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上海伯東代理 KRI 考夫曼離子源 KDC 40

參考價訂貨量

480000

≥1 臺

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號
  • 品牌其他品牌
  • 所在地國外
  • 更新時間2023-01-10
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值3667
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位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會社獨資設立的外商投資企業(yè),公司注冊資金為200萬美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術力量雄厚,保證 100 % 擁有標準的德國Pfeiffer原廠測試設備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓工程師,多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務意識,并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設備對維修后的產(chǎn)品做*性能測試。另外公司還代理美國Brooks  CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源,HVA 高真空閥門。公司一直堅持品質(zhì)*、信譽*的原則,為廣大客戶提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務。到目前為止已先后通過了美國UL安全認證、ISO9001-2000質(zhì)量體系認證、ISO14001-1996環(huán)境體系認證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本,不斷開拓進取的精神,為滿足客戶的需求努力向?qū)I(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團化發(fā)展。

為將國外的高科技產(chǎn)品與中國經(jīng)濟和社會的飛速發(fā)展緊密結合,為促進國內(nèi).貿(mào)易的快速發(fā)展,伯東企業(yè)(上海)有限公司,以高科技推動現(xiàn)代化,以高質(zhì)量服務全中國, 堅持不懈,奮斗不息。伯東公司是一家專業(yè)代理公司,代理上公司的 半導體設備.接插件.電子器件.精密儀器等,公司秉承 改革.創(chuàng)新.求真.發(fā)展的基本原則, 精心構建誠信、互動、共贏的價值體系, 為所有的客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品, 同時,提供全伯東集團網(wǎng)絡支持下的較早.Z快的信息與Z及時周到的服務,伯東公司愿意與世界各地的客戶聯(lián)手合作,共建一個誠信.發(fā)展.共同進步的良好環(huán)境.

 

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產(chǎn)地進口 加工定制
上海伯東代理美國* KRI 考夫曼離子源 KDC 40: 小型低成本直流柵極離子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型離子源升級款. 具有更大的柵極, 更堅固, 可以配置自對準第三層柵極. 離子源 KDC 40 適用于所有的離子工藝, 例如預清洗, 表面改性, 輔助鍍膜, 濺射鍍膜, 離子蝕刻和沉積. 離子源 KDC 40 兼容惰性或活性氣體, 例如氧氣和氮氣. 標準配置下離子能量范圍 1
上海伯東代理 KRI 考夫曼離子源 KDC 40 產(chǎn)品詳情

價格電議

KRI 考夫曼離子源 KDC 40

上海伯東代理美國* KRI 考夫曼

離子源 KDC 40: 小型低成本直流柵極離子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型離子源升級款. 具有更大的柵極, 更堅固, 可以配置自對準第三層柵極. 離子源 KDC 40 適用于所有的離子工藝, 例如預清洗, 表面改性, 輔助鍍膜, 濺射鍍膜, 離子蝕刻和沉積. 離子源 KDC 40 兼容惰性或活性氣體, 例如氧氣和氮氣. 標準配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 120 mA.

KRI 考夫曼離子源 KDC 40 技術參數(shù)

型號

KDC 40

供電

DC magnetic confinement

- 陰極燈絲

1

- 陽極電壓

0-100V DC

電子束

OptiBeam™

- 柵極

, 自對準

-柵極直徑

4 cm

中和器

燈絲

電源控制

KSC 1202

配置

-

- 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament  或LFN 1000

- 架構

移動或快速法蘭

- 高度

6.75'

- 直徑

3.5'

- 離子束

集中

平行

散設

-加工材料

金屬

電介質(zhì)

半導體

-工藝氣體

惰性

活性

混合

-安裝距離

6-18”

- 自動控制

控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架


KRI 考夫曼離子源 KDC 40 應用領域

濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC

輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD

表面改性, 激活 SM

離子濺射沉積和多層結構 IBSD

離子蝕刻 IBE


KRI 考夫曼

離子源 Gridded KDC 系列, 柵極燈絲型離子源, 通過加熱燈絲產(chǎn)生電子, 提供低電流高能量離子束. 離子束可選聚焦,平行, 散設三種方式, KDC 系列離子源適用于離子濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC, 輔助鍍膜 ( 光學鍍膜 ) IBAD, 表面改性, 激活 SM, 離子濺射沉積和多層結構 IBSD, 離子蝕刻 IBE 等.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)

考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源 (離子槍) 中國總代理.

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上海伯東 : 羅先生                              


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