儀器簡(jiǎn)介:
PF200實(shí)用型設(shè)備是我司早期一款經(jīng)典儀器,也是目前擁有用戶(hù)*多的型號(hào).智能化程度較高,中/英文操作軟件在Win XP平臺(tái)下運(yùn)行,可實(shí)現(xiàn)并行處理多個(gè)窗口,方便的模塊化功能,良好的幫助文件。多種分析功能,可做火焰法、氫化物法等多種檢測(cè)。外接打印機(jī)。實(shí)現(xiàn)增益、燈電流、光譜帶寬、波長(zhǎng)自動(dòng)控制、曲線自動(dòng)擬合和非線性校正。光路、機(jī)械電器設(shè)計(jì)新穎精煉。光路、機(jī)械電器設(shè)計(jì)新穎精煉。
適用客戶(hù):
此款設(shè)備是實(shí)用型設(shè)備,適用于預(yù)算不高但對(duì)自動(dòng)化程度有一定要求的用戶(hù).
技術(shù)參數(shù):
1.燈位及切換 :二燈位,手動(dòng)切換與調(diào)節(jié); 2.點(diǎn)火方式:電子槍點(diǎn)火; 3.焦距:270mm (閃耀波長(zhǎng):250mm);4.光柵:1200條/mm(國(guó)產(chǎn)); 5.光管(核心部件光電倍增管):合資; 6.波長(zhǎng)范圍:190-900nm; 7.波長(zhǎng)**度:全波段優(yōu)于±0.5nm 符合國(guó)標(biāo)(國(guó)標(biāo)為±≤0.5nm); 8.波長(zhǎng)重復(fù)性:≤0.3nm 符合國(guó)標(biāo)(國(guó)標(biāo)為≤0.3nm) 9.分辨率:光譜帶寬0.2nm時(shí)分開(kāi)錳279.5nm和279.8nm雙線 谷峰能量比<40%.符合國(guó)標(biāo) ; 10. 基線穩(wěn)定性(Cu): ≤0.004A/30min 優(yōu)于國(guó)標(biāo)(國(guó)標(biāo)為≤0.006A/30min) ;11.特征濃度(Cu): ≤0.05ug/ml/1% 符合國(guó)標(biāo)(國(guó)標(biāo)為≤0.05ug/ml/1%); 12. 檢出限(Cu):≤0.006ug/ml 優(yōu)于國(guó)標(biāo)(國(guó)標(biāo)為≤0.008ug/ml); 13. 精密度RSD(Cu):<0.8%對(duì) 優(yōu)于國(guó)標(biāo)(國(guó)標(biāo)為≤1%); 14.光譜帶寬: 0.2、0.4、1.0 、2.0nm四檔電腦自調(diào) (儀器默認(rèn)0.2nm,通用所有分析元素); 15.儀器操作軟件:內(nèi)置單片機(jī)操作,自動(dòng)計(jì)算測(cè)量結(jié)果,同時(shí)聯(lián)系打印機(jī),將結(jié)果打印出來(lái); 16.濃度計(jì)算方式 :標(biāo)準(zhǔn)曲線法(1~3次曲線),標(biāo)準(zhǔn)加入法.; 17.重復(fù)測(cè)量次數(shù) :1~20次,重復(fù)測(cè)量計(jì)算平均值,自動(dòng)給出標(biāo)準(zhǔn)偏差和相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差
18.結(jié)果打印 :參數(shù)打印,數(shù)據(jù)結(jié)果打印.;19.燃燒器:100mm金屬鈦燃燒器,空冷預(yù)混合型; 20.噴霧器:高效玻璃、全塑、不銹鋼霧化器; 21.霧化室:耐腐蝕材料霧化室; 22.位置調(diào)節(jié):火焰燃燒器*佳高度及前后位置可調(diào),一份鐘點(diǎn)完成火焰/氫化物換裝; 23.保護(hù)功能:具有多種自動(dòng)安全保護(hù)功能,乙炔漏氣報(bào)警、關(guān)閉系統(tǒng); 24.燈電流:僅用3mA燈工作電流,提高分析穩(wěn)定性,同時(shí)使元素?zé)羰褂脡勖?500個(gè)小時(shí)
25.石墨爐:無(wú).; 26.保修時(shí)間:壹年
主機(jī)規(guī)格
電源:AC220V/50Hz 功率:150VA 重量:75kg
體積:1000mm(長(zhǎng))×400mm(寬)×350mm(高)
工作環(huán)境溫度:10~35℃ 工作環(huán)境濕度:≤80%
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