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THz晶體,太赫茲晶體-激光器件

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THz晶體,太赫茲晶體-激光器件 產(chǎn)品詳情

THz晶體MolTech(THz crystals)

品牌: 德國(guó)MolTech

關(guān)于德國(guó)Moltech公司:

德國(guó)Moltech公司位于柏林,專注于激光材料,激光介質(zhì),激光晶體,太赫茲晶體,法拉第隔離器的研發(fā)制作。Moltech公司的THz晶體廣泛為中國(guó)的客戶使用和好評(píng)。

一、ZnGeP2晶體

特點(diǎn)和應(yīng)用
ZnGeP2(磷鎵銀)單晶有著大的光學(xué)非線性系數(shù)和*的激光損傷閾值,是用于中紅外和太赫茲波段非常高效的非線性光學(xué)材料。ZGP晶體具有正雙折射效應(yīng),因此它可以用于0.75-12μm波長(zhǎng)范圍的相位匹配頻率轉(zhuǎn)換。可以將1.06mm光與CO2激光混合,實(shí)現(xiàn)到近紅外波段的上轉(zhuǎn)換。

THz晶體THz晶體THz晶體

透過范圍(μm)

0.75 – 12.0

點(diǎn)群

42m

密度(g/cm3)

4.12

摩氏硬度

5.5

反射系數(shù)

 

2.00 μm

no = 3.1490; ne = 3.1889

4.00 μm

no = 3.1223; ne = 3.1608

6.00 μm

no = 3.1101; ne = 3.1480

8.00 μm

no = 3.0961; ne = 3.1350

10.00 μm

no = 3.0788; ne = 3.1183

12.00 μm

no = 3.0552; ne = 3.0949

非線性系數(shù)(pm/V)

d36 = 68.9(10.6μm處),d36 = 75.0(9.6μm處)

損傷閾值(MW/cm2)

60 (10.6μm,150ns)

二、GaSe晶體

THz晶體

特點(diǎn)和應(yīng)用:

GaSe(硒化鎵)具有非線性系數(shù)大,損傷閾值高和透過范圍寬三重優(yōu)勢(shì),是一種非常適合作中紅外光二次諧波的非線性光學(xué)單晶。

GaSe可以用于CO2激光器的倍頻,上轉(zhuǎn)換CO和CO2激光射線到可見范圍。

GaSe還可以用于太赫茲射線的產(chǎn)生

典型參數(shù):

透過范圍(μm)

0.62 – 20

點(diǎn)群

6m2

密度(g/cm3)

5.03

晶格參數(shù)

a = 3.74, c = 15.89 ?

摩氏硬度

2

反射系數(shù)

 

5.3 μm 處

no= 2.7233, ne= 2.3966

10.6 μm 處

no= 2.6975, ne= 2.3745

非線性系數(shù)(pm/V)

d22 = 54

離散角

4.1°(5.3 μm)

損傷閾值(MW/cm2)

28 (9.3 μm, 150 ns); 0.5 (10.6 μm, in CW mode); 30 (1.064 μm, 10 ns)

三、AgGaS2 ( AGS)晶體

AGS (硫鎵銀) 對(duì)于紅外射線來講,是一種非常高效的倍頻晶體,尤其是10.6μm的CO2激光器, 雖然其非線性系數(shù)很低,但是它在550nm附近非常高的短波透過率在YAG泵浦的OPO有廣泛應(yīng)用,還可應(yīng)用于中紅外波段的混頻系統(tǒng)波長(zhǎng)范圍從4.0到18.3 μm, 通過差頻實(shí)現(xiàn)紅外波段光輸出。

透過范圍(μm)

0.47 - 13

點(diǎn)群

4m2

密度(g/cm3)

5.03

晶格參數(shù)

a = 5.757, c = 10.311 ?

摩氏硬度

3.0 - 3.5

反射系數(shù)

 

5.3 μm

no = 2.4521; ne = 2.3990

3.0 μm

no = 2.4080; ne = 2.3545

5.3 μm

no = 2.3945; ne = 2.3408

10.6 μm

no = 2.3472; ne = 2.2934

12 μm

no = 2.3266; ne = 2.2716

10.6 μm 處

no= 2.6975, ne= 2.3745

非線性系數(shù)(pm/V)

d36 = 12.5

離散角

0.76° at 5.3 μm

四、KTiOPO4(KTP)晶體

KTP(磷酸鈦氧鉀)是一種優(yōu)質(zhì)的非線性晶體,它光學(xué)質(zhì)量高,透過范圍寬,二次諧波轉(zhuǎn)換效率是KDP的三倍以上,損傷閾值高,離散角小。KTP是倍頻Nd:YAG激光器及其它摻釹激光器合適也是應(yīng)用泛的晶體。

應(yīng)用:

l 1.064μm光的二倍頻發(fā)生器

l 近紅外波段的光參振蕩器

l 近紅外波段的差頻發(fā)生器

五、THz晶體-GaAs/GaP/InP/InSb/InP: Fe/InP:Zn/GaAs:Te/GaAs:Zn

產(chǎn)品介紹:其中GaP(磷化鎵)有一個(gè)能發(fā)出可見光的能代間隙,只不過它是間接能帶半導(dǎo)體。當(dāng)它同GaAs結(jié)合形成GaAs1-xPx合金時(shí),就便成了既直接又具有發(fā)光能帶間隙的物質(zhì)了。GaP還可用于制作發(fā)光二極管,它能夠發(fā)出綠光。

InP(磷化銦)主要應(yīng)用于光纖通訊設(shè)備,尤其是半絕緣的InP晶片很可能成為光電二極管的主流產(chǎn)品,應(yīng)用于高速通訊設(shè)備,其傳輸速度能達(dá)到40Gbps。InP還有望用于對(duì)傳輸速度要求更高的下一中。

參數(shù):

材料

InP

InSb

InP: Fe

InP:Zn

GaP

GaAs:Te

GaAs:Zn

GaAs 多晶

阻抗, om.cm

0.03 - 0.2

-

1x106 - 2x107

-

-

-

-

-

直徑

-

-

1,011 - 1,2511

1,011 - 1,2511

-

12,511

1,511

-

軸向

(100), (111)

(100), (111)

(100), (111)

(100), (111)

(100), (111)

-100

-

-

載流子濃度, cm-3

(0.8 - 2.0) x 1015

(8 - 30) x 1013

-

(0.2 - 1.0) x 1018

(4 - 6) x 1016

2 x 1017

1.0 x 1019

2 x 1015

靈敏度, cm2/V.Sec

3500 - 4000

-

-

50 -70

-

4500

-

5200

生長(zhǎng)技術(shù)

-

可參雜

-

-

可參雜

-

Cz

Bridjman

六、THz晶體-ZnTe/ZnS/ZnSe/CdxZn1-xTe/CdS/CdSe/CdTe/CdSSe/ZnCdS

介紹:第二和第六周期元素形成的化合物ZnSe, ZnS, ZnTe, CdSe, CdS, CdTe, CdZnTe , CdSSe等均為寬帶半導(dǎo)體。其中ZnTe,ZnS可利用全固態(tài)可調(diào)諧雙波長(zhǎng)光源在非線性晶體中二階光學(xué)混頻方法產(chǎn)生太赫茲光。CdxZn1-xTe(CZT/碲鋅鎘)半導(dǎo)體單晶是發(fā)展遠(yuǎn)紅外,可見光,X-射線探測(cè)器,γ射線探測(cè)器的重要材料。CZT射線探測(cè)器具有吸收系數(shù)大,結(jié)構(gòu)緊湊,室溫操作等優(yōu)點(diǎn)。而現(xiàn)在工業(yè)和醫(yī)療方面產(chǎn)用的高純Ge和Si的探測(cè)器,只能工作在液氮溫度下。CZT已經(jīng)成為硬X射線和γ射線的一種關(guān)鍵技術(shù)。天文學(xué)方面用CZT陣列去研究宇宙中的高能γ射線源。

材料

ZnS

CdS

ZnSe

ZnSe

ZnxCd1-xS

CdS

CdSe

CdSxSe1-x

CdTe

CdTe

CdZnTe

ZnTe

生成方法

垂直布里奇曼生長(zhǎng)法

PVT

melt

PVT

晶種氣相法

直徑,mm

40

50

80

50

40

厚度,mm

30

10

15

40

30

30

10

30

10

15

光學(xué)吸收at 10,6
nm, cm-1

< 0.15

< 0.007

<0.0015

<0.005

-

0.01

5-10
x10-4

< 0.01

-

阻抗, Ohm x cm

-

105

5-50x109

> 105

1x106

發(fā)光強(qiáng)度比,IEx/Iedge
(Iimp)

-

> 10

-

位錯(cuò)密度, cm-2

-

< 2 x105

< 5 x105

2 x105

< 2 x105

< 2 x104

5 x104

-

1x 104

-

小角邊界密度, cm-1

-

< 40

< 40

70

70

< 20

10

-

3

< 10

發(fā)光光譜的激發(fā)帶波長(zhǎng), nm

-

490 ± 2

690 ± 2

444
± 2

475 ± 5

490
± 2

690
± 2

510 ± 5,
535 ± 10,
560 ± 10,
600 ± 5,
615
+5/-15,
505 ± 5,
625 ± 5

-

七、碲化鋅晶體(ZnTe)

尺寸: 5 x 5 x 0.1 mm-20 x 20 x 10 mm各個(gè)尺寸

晶向:110

表面處理: 拋光、鍍膜、非鍍膜

應(yīng)用:THz探測(cè)、THz產(chǎn)生

主要型號(hào)及尺寸列表:

<110>Orientation SIZE

5 x 5 x 0.2 mm

10 x 10 x 0.2 mm

15 x 15 x 1 mm

20 x 20 x 0.5 mm

5 x 5 x 0.5 mm

10 x 10 x 0.5 mm

15 x 15 x 2 mm

20 x 20 x 0.8 mm

5 x 5 x 1mm

10 x 10 x 1 mm

15 x 15 x 3 mm

20 x 20 x 1 mm

5 x 5 x 2 mm

10 x 10 x 1.5 mm

15 x 15 x 4 mm

20 x 20 x 2 mm

5 x 5 x 3 mm

10 x 10 x 2 mm

15 x 15 x 5 mm

 

5 x 5 x 4 mm

10 x 10 x 3 mm

 

 

5 x 5 x 5 mm

10 x 10 x 4 mm

 

 

 

10 x 10 x 5 mm

 

 

CHIPS - Are normally based upon ZnTe <100> Substrate @ 0.5 - 1 mm thickness onto which is optically glued ZnTe <110> top wafer.

<110> Front Face SIZE RANGE

<110> 300 - 500 um

<110> 100 - 200 um

<110> 40 - 90 um

<110> 20 um

5 x 5 mm

5 x 5 mm

5 x 5 mm

5 x 5 mm

10 x 10 mm

10 x 10 mm

10 x 10 mm

10 x 10 mm

<110> 10 um

 

 

 

5 x 5 mm

10 x 10 mm

Plano – Wedged SIZE RANGE

<110> 20 - 40 um wedge

<110> 20 - 40 um wedge

<110> 20 - 40 um wedge

<110> 20 - 40 um wedge

with 0.5 - 1.0 mm <100> substrate

with 2mm <100> substrate

with 4mm <100>
substrate

with 6mm <100> substrate

5 x 5 mm

5 x 5 mm

5 x 5 mm

5 x 5 mm

10 x 10 mm

 

 

 

注: 還有多種型號(hào)可選,也可以為您量身定做,詳細(xì)的技術(shù)指標(biāo)請(qǐng)向我公司咨詢.

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