一、產(chǎn)品特性:
1、可在同一儀器上實(shí)現(xiàn)多種測(cè)量功能，真正意義上的*摩擦磨損測(cè)試；
2、符合ASTM3702，ASTM G99與ASTM G133等標(biāo)準(zhǔn)；
3、用于高**進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)摩擦系數(shù)曲線；
4、有旋轉(zhuǎn)，線性往復(fù)，環(huán)-塊，環(huán)-環(huán)四種工作模式；
5、采用位置譯碼器與速度譯碼器可**控制馬達(dá)控制速度與位置；
6、可測(cè)量靜摩擦系數(shù)及Stribeck曲線；
7、*大載荷：100N；
8、轉(zhuǎn)度：0.01-5000rpm，15000rpm可選；
9、密封式裝置，可以控制環(huán)境，如：氣體、濕度、潤(rùn)滑等；
10、高溫模式選件，*高可測(cè)1100℃環(huán)境下的摩擦磨損；
11、實(shí)時(shí)接觸電阻測(cè)量選件可提供接觸電阻測(cè)試
12、表面形貌測(cè)試模塊選件用于測(cè)量磨損率,磨損前后二維表面形貌、磨損面積、磨損率、磨損深度、平整度、線粗糙度參數(shù)（Ra，Rp，Rv，Rz，Rc，Rt，Rq，Rsk，Rku，）等表面參數(shù)
13、原位電化學(xué)工作站選件，搭配普林斯頓的電化學(xué)工作站進(jìn)行摩擦腐蝕方向的研究。
14、真空模塊選件，可實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下的摩擦磨損測(cè)試。
15、低溫模塊選件，可實(shí)現(xiàn)低溫-150℃下的摩擦磨損測(cè)試.
二、產(chǎn)品應(yīng)用
半導(dǎo)體技術(shù)： ·鈍化層 ·金屬涂敷 ·焊墊 醫(yī)療: ·藥片 ·植入物 ·生物組織 光學(xué)元件： ·棱鏡 ·光纖 ·光學(xué)元件涂層 ·高容量光存儲(chǔ)： ·磁盤涂層 ·CD涂層 ·薄膜 耐磨材料涂層： ·TiN, TiC, DLC ·切削工具 工程： ·橡膠 ·觸摸屏 ·涂層 微電子器件系統(tǒng) 裝潢金屬涂層 汽車： ·噴漆涂層 ·玻璃印刷層 ·汽車精加工部件
三、技術(shù)參數(shù)
主機(jī)參數(shù)：
參數(shù) 旋轉(zhuǎn)模式 載荷范圍 50mN-100N 載荷分辨率 6μN(yùn) 旋轉(zhuǎn)速度 0.01-5000rpm/0.05-15000rpm *大扭矩 4.4Nm *大摩擦力 +/-100N 摩擦力分辨率（理論） 6μN(yùn) X軸自動(dòng)控制范圍 50mm X軸半徑分辨率 2.5μm 儀器尺寸 65cm×52cm×65cm 重量 約70Kg 盤尺寸 100mm 接觸探頭 可選針型、球形與銷型 線性往復(fù)模式 *大振幅 25mm *大掃描頻率 60Hz@5mm沖程 潤(rùn)滑控制系統(tǒng)（可選） 液體消耗率 60-90cm3/hour 液體容量 120ml 液體容器 包含 高溫測(cè)量系統(tǒng)（可選） 箱體溫度（旋轉(zhuǎn)模式） 1100℃ 加熱片（線掃描模式） 800℃ 液體加熱模式 150 ℃ 分辨率 1℃ 低溫模塊（可選） -40℃/-150℃ 深度傳感器（可選） *大位移量 2000μm 分辨率 0.1nm 接觸電阻（可選） *大阻抗 0-1000 Ohms
表面形貌儀模塊技術(shù)參數(shù)：
NANOVEA公司提供兩種光學(xué)測(cè)量探頭可供用戶選擇： EP110(用于磨損較淺的情況)光學(xué)測(cè)量探頭的技術(shù)參數(shù)如下： 1) Z方向測(cè)量范圍：100μm 2) Z方向測(cè)量分辨率：20nm 3) Z方向測(cè)量精度：50nm 4）橫向光學(xué)分辨率：3μm 5）光斑直徑：6μm 6)工作距離：1mm EP1500(用于磨損較深的情況)光學(xué)測(cè)量探頭的技術(shù)參數(shù)如下： 1) Z方向測(cè)量范圍：1.5mm 2) Z方向測(cè)量分辨率：200nm 3) Z方向測(cè)量精度：300nm 4）橫向光學(xué)分辨率：3.5μm 5）光斑直徑：7μm 6)工作距離：2.3mm
