本儀器包括透射型(WNLO-ID)和反射型(WNLO-RID)雙4f相位成像儀兩款產(chǎn)品。雙4f相位成像測(cè)量?jī)x是本公司自主研發(fā)的新型光學(xué)非線性測(cè)量?jī)x,擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)。該測(cè)量?jī)x適用于從可見光到近紅外波段(特別是光通信波段)的非線性吸收和非線性折射系數(shù)的測(cè)量。該儀器只需單個(gè)脈沖就可以完成介質(zhì)非線性系數(shù)的測(cè)量,通過(guò)對(duì)參考光斑和非線性光斑的分析,就可直接確定材料的非線性折射系數(shù)大小和符號(hào),并同時(shí)測(cè)量材料的非線性吸收系數(shù)。WNLO-ID型雙4f成像儀適用于透明材料光學(xué)非線性的測(cè)量,WNLO-RID型雙4f成像儀適用于不透明介質(zhì)表面以及不透明襯底上薄膜的光學(xué)非線性的測(cè)量。與現(xiàn)有的其他光學(xué)非線性測(cè)量方法相比,該儀器可在激光脈沖的空間分布、時(shí)間分布和能量不穩(wěn)定的情況下實(shí)現(xiàn)材料光學(xué)非線性的精確測(cè)量。該儀器利用自主研發(fā)的控制軟件,操作簡(jiǎn)單方便,并利用圖像及數(shù)據(jù)處理軟件實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)自動(dòng)化采集處理。WNLO-ID&WNLO-RID型雙4f相位成像測(cè)量?jī)x使用非常方便,對(duì)光源要求較低,可滿足高校、科研院所及新材料企業(yè)的新型材料的研發(fā)需求。
【可見光及近紅外波段光學(xué)非線性系數(shù)測(cè)量?jī)x】
1、單脈沖測(cè)量,無(wú)需樣品移動(dòng),特別適用于薄膜光學(xué)非線性的測(cè)量;
測(cè)量示例: