THz晶體MolTech(THz crystals)
品牌: 德國(guó)MolTech
關(guān)于德國(guó)Moltech公司:
德國(guó)Moltech公司位于柏林,專注于激光材料,激光介質(zhì),激光晶體,太赫茲晶體,法拉第隔離器的研發(fā)制作。Moltech公司的THz晶體廣泛為中國(guó)的客戶使用和好評(píng)。
一、ZnGeP2晶體
特點(diǎn)和應(yīng)用
ZnGeP2(磷鎵銀)單晶有著大的光學(xué)非線性系數(shù)和*的激光損傷閾值,是用于中紅外和太赫茲波段非常高效的非線性光學(xué)材料。ZGP晶體具有正雙折射效應(yīng),因此它可以用于0.75-12μm波長(zhǎng)范圍的相位匹配頻率轉(zhuǎn)換。可以將1.06mm光與CO2激光混合,實(shí)現(xiàn)到近紅外波段的上轉(zhuǎn)換。
透過范圍(μm) | 0.75 – 12.0 |
| |
點(diǎn)群 | 42m |
| |
密度(g/cm3) | 4.12 |
| |
摩氏硬度 | 5.5 |
| |
反射系數(shù) |
|
| |
2.00 μm | no = 3.1490; ne = 3.1889 |
| |
4.00 μm | no = 3.1223; ne = 3.1608 |
| |
6.00 μm | no = 3.1101; ne = 3.1480 |
| |
8.00 μm | no = 3.0961; ne = 3.1350 |
| |
10.00 μm | no = 3.0788; ne = 3.1183 |
| |
12.00 μm | no = 3.0552; ne = 3.0949 |
| |
非線性系數(shù)(pm/V) | d36 = 68.9(10.6μm處),d36 = 75.0(9.6μm處) |
| |
損傷閾值(MW/cm2) | 60 (10.6μm,150ns) |
| |
二、GaSe晶體
特點(diǎn)和應(yīng)用:
GaSe(硒化鎵)具有非線性系數(shù)大,損傷閾值高和透過范圍寬三重優(yōu)勢(shì),是一種非常適合作中紅外光二次諧波的非線性光學(xué)單晶。
GaSe可以用于CO2激光器的倍頻,上轉(zhuǎn)換CO和CO2激光射線到可見范圍。
GaSe還可以用于太赫茲射線的產(chǎn)生
典型參數(shù):
透過范圍(μm) | 0.62 – 20 |
點(diǎn)群 | 6m2 |
密度(g/cm3) | 5.03 |
晶格參數(shù) | a = 3.74, c = 15.89 ? |
摩氏硬度 | 2 |
反射系數(shù) |
|
5.3 μm 處 | no= 2.7233, ne= 2.3966 |
10.6 μm 處 | no= 2.6975, ne= 2.3745 |
非線性系數(shù)(pm/V) | d22 = 54 |
離散角 | 4.1°(5.3 μm) |
損傷閾值(MW/cm2) | 28 (9.3 μm, 150 ns); 0.5 (10.6 μm, in CW mode); 30 (1.064 μm, 10 ns) |
三、AgGaS2 ( AGS)晶體
AGS (硫鎵銀) 對(duì)于紅外射線來講,是一種非常高效的倍頻晶體,尤其是10.6μm的CO2激光器, 雖然其非線性系數(shù)很低,但是它在550nm附近非常高的短波透過率在YAG泵浦的OPO有廣泛應(yīng)用,還可應(yīng)用于中紅外波段的混頻系統(tǒng)波長(zhǎng)范圍從4.0到18.3 μm, 通過差頻實(shí)現(xiàn)紅外波段光輸出。
透過范圍(μm) | 0.47 - 13 |
點(diǎn)群 | 4m2 |
密度(g/cm3) | 5.03 |
晶格參數(shù) | a = 5.757, c = 10.311 ? |
摩氏硬度 | 3.0 - 3.5 |
反射系數(shù) |
|
5.3 μm | no = 2.4521; ne = 2.3990 |
3.0 μm | no = 2.4080; ne = 2.3545 |
5.3 μm | no = 2.3945; ne = 2.3408 |
10.6 μm | no = 2.3472; ne = 2.2934 |
12 μm | no = 2.3266; ne = 2.2716 |
10.6 μm 處 | no= 2.6975, ne= 2.3745 |
非線性系數(shù)(pm/V) | d36 = 12.5 |
離散角 | 0.76° at 5.3 μm |
四、KTiOPO4(KTP)晶體
KTP(磷酸鈦氧鉀)是一種優(yōu)質(zhì)的非線性晶體,它光學(xué)質(zhì)量高,透過范圍寬,二次諧波轉(zhuǎn)換效率是KDP的三倍以上,損傷閾值高,離散角小。KTP是倍頻Nd:YAG激光器及其它摻釹激光器合適也是應(yīng)用泛的晶體。
應(yīng)用:
l 1.064μm光的二倍頻發(fā)生器
l 近紅外波段的光參振蕩器
l 近紅外波段的差頻發(fā)生器
五、THz晶體-GaAs/GaP/InP/InSb/InP: Fe/InP:Zn/GaAs:Te/GaAs:Zn
產(chǎn)品介紹:其中GaP(磷化鎵)有一個(gè)能發(fā)出可見光的能代間隙,只不過它是間接能帶半導(dǎo)體。當(dāng)它同GaAs結(jié)合形成GaAs1-xPx合金時(shí),就便成了既直接又具有發(fā)光能帶間隙的物質(zhì)了。GaP還可用于制作發(fā)光二極管,它能夠發(fā)出綠光。
InP(磷化銦)主要應(yīng)用于光纖通訊設(shè)備,尤其是半絕緣的InP晶片很可能成為光電二極管的主流產(chǎn)品,應(yīng)用于高速通訊設(shè)備,其傳輸速度能達(dá)到40Gbps。InP還有望用于對(duì)傳輸速度要求更高的下一中。
參數(shù):
材料 | InP | InSb | InP: Fe | InP:Zn | GaP | GaAs:Te | GaAs:Zn | GaAs 多晶 |
阻抗, om.cm | 0.03 - 0.2 | - | 1x106 - 2x107 | - | - | - | - | - |
直徑 | - | - | 1,011 - 1,2511 | 1,011 - 1,2511 | - | 12,511 | 1,511 | - |
軸向 | (100), (111) | (100), (111) | (100), (111) | (100), (111) | (100), (111) | -100 | - | - |
載流子濃度, cm-3 | (0.8 - 2.0) x 1015 | (8 - 30) x 1013 | - | (0.2 - 1.0) x 1018 | (4 - 6) x 1016 | 2 x 1017 | 1.0 x 1019 | 2 x 1015 |
靈敏度, cm2/V.Sec | 3500 - 4000 | - | - | 50 -70 | - | 4500 | - | 5200 |
生長(zhǎng)技術(shù) | - | 可參雜 | - | - | 可參雜 | - | Cz | Bridjman |
六、THz晶體-ZnTe/ZnS/ZnSe/CdxZn1-xTe/CdS/CdSe/CdTe/CdSSe/ZnCdS
介紹:第二和第六周期元素形成的化合物ZnSe, ZnS, ZnTe, CdSe, CdS, CdTe, CdZnTe , CdSSe等均為寬帶半導(dǎo)體。其中ZnTe,ZnS可利用全固態(tài)可調(diào)諧雙波長(zhǎng)光源在非線性晶體中二階光學(xué)混頻方法產(chǎn)生太赫茲光。CdxZn1-xTe(CZT/碲鋅鎘)半導(dǎo)體單晶是發(fā)展遠(yuǎn)紅外,可見光,X-射線探測(cè)器,γ射線探測(cè)器的重要材料。CZT射線探測(cè)器具有吸收系數(shù)大,結(jié)構(gòu)緊湊,室溫操作等優(yōu)點(diǎn)。而現(xiàn)在工業(yè)和醫(yī)療方面產(chǎn)用的高純Ge和Si的探測(cè)器,只能工作在液氮溫度下。CZT已經(jīng)成為硬X射線和γ射線的一種關(guān)鍵技術(shù)。天文學(xué)方面用CZT陣列去研究宇宙中的高能γ射線源。
材料 | ZnS | CdS | ZnSe | ZnSe | ZnxCd1-xS | CdS | CdSe | CdSxSe1-x | CdTe | CdTe | CdZnTe | ZnTe | |
生成方法 | 垂直布里奇曼生長(zhǎng)法 | PVT | melt | PVT | 晶種氣相法 | ||||||||
直徑,mm | 40 | 50 | 80 | 50 | 40 | ||||||||
厚度,mm | 30 | 10 | 15 | 40 | 30 | 30 | 10 | 30 | 10 | 15 | |||
光學(xué)吸收at 10,6 | < 0.15 | < 0.007 | <0.0015 | <0.005 | - | 0.01 | 5-10 | < 0.01 | - | ||||
阻抗, Ohm x cm | - | 105 | 5-50x109 | > 105 | 1x106 | ||||||||
發(fā)光強(qiáng)度比,IEx/Iedge | - | > 10 | - | ||||||||||
位錯(cuò)密度, cm-2 | - | < 2 x105 | < 5 x105 | 2 x105 | < 2 x105 | < 2 x104 | 5 x104 | - | 1x 104 | - | |||
小角邊界密度, cm-1 | - | < 40 | < 40 | 70 | 70 | < 20 | 10 | - | 3 | < 10 | |||
發(fā)光光譜的激發(fā)帶波長(zhǎng), nm | - | 490 ± 2 | 690 ± 2 | 444 | 475 ± 5 | 490 | 690 | 510 ± 5, | - | ||||
七、碲化鋅晶體(ZnTe)
尺寸: 5 x 5 x 0.1 mm-20 x 20 x 10 mm各個(gè)尺寸
晶向:110
表面處理: 拋光、鍍膜、非鍍膜
應(yīng)用:THz探測(cè)、THz產(chǎn)生
主要型號(hào)及尺寸列表:
<110>Orientation SIZE | ||||||
5 x 5 x 0.2 mm | 10 x 10 x 0.2 mm | 15 x 15 x 1 mm | 20 x 20 x 0.5 mm | |||
5 x 5 x 0.5 mm | 10 x 10 x 0.5 mm | 15 x 15 x 2 mm | 20 x 20 x 0.8 mm | |||
5 x 5 x 1mm | 10 x 10 x 1 mm | 15 x 15 x 3 mm | 20 x 20 x 1 mm | |||
5 x 5 x 2 mm | 10 x 10 x 1.5 mm | 15 x 15 x 4 mm | 20 x 20 x 2 mm | |||
5 x 5 x 3 mm | 10 x 10 x 2 mm | 15 x 15 x 5 mm |
| |||
5 x 5 x 4 mm | 10 x 10 x 3 mm |
|
| |||
5 x 5 x 5 mm | 10 x 10 x 4 mm |
|
| |||
| 10 x 10 x 5 mm |
|
| |||
CHIPS - Are normally based upon ZnTe <100> Substrate @ 0.5 - 1 mm thickness onto which is optically glued ZnTe <110> top wafer. | ||||||
<110> Front Face SIZE RANGE | ||||||
<110> 300 - 500 um | <110> 100 - 200 um | <110> 40 - 90 um | <110> 20 um | |||
5 x 5 mm | 5 x 5 mm | 5 x 5 mm | 5 x 5 mm | |||
10 x 10 mm | 10 x 10 mm | 10 x 10 mm | 10 x 10 mm | |||
<110> 10 um |
|
|
| |||
5 x 5 mm | ||||||
10 x 10 mm | ||||||
Plano – Wedged SIZE RANGE | ||||||
<110> 20 - 40 um wedge | <110> 20 - 40 um wedge | <110> 20 - 40 um wedge | <110> 20 - 40 um wedge | |||
with 0.5 - 1.0 mm <100> substrate | with 2mm <100> substrate | with 4mm <100> | with 6mm <100> substrate | |||
5 x 5 mm | 5 x 5 mm | 5 x 5 mm | 5 x 5 mm | |||
10 x 10 mm |
|
|
| |||
注: 還有多種型號(hào)可選,也可以為您量身定做,詳細(xì)的技術(shù)指標(biāo)請(qǐng)向我公司咨詢.