
世偉洛克是半導體芯片制造應用的技術(shù)和解決方案提供商,同時也是 ALD 閥門技術(shù)的*。我們的 ALD 超高純 (UHP) 閥具有以下特點:
- 高速啟動下的超高循環(huán)壽命
- Cv 范圍從 0.27 至 1.7
- 使用熱動元件時,全浸沒溫度高達 392°F (200°C)
- 適合于采用標準 316L VIM-VAR 不銹鋼閥體的 UHP 應用
- 模塊化表面安裝、卡套管對焊和 VCR® 端接
- 電子或光學執(zhí)行機構(gòu)位置傳感選購件
ALD3 和 ALD6 UHP 隔膜閥
ALD3 和 ALD6 產(chǎn)品目錄
ALD 隔膜閥具有超長的使用壽命、高速的啟動和高達 0.62 的流量系數(shù),與熱執(zhí)行機構(gòu)、位置傳感器和電磁閥配合使用,可在原子層沉積應用場合實現(xiàn)性能。
規(guī)格
工作壓力 | 真空至 145 psig (10.0 bar) |
爆裂壓力 | 3200 psig (220 bar) |
執(zhí)行壓力 | 50 至 90 psig(3.5 至 6.2 bar) |
溫度 | 32° 至 392°F(0° 至 200°C) |
流量系數(shù)(Cv) | 0.27 或 0.62 |
閥體材料 | 316L VIM-VAR 不銹鋼 |
隔膜材料 | 鈷基高溫合金 |
端接 | |
類型(尺寸) | 內(nèi)螺紋 VCR® 面密封接頭(1/4 in. 至 1/2 in.) 外螺紋 VCR 面密封接頭(1/4 in. 至 1/2 in.) 模塊化表面安裝高流量 C 型密封(1.125 in. 至 1.5 in.) |
適用于高流量應用的 ALD20 UHP 閥門
ALD20 產(chǎn)品目錄
ALD20 UHP 閥門是世偉洛克 ALD 產(chǎn)品系列的成員。正在申請的設(shè)計允許利用具有挑戰(zhàn)性的低蒸汽壓前體。ALD20 采用超高純波紋管,因此與其他 ALD 閥相比,可促進清潔操作并具有更高的流量。
此外,ALD20 閥可以*熱浸在氣箱中,并可以從 50°F (10°C) 加熱到 392°F (200°C)。
規(guī)格
工作壓力 | 真空至 20 psig (1.4 bar) |
爆裂壓力 | >3200 psig (220 bar) |
執(zhí)行壓力 | 70 至 90 psig(4.8 至 6.2 bar) |
溫度 | 50° 至 392°F(10° 至 200°C) |
流量系數(shù) (Cv) | 1.2 (MSM) 或 1.7(直通型) |
閥體材料 | 316L VIM-VAR 或合金 22 |
波紋管材料 | 合金 22(5 μin.Ra 表面粗糙度) |
端接 | |
類型(尺寸) | 內(nèi)螺紋 VCR® 接頭 (1/2 in.) 可旋轉(zhuǎn)外螺紋 VCR 接頭 (1/2 in.) 卡套管對焊,長 0.50 in. (1/2 in. x 0.049 in.) 模塊化表面安裝高流量 C 型密封 (1.5 in.) |