這款高速共焦激光掃描顯微鏡(CLSM),用于精確可靠的三維(3D)測量。通過快速光學掃描模塊和信號處理算法實現(xiàn)了實時共焦顯微圖像,廣泛用于微納尺度的臺階高度測量,寬度測量,長度測量等。廣泛用于半導體晶片、平板產(chǎn)品、MEMS器件、玻璃基板、材料表面等微觀三維結(jié)構(gòu)的測量和檢測。
高速共焦激光掃描顯微鏡特點
-高分辨率無損光學三維測量
-實時共焦成像
-各種光學變焦
-同時亮場和共焦成像
-具有精細自動聚焦的自動增益搜索
-傾斜補償
-簡易分析模式
-精密可靠的高速測高
-通過半透明基板檢查特征
-無樣品制備
-寬范圍檢測的圖像拼接
高速共焦激光掃描顯微鏡應用
這款共焦顯微鏡可以測量微納結(jié)構(gòu)的高度,寬度,角度,面積,體積,比如?
半導體領(lǐng)域:IC圖案、凸起高度、線環(huán)高度,缺陷檢查,CMP工藝
FPD產(chǎn)品:觸摸屏檢查,ITO圖案,LCD列間隔高度
MEMS設備–結(jié)構(gòu)的三維輪廓,表面粗糙度,MEMS圖形
玻璃表面-薄膜太陽能電池,太陽能電池紋理,激光圖形
材料研究-工裝表面檢查,糙度、裂紋分析
高速共焦激光掃描顯微鏡規(guī)格參數(shù)
規(guī)格 | 顯微鏡 | NS-3500 | Remark | ||||
---|---|---|---|---|---|---|---|
控制器 | NS-3500E | ||||||
物鏡倍數(shù) | 10× | 20× | 50× | 100× | 150× | ||
觀察 /測量范圍 | 水平 (H): μm | 1400 | 700 | 280 | 140 | 93 | |
豎直 (V): μm | 1050 | 525 | 210 | 105 | 70 | ||
工作距離: mm | 16.5 | 3.1 | 0.54 | 0.3 | 0.2 | ||
豎直孔徑 (N.A.) | 0.30 | 0.46 | 0.80 | 0.95 | 0.95 | ||
光學放大 | ×1 ~ ×6 | ||||||
總放大 | 178× ~ 26700× | ||||||
觀察/測量的光學系統(tǒng) | 小孔Pinhole共聚焦光學系統(tǒng) | ||||||
高度測量(臺階模式) | 測量掃描范圍 | Fine scan : 100 μm (and/or) Long scan : 7 mm [NS-3800-L] | Note 1 | ||||
Fine scan : 400 μm (and/or) Long scan : 10 mm [NS-3800-D | |||||||
Fine scan : 200 μm (or) Long scan : 10 mm [NS-3800-T] | |||||||
顯示分辨率 | 0.001 μm | ||||||
重復精度 σ | 0.010 μm | Note 2 | |||||
寬度測量 | 顯示分辨率 | 0.001 μm | |||||
重復精度3σ | 0.02 μm | Note 3 | |||||
幀內(nèi)存 | 像素計數(shù) | 1024×768, 1024×384, 1024×192, 1024×96 | |||||
共聚焦圖像圖像 | 12 bit | ||||||
彩色圖像 | 8-bit for RGB each | ||||||
高度測量 | 16 bit | ||||||
幀頻 | 表面掃描 | 20 Hz to 160 Hz | |||||
線掃描 | ~8 kHz | ||||||
自動功能 | 自動聚焦 | ||||||
光束光源 | 波長 | Violet laser, 405 nm | |||||
輸出 | ~2 mW | ||||||
激光光源 | Class 3b | ||||||
激光探測器 | PMT (photomultiplier tube) | ||||||
數(shù)據(jù)處理 | Dedicated PC | ||||||
供電要求 | 供電要求 | 100 to 240 VAC, 50/60 Hz | |||||
電流消耗 | 500 VA max. | ||||||
重量 | 顯微鏡 | Approx. ~ 8 kg | |||||
控制器 | ~8 kg |
- Note 1 :
Fine scan is performed by piezoelectric actuator (PZT).
Dual scan mode by fine and long scanner is available only for single lens type. - Note 2 :
100 times measurement of standard sample (1μm step height) with 100× / 0.95 objective.
- Note 3 :
100 times measurement of standard sample (5μm pitch) with 100× / 0.95 objective.