)實際需求自定義進行設置
頻率100 – 1000Hz
電流1-80A
調整參數(shù)可能需調整元器件
優(yōu)化的樣品臺
開放式樣品臺設計，滿足大樣品測試要求
3.4mm樣品臺分析間隙
“噴射電極”技術輕松應對小樣品及復雜幾何形狀樣品
低氬氣消耗, 待機時:無須待機流量   
通用可調樣品適配器
不同基體可方便更換相應火花臺
優(yōu)化的雜質排出系統(tǒng)
牢固的銅制樣品臺散熱效果
 
計算機及讀出系統(tǒng)
品牌電腦
處理器：AMD 雙核 64X2 5200+
芯  片：AMD 690G + AMD SB600
內  存：1GB DDR 2
硬  盤：>250 GB
光  驅：DVD
顯示器：19寸液晶顯示器
 
數(shù)據(jù)輸出
數(shù)據(jù)以多種數(shù)據(jù)形式存儲
可接駁各種標準打印設備
數(shù)據(jù)可通過互聯(lián)網(wǎng)遠程發(fā)送傳輸
 
軟件系統(tǒng)
Windows 7操作系統(tǒng)
中文光譜儀操作軟件
可選數(shù)據(jù)維護程序
尺    寸:
落地式  高：1230mm,長：830mm,寬：700mm, 重量：120 kg
臺  式  高： 460mm,長：830mm,寬：700mm, 重量：85 kg
 
電源要求：
AC220 V /50 Hz
功率1500 W (主機800W，真空泵600W，電腦100W)
平均功率1200 W（主機500W，真空泵600W，電腦100W）
待機功率100W
16 A慢熔保險絲
 
氬氣要求：
純氬氣, 99.999%; 氬氣減壓閥（專配減壓閥）
氣壓＞4MPa; 出口儀器氣壓0.5MPa
銅管傳輸