全息光柵通常用于對雜散光的應(yīng)用中。其基底鍍有光敏材料，將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間，使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋，條紋強(qiáng)度按照正弦曲線形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對其照射的光強(qiáng)決定，干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強(qiáng)。然后可以對基底鍍反射膜然后用與復(fù)制刻劃的原始光柵相同的過程用于復(fù)制。
平面全息光柵
全息光柵通常用于對雜散光的應(yīng)用中。其基底鍍有光敏材料，將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間，使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋，條紋強(qiáng)度按照正弦曲線形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對其照射的光強(qiáng)決定，干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強(qiáng)。然后可以對基底鍍反射膜然后用與復(fù)制刻劃的原始光柵相同的過程用于復(fù)制。由于全息光柵刻線形狀以及刻線間距是*一致的，所以產(chǎn)生的雜散光遠(yuǎn)少于刻劃光柵。全息光柵可以采用兩種凹槽輪廓，正弦和閃耀。
| 刻線 | 600~4500Lines/mm |
| 閃耀波長 | 150-1000nm |
| 尺寸公差 | ±0.5mm |
| 材料 | K9 |
| 鍍膜 | 鋁 |
| 類型 | 反射衍射光柵 |
| 編號 | 刻線密度 | 光譜范圍 | 閃耀或峰值波長 | 刻劃面積 |
| （l/mm） | （nm) | （nm） | （H×W mm2） | |
| GH-111 | 1200 | 190-800 | 220 | 64×64 |
| GH-112 | 1800 | 190-1000 | 250 | 64×64 |
| GH-113 | 2400 | 190-800 | 250 | 70×100 |
| GH-114 | 3600 | 170-500 | 190 | 70×100 |
| GH-115 | 4321 | 160-450 | 170 | 58×58 |
