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DM8000型X熒光光譜儀

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  • 更新時(shí)間2021-06-01
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限1
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量44
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上海愛(ài)斯特電子有限公司主要從事各種電子儀器特別是X射線類儀器的生產(chǎn)和開(kāi)發(fā)。公司位于人杰地靈的金山區(qū),在國(guó)家高速公路G1501新農(nóng)出口旁,公司占地12畝,廠房面積7500平方米,固定資產(chǎn)近億元。公司骨干為具有數(shù)十年核子儀器研制經(jīng)驗(yàn)的高級(jí)技術(shù)人員,公司員工80%以上為具有大專以上文化程度的工程技術(shù)人員,具有雄厚的實(shí)力。公司自1992年成立以來(lái)已生產(chǎn)DM系列X熒光鈣鐵分析儀、測(cè)硫儀、鋁硅分析儀、多元素分析儀等一萬(wàn)多臺(tái),用戶遍布全國(guó)各地,全國(guó)有50%以上的水泥廠已使用本公司的分析儀,在銷售數(shù)量上取得了國(guó)內(nèi)外生產(chǎn)X熒光分析儀的企業(yè)從未有過(guò)的輝煌,成為在國(guó)內(nèi)外生產(chǎn)鈣鐵分析儀(X熒光分析儀的一種)Z多的企業(yè)。目前公司涉足建材、冶金、石油、化工、地質(zhì)、礦山、電子電氣、食品機(jī)械、環(huán)境保護(hù)等多個(gè)領(lǐng)域。

點(diǎn)擊展示更多內(nèi)容
是由本公司集數(shù)十年X熒光分析儀的研究經(jīng)驗(yàn),在公司原有的DM系列X熒光鈣鐵分析儀、測(cè)硫儀、鋁硅分析儀、多元素分析儀等的基礎(chǔ)上研制推出的本公司款大型波長(zhǎng)色散X熒光分析儀。它采用波長(zhǎng)色散X射線熒光分析技術(shù)(WDXRF),多道同時(shí)測(cè)量從Na到U的任意十種元素,對(duì)大多數(shù)元素分析的含量可低至ppm高至。具有分析速...
DM8000型X熒光光譜儀 產(chǎn)品詳情


DM2400

MEDXRF輕元素光譜儀


滿足國(guó)Ⅴ、國(guó)VI對(duì)車用汽柴油超低S檢測(cè)要求


超低檢測(cè)限(300s):

Si: 0.7ppmP: 0.4ppm,

S: 0.15ppm,Cl: 0.08ppm


采用

單色激發(fā)能量色散X射線熒光(MEDXRF)分析技術(shù)

高衍射效率對(duì)數(shù)螺線旋轉(zhuǎn)雙曲面(LSDCC)人工晶體

高計(jì)數(shù)率(2Mcps)和分辨率(123eV)SDD探測(cè)器

合理kVmA、靶材組合的微焦斑薄鈹窗X射線管


符合標(biāo)準(zhǔn):

GB/T 11140

ISO20884

ASTM D2622

ASTM D7039

ASTM D7220

ASTM D7757

ASTM D7536

ISO 15597

ASTM D6481


概述

DM2400型單色激發(fā)能量色散X射線熒光輕元素(Si、PS、Cl)光譜儀,簡(jiǎn)稱DM2400MEDXRF輕元素光譜儀,是本公司集數(shù)十年X熒光光譜儀的研究經(jīng)驗(yàn),在公司原有的DM系列X熒光測(cè)硫儀、X熒光多元素分析儀、波長(zhǎng)色散X射線熒光多道光譜儀等的基礎(chǔ)上研制推出的本公司款單色激發(fā)XRF光譜儀。它采用以下技術(shù)和器件,使采用50W光管的能譜儀DM2400具有出色的再現(xiàn)性和穩(wěn)定性,超低檢出限,實(shí)已將現(xiàn)代科技發(fā)揮到。


單色激發(fā)能量色散X射線熒光(MEDXRF)分析技術(shù)

X射線熒光光譜儀的檢出限LODlimit ofdetection)是指由基質(zhì)空白所產(chǎn)生的儀器背景信號(hào)標(biāo)準(zhǔn)偏差的3倍值的相應(yīng)量,即:

1

式中,Rb為背景(本底)計(jì)數(shù)強(qiáng)度,N為已知濃度為C的低濃度試樣的計(jì)數(shù)強(qiáng)度,T為測(cè)量時(shí)間。從式(1)可以看出檢出限與靈敏度(N-Rb/C成反比,與背景Rb的平方根成正比。在測(cè)量時(shí)間一定的情況下要降低檢出限,就必須提高靈敏度和(或)降低背景。

1.MEDXRF分析技術(shù)原理圖


傳統(tǒng)XRF,無(wú)論是EDXRF還是WDXRF,無(wú)法實(shí)現(xiàn)較低檢出限的一個(gè)主要原因是X射線光管出射譜中連續(xù)軔致輻射的散射使得熒光光譜的連續(xù)散射背景較高。

單色激發(fā)能量色散X射線熒光(MonochromaticExcitation Beam Energy Dispersive X-Ray Fluorescence)分析技術(shù),就是采用光學(xué)器件將X射線光管出射譜單色化,進(jìn)而使得熒光光譜的連續(xù)散射背景極大地降低,同時(shí)盡可能少的降低甚至于可能的話增加所需激發(fā)X射線的單色化的線或窄能量帶的強(qiáng)度,從而大大降低了檢出限。相比傳統(tǒng)的EDXRF降低了12個(gè)數(shù)量級(jí),相比大功率(如4kw)的WDXRF也要低得多。

2.樣品的XRF光譜圖


高衍射效率對(duì)數(shù)螺線旋轉(zhuǎn)點(diǎn)對(duì)點(diǎn)聚焦人工單色晶體

X射線光管出射譜單色化的方法很多,有濾波片法,二次靶法和衍射法等。而衍射法中的雙曲面衍射晶體DCCDoublyCurvedCrystals)是單色化和高的。

衍射必須滿足Bragg定律:

nλ=2dsinθ 2

也就是說(shuō)從源出射的射線其波長(zhǎng)必須滿足(2)式才被衍射,所以其具有的單色化。又由于DCC能將點(diǎn)源聚焦,所以有大的收集立體角,從而有*的效率。另外,聚焦還能使照射到樣品的光斑很小,從而使小面積的半導(dǎo)體探測(cè)器Si-PINSDD可以接受大部分樣品較小面中的熒光射線,也就是說(shuō)DCC還提高了探測(cè)效率。

3.實(shí)線為X射線管的出射譜,

紅色為經(jīng)LSDCC單色化的特征X射線入射譜


DCC按其曲面又分為半聚焦(Johann),全聚焦(Johansson)和對(duì)數(shù)螺線(Logarithmic Spiral)等。其中半聚焦只是部分滿足衍射條件,所以經(jīng)半聚焦DCC單色化的特征X射線入射譜是最差的。全聚焦是*衍射條件且是點(diǎn)對(duì)點(diǎn)聚焦的。但全聚焦DCC的制造工藝極其復(fù)雜,除彎曲外它必須有一個(gè)磨成R曲面的過(guò)程,天然晶體如Si,Ge等是很脆的,極不容易磨制,而人工晶體是不可能磨制的,另外天然晶體通常在非常窄的光譜區(qū)域中X射線。導(dǎo)致靶材特征X射線只有一部分被衍射,積分衍射率低。

DM2400采用的對(duì)數(shù)螺線旋轉(zhuǎn)雙曲面人工晶體DM30L,是集本公司技術(shù)精英經(jīng)2年的刻苦專研研制而成的產(chǎn)品。對(duì)數(shù)螺線DCC也是*衍射條件的,雖然聚焦不是點(diǎn)對(duì)點(diǎn)的,而是點(diǎn)對(duì)面的,但由于這個(gè)面很小,一般只有2mm左右,所以可認(rèn)為是點(diǎn)對(duì)點(diǎn)的。它用的是DM人工晶體,該晶體的積分衍射率是天然晶體的310倍,所以該晶體的效率是目前高的。另外,它只需彎曲無(wú)需磨制和拼接,制造方便。

4. LSDCC點(diǎn)對(duì)點(diǎn)聚焦原理圖


高分辨率(123eV)高計(jì)數(shù)率(2Mcps)的SDD探測(cè)器

X射線探測(cè)器的種類有很多,有正比計(jì)數(shù)管,Si-PIN探測(cè)器和硅漂移探測(cè)器SDD等。探測(cè)器的分辨率以峰的半寬度表示,峰的凈計(jì)數(shù)與半寬度無(wú)關(guān),但其背景計(jì)數(shù)與半寬度成正比,所以分辨率越高則檢出限越低。正比計(jì)數(shù)管的半寬度是半導(dǎo)體探測(cè)器的8倍左右,所以檢出限高8的平方根倍左右。Si-PIN的分辨率比SDD的稍差,且其在高計(jì)數(shù)率下分辨率急劇下降,所以SDD是的探測(cè)器。

DM2400采用德國(guó)KETEK公司生產(chǎn)的VITUS H20 CUBE()SDD探測(cè)器,其分辨率小于123eV,有效探測(cè)面積20mm2,計(jì)數(shù)率2Mcps。

5. 硅漂移探測(cè)器SDD


合理kV、mA、靶材組合的微焦斑薄鈹窗X射線管

激發(fā)樣品的X射線能量越接近所需分析元素的吸收限,其激發(fā)效率就越高。DM30L晶體僅衍射X射線管出射譜中的高強(qiáng)度特征X射線,其有靶材發(fā)出。所以合理的選用靶材能得到的激發(fā)效率。DM2400標(biāo)準(zhǔn)型由于可測(cè)量Cl以下的元素,所以選擇Ag作為靶材。

選定靶材后,在X射線光管功率一定的情況下,如50W,合理的光管高壓(kV)和電流(mA)組合能達(dá)到的激發(fā)效率。由于采用點(diǎn)對(duì)點(diǎn)的聚焦,所以必須采用微焦斑的X光管。由于靶材的特征X射線能量很低,所以必須用薄鈹窗X射線管。

DM2400采用50W微焦斑薄鈹窗X射線管,標(biāo)準(zhǔn)型選用Ag靶,并對(duì)kV、mA進(jìn)行合理組合。

6. 微焦斑薄鈹窗X射線管

標(biāo)定

用已知含量的7個(gè)Si、PS、Cl樣品對(duì)儀器進(jìn)行標(biāo)定,得圖7的工作曲線。

7. Si、P、S、Cl樣品工作曲線


這些工作曲線的相關(guān)系數(shù)γ 均大于0.999,表示DM2400光譜儀的線性誤差極小。


準(zhǔn)確度

為了進(jìn)一步測(cè)試分析的準(zhǔn)確性,制備了具有不同硫含量的柴油和輕質(zhì)油的五個(gè)樣品,每個(gè)樣品裝入兩個(gè)不同的樣品杯中進(jìn)行S準(zhǔn)確度試驗(yàn):


2. 用五個(gè)未知樣品測(cè)定S分析的準(zhǔn)確度結(jié)果

樣品

標(biāo)稱值(ppm

1號(hào)樣品杯(ppm

2號(hào)樣品杯(ppm

柴油5

5

4.91

4.82

柴油3

3

3.02

3.05

汽油2

2

2.12

2.00

汽油10

10

10.8

10.2

汽油25

25

24.5

25.2


2示出了獲得的濃度結(jié)果(ppm),以及與標(biāo)稱值的比較。這些結(jié)果表示在低濃度水平下,用DM2400光譜儀可以實(shí)現(xiàn)S的優(yōu)異的準(zhǔn)確度。


精確度

對(duì)三種,每種各裝入七個(gè)不同樣品杯的汽油樣品進(jìn)行S重復(fù)性試驗(yàn):


1. S汽油樣品S分析重復(fù)性測(cè)試數(shù)據(jù)

樣品杯號(hào)

1種樣品(ppm

2種樣品(ppm

3種樣品(ppm

1

1.15

5.31

10.32

2

1.08

4.92

9.89

3

0.90

5.05

10.11

4

0.93

4.78

9.67

5

1.01

4.88

9.51

6

1.03

5.16

9.90

7

0.97

5.26

9.81

平均值

1.01

5.05

9.89

標(biāo)準(zhǔn)偏差

0.086

0.201

0.269

RSD

8.6%

4.00%

2.69%


這些結(jié)果表示在低濃度水平下,用DM2400光譜儀可以實(shí)現(xiàn)S的優(yōu)異的重復(fù)性。


特點(diǎn)

快速同時(shí)所需測(cè)量元素同時(shí)快速分析,一般幾十秒給出含量結(jié)果。

低檢出限采用*MEDXRF技術(shù),LSDCC核心技術(shù),達(dá)檢出限。具*的重現(xiàn)性和再現(xiàn)性。

長(zhǎng)期穩(wěn)定采用可變?cè)鲆鏀?shù)字多道,PHA自動(dòng)調(diào)整、漂移校正、偏差修正等功能具的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

環(huán)保節(jié)能射線防護(hù)達(dá)豁免要求。分析時(shí)不接觸不破壞樣品,無(wú)污染,無(wú)需化學(xué)試劑,也不需要燃燒。

使用方便觸摸屏操作。樣品直接裝入樣品杯,放入儀器后只需按[啟動(dòng)]鍵即可,真正實(shí)現(xiàn)一鍵操作。

高可靠性一體化設(shè)計(jì),集成化程度高,環(huán)境適應(yīng)能力強(qiáng),抗*力強(qiáng),可靠性高

高性價(jià)比無(wú)需鋼瓶氣體,運(yùn)行維護(hù)成本極低。價(jià)格為國(guó)外同類產(chǎn)品的一半。是真正的高性價(jià)比產(chǎn)品。



適用范圍

適用于煉油廠、檢測(cè)及認(rèn)證機(jī)構(gòu)、油庫(kù)、實(shí)驗(yàn)室測(cè)量范圍從0.5ppm10%各種油品(如汽油、柴油、重油、殘?jiān)剂嫌偷?/span>)、添加劑、含添加劑潤(rùn)滑油、以及煉化過(guò)程中的產(chǎn)品。

亦適用于各行各業(yè)任何材料中Cl以下元素的同時(shí)測(cè)量


主要技術(shù)指標(biāo)




注:如用戶認(rèn)為標(biāo)準(zhǔn)型的DM2400不能滿足要求,可向本公司提出,本公司可盡可能滿足用戶的要求。如要求更低的檢測(cè)限,本公司可將晶體從1塊增加到3塊以降低檢測(cè)限為原來(lái)的1/1.73。如要求測(cè)量F以下原子序數(shù)的元素,本公司可為用戶選擇AP3.3入射窗的SDD。如用戶要在高S的基體下測(cè)微量AlSi,本公司可將標(biāo)準(zhǔn)型的Ag靶改為Mo靶,以滿足用戶要求。


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