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  • 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀-微波等離子體光譜儀(MPT、MIP)

電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀-微波等離子體光譜儀(MPT、MIP)

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2020-09-03
  • 廠商性質生產廠家
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產品數(shù)量88
  • 人氣值417
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北京華科易通分析儀器有限公司,是電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀的專業(yè)制造廠商。它是集科研、生產、銷售、技術服務于一體的高科技企業(yè)。HK-8100HK-2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀,是我公司在現(xiàn)有技術的基礎上,吸收較早技術成果研制開發(fā)的較早產品。

公司以一批多年積累的技術成果和實力雄厚的科研隊伍為后盾,以其豐富的工作經驗和和完善熱情的服務為保障,竭誠為社會提供高精度、高靈敏度和高穩(wěn)定性的等離子體發(fā)射光譜儀產品。

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簡要描述: 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀作為一種大型精密無機分析儀器,廣泛應用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質、石油、化工、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)普通和元素分析實驗室 ,可對待測樣品進行定性或從超微量到常量的定量分析。是集光、機、電、計算機、分析技術于一體的新技術產品,具有測試速度快、測量范圍寬、分析結果準確可靠等特點。
電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀-微波等離子體光譜儀(MPT、MIP) 產品詳情

北京華科易通分析儀器有限公司,是電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀的專業(yè)制造廠商。它是集科研、生產、銷售、技術服務于一體的高科技企業(yè)。HK-8100型等離子體發(fā)射光譜儀,是我公司在現(xiàn)有技術的基礎上,吸收新技術成果研制開發(fā)的新產品。

電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀作為一個分析儀器應用范圍很廣。它的特點是具有ppb級別的檢測能力,5-6個數(shù)量級的檢測濃度范圍,并且可以批量處理多種元素。隨著ICP的廣泛使用,人們對縮短分析時間和改善復雜基體樣品檢測能力的需求日益增加。

它是集光、機、電、計算機、分析技術于一體的*產品,具有測試速度快、測量范圍寬、分析結果準確、可靠等特點。由于采用了計算機技術,儀器實現(xiàn)了高度智能化,從分析處理到數(shù)據(jù)采集等環(huán)節(jié)都達到了目前國內*水平,是一種十分理想的分析儀器。

公司以一批多年積累的技術成果和實力雄厚的科研隊伍為后盾,以其豐富的工作經驗和和完善熱情的服務為保障,竭誠為社會提供高精度、高靈敏度和高穩(wěn)定性的等離子體發(fā)射光譜儀產品。

1.主要特點

  • 優(yōu)良的光學系統(tǒng),*的控制系統(tǒng):保證定位準確,信背比優(yōu)良;采用進口的關鍵部件:確保儀器的精確度和靈敏度;
  • 極小的基體效應:99%的試樣不用分離基體;
  • 測量范圍寬:超微量到常量的分析;
  • 良好的測量精度:相對標準偏差RSD≤1.50%;
  • 穩(wěn)定性:相對標準偏差RSD≤2.00% ;
  • 分析速度快:每分鐘元素順序掃描zui快達25個以上;
  • 分析元素之多:可分析72種金屬元素和部分非金屬元素;
  • 可做定性或定量分析;
  • 便捷的分析軟件:基于Windows XP平臺下的第三代中文版或英文版操作軟件,使操作更加簡便容易,軟件無需安裝可直接使用,數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)提供多種功能,對輸出數(shù)據(jù)可任意選擇打印。

2.組成及工作原理

HK-8100型等離子體發(fā)射光譜儀,是單、多元素順序測量的分析測試儀器。該儀器由掃描分光器、射頻發(fā)生器、試樣引入系統(tǒng)、光電轉換、控制系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)、分析操作軟件組成

等離子體是在三重同心石英炬管中產生。炬管內分別以切向通入氬氣,炬管上部繞有紫銅負載線圈(內通冷卻水)當高頻發(fā)生器產生的高頻電流(工作頻率40.68MHz功率1kW左右)通過線圈時,其周圍產生交變磁場,使少量氬氣電離產生電子和離子,在磁場作用下加速運動與其它中性原子碰撞,產生更多的電子和離子,在炬管內形成渦流,在電火花作用下形成等離子炬(即等離子體),這種等離子體溫度可達8000K以上。待測水溶液經噴霧器形成氣溶膠進入石英炬管中心通道。原子受到外界能量的作用下,使原子電離,即處于激發(fā)態(tài)的原子十分不穩(wěn)定。從較高能級躍遷到基態(tài),將釋放出能量。這種能量是以一定波長的電磁波的形式輻射出去。不同元素產生不同的特征光譜。這些特征光譜通過透鏡射到分光器中的光柵上,分光后的待測元素特征譜線光強,通過計算由步進電機轉動光柵傳動機構,準確定位于出口狹縫處,光電倍增管將該譜線光強轉變?yōu)楣怆娏?,再經電路處理和V/F轉換后,由計算機進行數(shù)據(jù)處理,zui后由打印機打出分析結果。

3.主要技術指標

掃描范圍 :光柵3600條刻線/mm,掃描范圍(190~500)nm

           光柵2400條刻線/mm,掃描范圍(190~800)nm

波長示值誤差:±0.03nm,重復性≤0.005nm。

zui小光譜帶寬:Mn 257.610nm,譜線峰半高寬≤0.008nm。

重復性:相對標準偏差 RSD≤1.50%

穩(wěn)定性:相對標準偏差 RSD≤2.00%

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