1. 光學系統(tǒng)
1.1 總體描述
1.1.1 雙光束系統(tǒng),具有背景校正和火焰發(fā)射功能
*1.1.2 非對稱調(diào)制技術(shù)使樣品光束和參比光束的通過時間比為2:1,用于降低噪聲
1.1.3 帶有石英涂層的全反射鏡面系統(tǒng)
1.1.4 全封閉光學系統(tǒng),防塵、防蒸汽
1.2 單色器
1.2.1 總體設(shè)計:Ebert-Fastie設(shè)計,焦距333 mm
*1.2.2 波長范圍175-900 nm
*1.2.3 光柵:1800線/mm刻線密度,雙閃耀波長,1.6倒數(shù)色散系數(shù)
1.2.4 波長選擇:自動波長選擇和自動尋峰
1.2.5 狹縫調(diào)節(jié)
*1.2.5.1 連續(xù)調(diào)節(jié),波譜帶寬范圍0.1-2 nm,調(diào)節(jié)步長0.1 nm
*1.2.5.2 對石墨爐操作,減小的狹縫高度適用于所有的狹縫寬度
1.2.5.3 自動設(shè)定狹縫寬度和高度
1.2.6 波長掃描:具有自動掃描功能
1.3 檢測器:寬范圍光電倍增管
2. 元素燈
2.1 空心陰極燈
*2.1.1 8燈座,帶有自動選燈功能
2.1.2 在兩個平面上自動化,以提高光通量
2.1.3 自動多元素操作,帶有下一只燈自動預(yù)熱功能
2.1.4 可用標準空心陰極燈
2.2 超燈:可選配。
3. 背景校正
*3.1 采用超脈沖背景校正技術(shù),以每秒200次(50 Hz)或240次(60 Hz) 的讀數(shù)頻率,對背景峰進行校正
*3.2 脈沖之間和插入測量之間只有約1 ms的時間間隔,這樣就可以保證的可能測量精度
3.3 高精度氘燈提供175-425 nm的校正范圍,可以校正到2.5 Abs
4. 火焰控制
4.1 總體描述
4.1.1 從存儲的方法條件中自動設(shè)定火焰類型和氣體流量
4.1.2 可編程的點火和關(guān)火順序
4.1.3 自動多元素操作時,自動改變火焰狀態(tài)
4.1.4 可編程設(shè)定分析完成后自動關(guān)火
4.2 安全連鎖裝置
4.2.1 空氣、乙炔和N2O氣體的壓力,燃燒頭是否存在,燃燒頭類型,液封水平,霧化器及泄壓拴是否存在,氧化氣流量,火焰狀態(tài)和主電源
4.2.2 任何失常出現(xiàn),都將導致不能點火或關(guān)掉火焰
4.2.3 屏幕顯示安全連鎖的狀態(tài)
5. 火焰原子化系統(tǒng)
5.1 燃燒頭
5.1.1 全鈦燃燒頭設(shè)計
5.1.2 燃燒頭長度:10 cm
*5.1.3 燃燒頭位置可通過軟件自動調(diào)節(jié)
*5.1.4 可選配燃燒頭旋轉(zhuǎn)功能
5.2 霧化器
5.2.1 帶有惰性固態(tài)聚合物混合室的預(yù)混和設(shè)計
5.2.2 霧化器采用Pt-Ir合金毛細管和惰性的文丘里管,以提高抗酸沖擊的能力
5.2.3 用鎖定機構(gòu)實現(xiàn)可調(diào)節(jié)的樣品提升速率
5.2.4 惰性撞擊球
5.2.5 帶有安全互鎖裝置的霧化器拴和泄壓拴
5.2.6 帶有液面水平互鎖功能的集成式液封
5.3 石墨爐快速拆裝
*5.3.1 具有石墨爐快速拆裝功能,以切換火焰分析和石墨爐分析
6. 保證性能指標
*6.1 靈敏度與精度:使用5 mg/L的Cu溶液,在相同的測量中,同時得到>0.8 abs的靈敏度和RSD<0.45%的精度
*6.2 典型檢出限:Cu的檢出限0.001 ppm
7. 石墨爐系統(tǒng)
7.1 背景扣除方式:氘燈扣背景
*7.2 石墨管加熱方式:縱向加熱
7.3 石墨爐組件
7.3.1 石墨管和平臺,安裝在帶有石英窗的密閉空間內(nèi),通過一條帶有氣路、冷卻水管和電線的塞繩連接到供電電源
7.3.2 具有2路惰性保護氣
7.3.3 溫度范圍:室溫~3000℃
7.3.4 電腦控制的升溫速率:2000℃/s
*7.3.5 無步數(shù)限制的溫度編程,每一步包含升溫和保溫、氣體選擇和讀數(shù)選項
*7.3.6 溫度控制器監(jiān)控電流和電壓,在全溫度范圍內(nèi)、在升溫和保溫階段,使用能量反饋提供精確的控制
7.3.7 對惰性氣體壓力和冷卻水壓力,具有安全互鎖裝置
7.3.8 修正冷卻水的溫度變化
7.3.9 惰性氣體:Ar或N2,壓力70-200 kPa(10-30 psi)
7.3.10冷卻水:流量1-2 L/mim,壓力100-200 kPa(15-30 psi)
7.4 自動進樣器
*7.4.1 可容納40個樣品和10個預(yù)混和的標準樣品(或1個用于多達10個標樣的自動混合溶劑)
7.4.2 樣品容積:2 ml(標樣和樣品用)、5 ml(自動混合標樣用)、10 ml(空白溶液和化學改進劑用)
7.4.3 進樣量:1-100 μl,以1 μl的增量編程設(shè)定
7.4.4 全PTFE材質(zhì)的毛細管
7.4.5 1升清洗液罐
7.4.6 根據(jù)存儲的坐標值,由電腦控制探頭的位置設(shè)定
7.4.7 程序選項包括:標準自動混合,標準添加自動混合,化學調(diào)節(jié)劑自動注射,多樣品注射,自動再標定和*再校準,校驗樣品和添加回收
8. 氫化物發(fā)生器
8.1 總體描述
8.1.1 連續(xù)流動式氫化物和冷蒸汽發(fā)生系統(tǒng),用于ppb水平的As, Sb, Se, Te, Bi, Ge, Sn & Pb的分析
8.1.2 可同時用于冷蒸汽法分析ppb水平的Hg
*8.1.3 由原子吸收供應(yīng)商原廠生產(chǎn),并通過原子吸收操作軟件進行控制
8.2 分析性能
*8.2.1 樣品產(chǎn)率: 60個/小時
*8.2.2 在ppb水平,精度RSD<1%
9. 軟件
9.1 總體描述
9.1.1 基于Windows 7的軟件平臺
9.1.2 可以選擇英文或中文版本
9.1.3 可以控制同一品牌的所有儀器和所有附件
9.2 數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)
9.2.1 提供原子吸收或發(fā)射的分析結(jié)果
9.2.2 吸收的范圍到3.0Abs
9.2.3 測量方式:積分、測量平均值、峰高或峰面積
*9.2.4 多達50次重復(fù)讀數(shù)的平均值和RSD
9.2.5 多達10種標樣的校正曲線
9.2.6 線形小平方法曲線校正
9.2.7 線形小平方法曲線過零校正
9.2.8 精確擬合曲線校正
9.2.9 多項式曲線校正
9.2.10 標準加入或內(nèi)標
9.2.11可以根據(jù)做樣的累計時間或做樣的累計個數(shù),來編程控制什么時候進行單一標樣再計算斜率或做完整的再校準
9.2.12 密碼保護的分析結(jié)果,允許移除不需要的標樣或樣品的讀數(shù)
9.2.13 重量或稀釋劑校正
9.2.14 所有的編輯都可以分析過程中及事后進行
9.3 圖形顯示
9.3.1 高分辨彩色顯示:原子吸收信號、背景信號、石墨爐溫度程序、校正曲線、峰值測量和波長掃描
9.3.2 多種圖形顯示模式,包括重疊非連續(xù)峰
9.3.3 可選的跟蹤吸收標尺
9.3.4 圖形光標可用于從圖形跟蹤中獲取數(shù)字化信息
9.3.5 窗口放大功能可以擴展顯示圖形軌跡
9.4 數(shù)字存儲
9.4.1 所有的數(shù)據(jù)都可以存儲,包括把圖形軌跡和分析結(jié)果鏈接起來
9.4.2 還可以存儲的有:分析方法、樣品標簽、樣品順序、方法順序、重量和稀釋劑、分析報告頁眉和頁腳、校準和分析結(jié)果
9.5 報告生成
9.5.1 報告可以從所有存儲分析結(jié)果中打印,不管是單元素的分析結(jié)果還是合并了不同的測試及使用不同的技術(shù)得到的多元素的分析結(jié)果列表
9.5.2 所有的運行參數(shù)、校準圖形、頁眉頁腳、方法說明、樣品標簽、結(jié)果統(tǒng)計和重量及稀釋因子都可以打印出來
9.5.3 軟件支持多種打印機的類型
9.6 質(zhì)量控制協(xié)議
9.6.1 所有質(zhì)量控制功能都可用,包括校驗樣品、添加回收、質(zhì)量控制上下限、校準修正